JP2006278846A - 基板加熱装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の基板加熱装置は、真空チャンバと、上記真空チャンバの壁に設けたレーザ光透過窓と、上記真空チャンバの外部に設けた半導体レーザ発振器と、上記半導体レーザ発振器をそのレーザ光軸の回りに回動せしめる回動手段及びまたはレーザ光軸に直交する方向に往復動せしめる往復運動手段と、上記真空チャンバ内に設けた基板保持具とよりなり、上記半導体レーザ発振器より発したレーザ光を上記レーザ光透過窓を介して上記基板保持部に保持した基板に照射せしめ、上記基板を加熱せしめることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
2 チューブ
3 基板加熱処理空間
4 ハロゲンランプ
5 半導体基板出入口扉
6 サセプター
7 回転軸
8 半導体基板
9 回転機構
10 パイロメータ
11 真空シール
12 開口部
13 レーザ光透過窓
14 蓋
15 レーザ発振器ホルダ
16 ベアリング
17 レーザ発振器
18 光学レンズ系
19 モータ
20 ベルト
21 支持棒
22 基板保持具
23 レーザ光の絞り
24 赤外線透過窓
25 放射温度計
26 副室
27 ゲートバルブ
28 試料交換用ポート
29 搬送手段
30 補助排気系
31 スライド機構部
Claims (6)
- 真空チャンバと、上記真空チャンバの壁に設けたレーザ光透過窓と、上記真空チャンバの外部に設けた半導体レーザ発振器と、上記半導体レーザ発振器をそのレーザ光軸の回りに回動せしめる回動手段と、上記真空チャンバ内に設けた基板保持具とよりなり、上記半導体レーザ発振器より発したレーザ光を上記レーザ光透過窓を介して上記基板保持部に保持した基板に照射せしめ、上記基板を加熱せしめることを特徴とする基板加熱装置。
- 真空チャンバと、上記真空チャンバの壁に設けたレーザ光透過窓と、上記真空チャンバの外部に設けた半導体レーザ発振器と、上記半導体レーザ発振器をそのレーザ光軸に直交する方向に往復運動せしめる往復運動手段と、上記真空チャンバ内に設けた基板保持具とよりなり、上記半導体レーザ発振器より発したレーザ光を上記レーザ光透過窓を介して上記基板保持部に保持した基板に照射せしめ、上記基板を加熱せしめることを特徴とする基板加熱装置。
- 真空チャンバと、上記真空チャンバの壁に設けたレーザ光透過窓と、上記真空チャンバの外部に設けた半導体レーザ発振器と、上記半導体レーザ発振器をそのレーザ光軸の回りに回動せしめる回動手段と、上記半導体レーザ発振器をそのレーザ光軸に直交する方向に往復運動せしめる往復運動手段と、上記真空チャンバ内に設けた基板保持具とよりなり、上記半導体レーザ発振器より発したレーザ光を上記レーザ光透過窓を介して上記基板保持部に保持した基板に照射せしめ、上記基板を加熱せしめることを特徴とする基板加熱装置。
- 上記レーザ光透過窓と、上記半導体レーザ発振器を保持するホルダが上記真空チャンバに形成した開口部に着脱自在な、蓋に固定されていることを特徴とする請求項1、2または3記載の基板加熱装置。
- 上記半導体レーザ発振器がレーザダイオードバーを複数積層して形成せしめたことを特徴とする請求項1、2、3または4記載の基板加熱装置。
- 上記真空チャンバがその壁に設けた放射温度計用の赤外線透過窓を更に有することを特徴とする請求項1、2、3、4または5記載の基板加熱装置。
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