JPH08335583A - ウエハ加熱装置 - Google Patents
ウエハ加熱装置Info
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- JPH08335583A JPH08335583A JP16818495A JP16818495A JPH08335583A JP H08335583 A JPH08335583 A JP H08335583A JP 16818495 A JP16818495 A JP 16818495A JP 16818495 A JP16818495 A JP 16818495A JP H08335583 A JPH08335583 A JP H08335583A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハが加熱手段と接触することを防止し
て、ウエハの変形や破損、あるいはウエハの汚染などを
引き起こしたりすることなく、ウエハを均一に加熱する
ことができるようにする。 【構成】 ウエハ１と略対向する加熱面２ａを備えた、
ウエハ１を加熱するための加熱手段２上に、ウエハ１を
スペーサ３によって所定の距離Ｌだけ浮せて支持し、加
熱手段２の加熱面２ａからの輻射熱によりウエハ１を加
熱する。また、スペーサ３の、ウエハ１との接触箇所
を、スペーサ３とウエハ１が実質的に点接触あるいは線
接触するような形状とする。また、スペーサ３に、ウエ
ハ１の位置ずれが生じたときに、ウエハ１の外周部１ａ
と当接して、位置ずれがそれ以上に大きくなることを防
止するガイド部３ｂを設ける。
て、ウエハの変形や破損、あるいはウエハの汚染などを
引き起こしたりすることなく、ウエハを均一に加熱する
ことができるようにする。 【構成】 ウエハ１と略対向する加熱面２ａを備えた、
ウエハ１を加熱するための加熱手段２上に、ウエハ１を
スペーサ３によって所定の距離Ｌだけ浮せて支持し、加
熱手段２の加熱面２ａからの輻射熱によりウエハ１を加
熱する。また、スペーサ３の、ウエハ１との接触箇所
を、スペーサ３とウエハ１が実質的に点接触あるいは線
接触するような形状とする。また、スペーサ３に、ウエ
ハ１の位置ずれが生じたときに、ウエハ１の外周部１ａ
と当接して、位置ずれがそれ以上に大きくなることを防
止するガイド部３ｂを設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、電極形成後の
ウエハをアニールする場合などに用いられるウエハ加熱
装置に関する。
ウエハをアニールする場合などに用いられるウエハ加熱
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、電子部品などの製造に用いられ
るウエハは、その表面に電極を形成した後、アニールを
行うために所定の温度に加熱される場合がある。そし
て、このようなウエハの加熱は、通常、図３(ａ)，(ｂ)
に示すように、ウエハ２１を、加熱手段であるホットプ
レート２２上に直接載置して加熱を行う方法により行わ
れている。
るウエハは、その表面に電極を形成した後、アニールを
行うために所定の温度に加熱される場合がある。そし
て、このようなウエハの加熱は、通常、図３(ａ)，(ｂ)
に示すように、ウエハ２１を、加熱手段であるホットプ
レート２２上に直接載置して加熱を行う方法により行わ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のウ
エハの加熱方法には、以下のような問題点がある。 ウエハが、ＬｉＴａＯ3やＬｉＮｂＯ3などの焦電性を
有する材料からなるものである場合には、その焦電性に
より静電気が発生し、静電吸着力によってウエハがホッ
トプレートに密着するため、ウエハをホットプレートか
ら取り出すことが困難になる。 ホットプレート又はウエハの平面度が不十分である場
合には、静電吸着力によりウエハがホットプレートに吸
着される際にウエハに曲げ応力が生じることになり、こ
の曲げ応力が許容限界を越えると、ウエハの反りや割れ
を引き起こす。なお、ホットプレート又はウエハの平面
度が十分である場合には、このような問題は生じない反
面、上述のように、ウエハがホットプレートに密着して
ウエハをホットプレートから取り出すことが困難にな
る。 ウエハがホットプレートに対していわゆる面接触状態
となるため、ウエハに発生した静電気によりホットプレ
ート上の汚れやごみなどがウエハに吸着され、ウエハの
汚染が生じる。
エハの加熱方法には、以下のような問題点がある。 ウエハが、ＬｉＴａＯ3やＬｉＮｂＯ3などの焦電性を
有する材料からなるものである場合には、その焦電性に
より静電気が発生し、静電吸着力によってウエハがホッ
トプレートに密着するため、ウエハをホットプレートか
ら取り出すことが困難になる。 ホットプレート又はウエハの平面度が不十分である場
合には、静電吸着力によりウエハがホットプレートに吸
着される際にウエハに曲げ応力が生じることになり、こ
の曲げ応力が許容限界を越えると、ウエハの反りや割れ
を引き起こす。なお、ホットプレート又はウエハの平面
度が十分である場合には、このような問題は生じない反
面、上述のように、ウエハがホットプレートに密着して
ウエハをホットプレートから取り出すことが困難にな
る。 ウエハがホットプレートに対していわゆる面接触状態
となるため、ウエハに発生した静電気によりホットプレ
ート上の汚れやごみなどがウエハに吸着され、ウエハの
汚染が生じる。
【０００４】本発明は上記問題点を解決するものであ
り、加熱手段の加熱面へのウエハの密着、ウエハの反り
や割れ、あるいはウエハの汚染などを引き起こすことな
く、ウエハを均一に加熱することが可能なウエハ加熱装
置を提供することを目的とする。
り、加熱手段の加熱面へのウエハの密着、ウエハの反り
や割れ、あるいはウエハの汚染などを引き起こすことな
く、ウエハを均一に加熱することが可能なウエハ加熱装
置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のウエハ加熱装置は、ウエハと略対向する加
熱面を備えた、ウエハを加熱するための加熱手段と、ウ
エハと加熱手段との間に介在し、加熱手段の加熱面から
ウエハを所定の距離だけ浮せて支持するスペーサとを具
備することを特徴としている。
に、本発明のウエハ加熱装置は、ウエハと略対向する加
熱面を備えた、ウエハを加熱するための加熱手段と、ウ
エハと加熱手段との間に介在し、加熱手段の加熱面から
ウエハを所定の距離だけ浮せて支持するスペーサとを具
備することを特徴としている。
【０００６】また、前記スペーサの、ウエハとの接触箇
所を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接
触するような形状としたことを特徴としている。
所を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接
触するような形状としたことを特徴としている。
【０００７】また、前記スペーサが、ウエハの位置ずれ
が生じたときに、ウエハの外周部と当接して、位置ずれ
がそれ以上に大きくなることを防止するガイド部を備え
ていることを特徴としている。
が生じたときに、ウエハの外周部と当接して、位置ずれ
がそれ以上に大きくなることを防止するガイド部を備え
ていることを特徴としている。
【０００８】また、前記スペーサを取り換えることによ
り、加熱手段の加熱面からウエハまでの距離を変えるこ
とができるように構成されていることを特徴としてい
る。
り、加熱手段の加熱面からウエハまでの距離を変えるこ
とができるように構成されていることを特徴としてい
る。
【０００９】
【作用】ウエハと加熱手段との間に介在するスペーサに
より、ウエハが略対向する加熱手段の加熱面から所定の
距離だけ浮上した状態で支持される。したがって、加熱
手段の加熱面にウエハが密着して取出しが困難になった
り、静電吸着力によりウエハに反りや割れが発生した
り、あるいはウエハが加熱手段の加熱面に密着して汚染
したりすることを防止して、ウエハを効率よく加熱する
ことができるようになる。
より、ウエハが略対向する加熱手段の加熱面から所定の
距離だけ浮上した状態で支持される。したがって、加熱
手段の加熱面にウエハが密着して取出しが困難になった
り、静電吸着力によりウエハに反りや割れが発生した
り、あるいはウエハが加熱手段の加熱面に密着して汚染
したりすることを防止して、ウエハを効率よく加熱する
ことができるようになる。
【００１０】また、スペーサの、ウエハとの接触箇所
を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接触
するような形状とすることにより、両者の接触面積を小
さくしてスペーサからウエハへの伝熱を抑制し、均一な
加熱を行うことができるようになる。
を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接触
するような形状とすることにより、両者の接触面積を小
さくしてスペーサからウエハへの伝熱を抑制し、均一な
加熱を行うことができるようになる。
【００１１】なお、スペーサを構成する材質としては、
ウエハへの伝熱を抑制する見地から、熱伝導率の低い材
質、例えば、ステンレス鋼、アルミナセラミックス、ポ
リイミド樹脂、ガラスなどを用いることが好ましい。
ウエハへの伝熱を抑制する見地から、熱伝導率の低い材
質、例えば、ステンレス鋼、アルミナセラミックス、ポ
リイミド樹脂、ガラスなどを用いることが好ましい。
【００１２】さらに、スペーサに位置ずれ防止のための
ガイド部を設けることにより、ウエハの位置ずれ防止用
のガイド部を設けているので、ウエハの脱落や搬送装置
との取合いに支障を生じるような大きな位置ずれを確実
に防止することができる。
ガイド部を設けることにより、ウエハの位置ずれ防止用
のガイド部を設けているので、ウエハの脱落や搬送装置
との取合いに支障を生じるような大きな位置ずれを確実
に防止することができる。
【００１３】さらに、スペーサを取り換えて、加熱手段
の加熱面からウエハまでの距離を調節できるようにした
場合には、加熱手段からのウエハの受熱量を調節した
り、搬送装置との取合いを微調整したりすることが可能
になり、加熱や搬送の自由度を向上させることが可能に
なる。
の加熱面からウエハまでの距離を調節できるようにした
場合には、加熱手段からのウエハの受熱量を調節した
り、搬送装置との取合いを微調整したりすることが可能
になり、加熱や搬送の自由度を向上させることが可能に
なる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を示してその特徴とす
るところをさらに詳しく説明する。図１は本発明の一実
施例にかかるウエハ加熱装置を示す図であり、(ａ)は平
面図、(ｂ)は正面断面図である。
るところをさらに詳しく説明する。図１は本発明の一実
施例にかかるウエハ加熱装置を示す図であり、(ａ)は平
面図、(ｂ)は正面断面図である。
【００１５】この実施例のウエハ加熱装置は、図１
(ａ)，(ｂ)に示すように、ウエハ（この実施例では、焦
電性を有するＬｉＴａＯ3からなるウエハ）１を加熱す
るための加熱手段であるホットプレート２と、ホットプ
レート２の加熱面２ａからウエハ１を所定の距離（支持
高さ）Ｌだけ浮せて支持する、約１２０°間隔に配設さ
れた３つのスペーサ３とを備えて構成されており、スペ
ーサ３は、例えばビス止めなどの方法によりホットプレ
ート２に固定されている。
(ａ)，(ｂ)に示すように、ウエハ（この実施例では、焦
電性を有するＬｉＴａＯ3からなるウエハ）１を加熱す
るための加熱手段であるホットプレート２と、ホットプ
レート２の加熱面２ａからウエハ１を所定の距離（支持
高さ）Ｌだけ浮せて支持する、約１２０°間隔に配設さ
れた３つのスペーサ３とを備えて構成されており、スペ
ーサ３は、例えばビス止めなどの方法によりホットプレ
ート２に固定されている。
【００１６】そして、この実施例において、スペーサ３
は、図２(ａ)，(ｂ)に示すように、ウエハ１をその稜線
部３ａで支持することができるように、エッジ状（切妻
屋根状）に形成されており、かつ、稜線部３ａの一点で
支持することができるように、稜線部３ａが、ウエハ１
の内側方向に向って低くなるように斜めに形成されてい
る。
は、図２(ａ)，(ｂ)に示すように、ウエハ１をその稜線
部３ａで支持することができるように、エッジ状（切妻
屋根状）に形成されており、かつ、稜線部３ａの一点で
支持することができるように、稜線部３ａが、ウエハ１
の内側方向に向って低くなるように斜めに形成されてい
る。
【００１７】なお、この実施例では、スペーサ３を構成
する材質として、ウエハ１への伝熱を抑制するために、
熱伝導率の低いアルミナセラミックスを使用している。
する材質として、ウエハ１への伝熱を抑制するために、
熱伝導率の低いアルミナセラミックスを使用している。
【００１８】さらに、スペーサ３には、ウエハ１の位置
ずれが生じたときにも、ウエハ１の外周部１ａと当接し
て位置ずれがそれ以上大きくなることを防止するための
ガイド部３ｂが形成されている。なお、ガイド部３ｂ
は、ウエハ１の外周部１ａとスペーサ３の間に、ウエハ
１の取入れ、取出しの際のウエハ１の外周部１ａとガイ
ド部３ｂの接触（干渉）によりウエハ１が損傷すること
を避けるための隙間４を確保することができるように構
成されている。なお、ガイド部３ｂのウエハ１の外周部
１ａとの当たり面は、上広がりになるように傾斜してお
り、ウエハ１が下死点でスペーサ３の稜線部３ａに接触
している場合にはウエハ１の外周部１ａとガイド部３ｂ
の隙間４が微小であっても、ウエハ１の取出し工程でウ
エハ１が上昇した場合にはウエハ１の外周部１ａとガイ
ド部３ｂの隙間４が大きくなり、ガイド部３ｂとの接触
によりウエハ１が損傷することを防止できるように構成
されている。
ずれが生じたときにも、ウエハ１の外周部１ａと当接し
て位置ずれがそれ以上大きくなることを防止するための
ガイド部３ｂが形成されている。なお、ガイド部３ｂ
は、ウエハ１の外周部１ａとスペーサ３の間に、ウエハ
１の取入れ、取出しの際のウエハ１の外周部１ａとガイ
ド部３ｂの接触（干渉）によりウエハ１が損傷すること
を避けるための隙間４を確保することができるように構
成されている。なお、ガイド部３ｂのウエハ１の外周部
１ａとの当たり面は、上広がりになるように傾斜してお
り、ウエハ１が下死点でスペーサ３の稜線部３ａに接触
している場合にはウエハ１の外周部１ａとガイド部３ｂ
の隙間４が微小であっても、ウエハ１の取出し工程でウ
エハ１が上昇した場合にはウエハ１の外周部１ａとガイ
ド部３ｂの隙間４が大きくなり、ガイド部３ｂとの接触
によりウエハ１が損傷することを防止できるように構成
されている。
【００１９】さらに、この実施例のウエハ加熱装置にお
いては、ホットプレート２の加熱面２ａからウエハ１ま
での距離（支持高さ）Ｌを変えることができるように、
複数種類のスペーサ３が用意されており、スペーサ３の
種類を変えることによって、容易にウエハ１の支持高さ
Ｌを変えることができるように構成されている。
いては、ホットプレート２の加熱面２ａからウエハ１ま
での距離（支持高さ）Ｌを変えることができるように、
複数種類のスペーサ３が用意されており、スペーサ３の
種類を変えることによって、容易にウエハ１の支持高さ
Ｌを変えることができるように構成されている。
【００２０】上記実施例の加熱装置においては、円板状
のウエハ１が、３つのスペーサ３により３箇所で支持さ
れ、ホットプレート２の上面（加熱面）２ａから所定の
距離Ｌだけ離れた位置に保持され、その状態で、ホット
プレート２の加熱面２ａからの輻射熱により緩やかに加
熱される。したがって、ホットプレート２の加熱面２ａ
にウエハ１が密着して取出しが困難になったり、静電吸
着力によりウエハ１がホットプレート２の加熱面２ａに
吸着される際の応力によって反りや割れが発生したり、
あるいはウエハ１がホットプレート２の加熱面２ａに密
着してウエハが汚染したりすることを防止して、ウエハ
１を効率よく加熱することができる。
のウエハ１が、３つのスペーサ３により３箇所で支持さ
れ、ホットプレート２の上面（加熱面）２ａから所定の
距離Ｌだけ離れた位置に保持され、その状態で、ホット
プレート２の加熱面２ａからの輻射熱により緩やかに加
熱される。したがって、ホットプレート２の加熱面２ａ
にウエハ１が密着して取出しが困難になったり、静電吸
着力によりウエハ１がホットプレート２の加熱面２ａに
吸着される際の応力によって反りや割れが発生したり、
あるいはウエハ１がホットプレート２の加熱面２ａに密
着してウエハが汚染したりすることを防止して、ウエハ
１を効率よく加熱することができる。
【００２１】一方、スペーサ３の、ウエハ１との接触箇
所が、上述のように、スペーサ３とウエハ１が実質的に
点接触するようなエッジ状に形成されているとともに、
ウエハ１が熱伝導率の低いアルミナセラミックスから形
成されているため、スペーサ３からウエハ１への伝熱を
抑制して均一な加熱を行うことができる。
所が、上述のように、スペーサ３とウエハ１が実質的に
点接触するようなエッジ状に形成されているとともに、
ウエハ１が熱伝導率の低いアルミナセラミックスから形
成されているため、スペーサ３からウエハ１への伝熱を
抑制して均一な加熱を行うことができる。
【００２２】さらに、上記実施例ではスペーサ３に、ウ
エハ１の位置ずれ防止用のガイド部３ｂを設けているの
で、ウエハ１の脱落や搬送装置との取合いに支障を生じ
るような大きな位置ずれを確実に防止することができ
る。
エハ１の位置ずれ防止用のガイド部３ｂを設けているの
で、ウエハ１の脱落や搬送装置との取合いに支障を生じ
るような大きな位置ずれを確実に防止することができ
る。
【００２３】また、この実施例のウエハ加熱装置におい
ては、スペーサ３の種類を変えることによって、ホット
プレート２の加熱面２ａからウエハ１までの距離（支持
高さ）Ｌを容易に変えることができるため、ホットプレ
ート２からのウエハ１の受熱量を調節したり、搬送装置
との取合いを微調整したりすることが可能になり、加熱
や搬送の自由度を向上させることが可能になる。
ては、スペーサ３の種類を変えることによって、ホット
プレート２の加熱面２ａからウエハ１までの距離（支持
高さ）Ｌを容易に変えることができるため、ホットプレ
ート２からのウエハ１の受熱量を調節したり、搬送装置
との取合いを微調整したりすることが可能になり、加熱
や搬送の自由度を向上させることが可能になる。
【００２４】なお、上記実施例では、３つのスペーサを
用い、ウエハを３箇所で支持した場合について説明した
が、支持箇所に特別の制約はなく、３つ以上であれば、
点接触でもウエハを確実に支持することが可能であり、
また４つ以上のスペーサを用いることも可能である。ま
た、例えば、環状の３つ以上の支持箇所を有するような
スペーサを用いる場合には、１つのスペーサを用いるだ
けで上記実施例と同様の効果を得ることができる。
用い、ウエハを３箇所で支持した場合について説明した
が、支持箇所に特別の制約はなく、３つ以上であれば、
点接触でもウエハを確実に支持することが可能であり、
また４つ以上のスペーサを用いることも可能である。ま
た、例えば、環状の３つ以上の支持箇所を有するような
スペーサを用いる場合には、１つのスペーサを用いるだ
けで上記実施例と同様の効果を得ることができる。
【００２５】また、上記実施例では、スペーサを変える
ことにより支持高さを調節することができるようにした
加熱装置を例にとって説明したが、加熱手段の加熱面か
らウエハまでの距離を変えるための調節機構を備えたス
ペーサ（例えば、ねじ機構などにより、支持高さを調節
できるようにしたスペーサなど）を用いることにより、
スペーサを取り換えたりすることなく、加熱手段の加熱
面からウエハまでの距離を変更できるように構成するこ
とも可能である。
ことにより支持高さを調節することができるようにした
加熱装置を例にとって説明したが、加熱手段の加熱面か
らウエハまでの距離を変えるための調節機構を備えたス
ペーサ（例えば、ねじ機構などにより、支持高さを調節
できるようにしたスペーサなど）を用いることにより、
スペーサを取り換えたりすることなく、加熱手段の加熱
面からウエハまでの距離を変更できるように構成するこ
とも可能である。
【００２６】また、上記実施例では、スペーサをエッジ
状の形状とした場合について説明したが、ウエハとの接
触面積を小さくすることが可能な線接触や点接触などの
接触状態を実現することが可能な種々の形状（例えば、
円錐形状、角錐形状、ピン形状など）を有するスペーサ
を用いることが可能である。
状の形状とした場合について説明したが、ウエハとの接
触面積を小さくすることが可能な線接触や点接触などの
接触状態を実現することが可能な種々の形状（例えば、
円錐形状、角錐形状、ピン形状など）を有するスペーサ
を用いることが可能である。
【００２７】本発明はさらにその他の点においても、上
記実施例に限定されるものではなく、加熱手段の具体的
な構成、ウエハの形状や材質などに関し、発明の要旨の
範囲内において種々の応用、変形を加えることが可能で
ある。
記実施例に限定されるものではなく、加熱手段の具体的
な構成、ウエハの形状や材質などに関し、発明の要旨の
範囲内において種々の応用、変形を加えることが可能で
ある。
【００２８】
【発明の効果】上述のように、本発明のウエハ加熱装置
は、ウエハを加熱するための加熱手段と、加熱手段の加
熱面からウエハを所定の距離だけ浮せて支持するスペー
サとを備えて構成されているので、加熱手段の加熱面に
ウエハが密着して取出しが困難になったり、静電吸着力
によりウエハに反りや割れが発生したり、あるいはウエ
ハが加熱手段の加熱面に密着して汚染したりすることを
防止して、ウエハを効率よく加熱することができるよう
になる。
は、ウエハを加熱するための加熱手段と、加熱手段の加
熱面からウエハを所定の距離だけ浮せて支持するスペー
サとを備えて構成されているので、加熱手段の加熱面に
ウエハが密着して取出しが困難になったり、静電吸着力
によりウエハに反りや割れが発生したり、あるいはウエ
ハが加熱手段の加熱面に密着して汚染したりすることを
防止して、ウエハを効率よく加熱することができるよう
になる。
【００２９】また、スペーサの、ウエハとの接触箇所
を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接触
するような形状とすることにより、両者の接触面積を小
さくしてスペーサからウエハへの伝熱を抑制し、均一な
加熱を行うことができる。
を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接触
するような形状とすることにより、両者の接触面積を小
さくしてスペーサからウエハへの伝熱を抑制し、均一な
加熱を行うことができる。
【００３０】さらに、スペーサに位置ずれ防止のための
ガイド部を設けることにより、ウエハの脱落や搬送装置
との取合いに支障を生じるような大きな位置ずれを未然
に防止することが可能になり、搬送装置との取合いの信
頼性を向上させ、自動搬送などを容易に行うことが可能
になる。
ガイド部を設けることにより、ウエハの脱落や搬送装置
との取合いに支障を生じるような大きな位置ずれを未然
に防止することが可能になり、搬送装置との取合いの信
頼性を向上させ、自動搬送などを容易に行うことが可能
になる。
【００３１】さらに、スペーサを取り換えて、加熱手段
の加熱面からウエハまでの距離を調節できるようにした
場合には、加熱手段からのウエハの受熱量を調節した
り、搬送装置との取合いを微調整したりすることが可能
になり、加熱や搬送の自由度を向上させることができ
る。なお、本発明のウエハ加熱装置は、ＬｉＴａＯ3や
ＬｉＮｂＯ3などの焦電性を有する材料からなるウエハ
を加熱するのに用いた場合に特に有意義であるが、焦電
性を有しないウエハの加熱に適用した場合にも、ウエハ
が加熱手段と接触することを確実に防止して、ウエハの
汚染を引き起こしたりすることなく、均一に加熱するこ
とが可能になるという効果が得られるため有意義であ
る。
の加熱面からウエハまでの距離を調節できるようにした
場合には、加熱手段からのウエハの受熱量を調節した
り、搬送装置との取合いを微調整したりすることが可能
になり、加熱や搬送の自由度を向上させることができ
る。なお、本発明のウエハ加熱装置は、ＬｉＴａＯ3や
ＬｉＮｂＯ3などの焦電性を有する材料からなるウエハ
を加熱するのに用いた場合に特に有意義であるが、焦電
性を有しないウエハの加熱に適用した場合にも、ウエハ
が加熱手段と接触することを確実に防止して、ウエハの
汚染を引き起こしたりすることなく、均一に加熱するこ
とが可能になるという効果が得られるため有意義であ
る。
【図１】本発明の一実施例にかかるウエハ加熱装置を示
す図であり、(ａ)は平面図、(ｂ)は正面断面図である。
す図であり、(ａ)は平面図、(ｂ)は正面断面図である。
【図２】本発明の一実施例にかかるウエハ加熱装置の要
部（スペーサ付近）を示す拡大図であり、(ａ)は正面断
面図、(ｂ)は側面断面図である。
部（スペーサ付近）を示す拡大図であり、(ａ)は正面断
面図、(ｂ)は側面断面図である。
【図３】従来のウエハ加熱装置を示す図であり、(ａ)は
平面図、(ｂ)は正面断面図である。
平面図、(ｂ)は正面断面図である。
１ ウエハ １ａ ウエハの外周部 ２ ホットプレート（加熱手段） ２ａ 加熱面 ３ スペーサ ３ａ 稜線部 ３ｂ ガイド部 ４ 隙間（遊び）
Claims (4)
- 【請求項１】 ウエハと略対向する加熱面を備えた、ウ
エハを加熱するための加熱手段と、 ウエハと加熱手段との間に介在し、加熱手段の加熱面か
らウエハを所定の距離だけ浮せて支持するスペーサとを
具備することを特徴とするウエハ加熱装置。 - 【請求項２】 前記スペーサの、ウエハとの接触箇所
を、スペーサとウエハが実質的に点接触あるいは線接触
するような形状としたことを特徴とする請求項１記載の
ウエハ加熱装置。 - 【請求項３】 前記スペーサが、ウエハの位置ずれが生
じたときに、ウエハの外周部と当接して、位置ずれがそ
れ以上に大きくなることを防止するガイド部を備えてい
ることを特徴とする請求項１又は２記載のウエハ加熱装
置。 - 【請求項４】 前記スペーサを取り換えることにより、
加熱手段の加熱面からウエハまでの距離を変えることが
できるように構成されていることを特徴とする請求項
１，２又は３記載のウエハ加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16818495A JPH08335583A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | ウエハ加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16818495A JPH08335583A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | ウエハ加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08335583A true JPH08335583A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15863348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16818495A Withdrawn JPH08335583A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | ウエハ加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08335583A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1308989A2 (en) * | 1997-11-03 | 2003-05-07 | ASM America, Inc. | Improved low mass wafer support system |
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| JP2012156418A (ja) * | 2011-01-28 | 2012-08-16 | Lintec Corp | 板状部材の支持装置 |
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| KR20150130261A (ko) * | 2013-03-15 | 2015-11-23 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 향상된 프로세스 균일성 및 감소된 기판 미끄러짐을 위한 서셉터들 |
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-
1995
- 1995-06-08 JP JP16818495A patent/JPH08335583A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1308989A3 (en) * | 1997-11-03 | 2007-12-26 | ASM America, Inc. | Improved low mass wafer support system |
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| JP2016518699A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-06-23 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 強化されたプロセスの均一性および低減された基板の滑りのためのサセプタ |
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