JP2014147501A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014147501A5
JP2014147501A5 JP2013017659A JP2013017659A JP2014147501A5 JP 2014147501 A5 JP2014147501 A5 JP 2014147501A5 JP 2013017659 A JP2013017659 A JP 2013017659A JP 2013017659 A JP2013017659 A JP 2013017659A JP 2014147501 A5 JP2014147501 A5 JP 2014147501A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
path length
optical
light
measurement light
eye
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013017659A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014147501A (ja
JP6184113B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013017659A priority Critical patent/JP6184113B2/ja
Priority claimed from JP2013017659A external-priority patent/JP6184113B2/ja
Priority to US14/161,539 priority patent/US9326674B2/en
Priority to CN201410042724.2A priority patent/CN103961061B/zh
Publication of JP2014147501A publication Critical patent/JP2014147501A/ja
Publication of JP2014147501A5 publication Critical patent/JP2014147501A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6184113B2 publication Critical patent/JP6184113B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明に係る光断層撮像装置の一つは、
測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置であって、
前記被検査物において前記測定光を走査する走査手段と、
前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、
前記被検査物における撮影部位を選択する選択手段と、
前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段と前記走査手段とを制御する制御手段と、を有する。
また、本発明に係る光断層撮像装置の一つは、
測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置であって、
前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、
前記被検査物における撮影部位を選択する選択手段と、
前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段と、
前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段を制御する制御手段と、を有する。

Claims (21)

  1. 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置であって、
    前記被検査物において前記測定光を走査する走査手段と、
    前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、
    前記被検査物における撮影部位を選択する選択手段と、
    前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段と、
    前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段と前記走査手段とを制御する制御手段と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置。
  2. 前記測定光光路長変更手段は、前記測定光の光路を含む光学部を前記被検査物に対して移動する光学部移動機構を有し、
    前記制御手段が、前記指示手段による指示に応じて、前記光学部移動機構と前記走査手段とを制御することを特徴とする請求項に記載の光断層撮像装置。
  3. 前記参照光の光路長を変更する参照光光路長変更手段を更に有し、
    前記制御手段が、前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段と前記参照光光路長変更手段とを連動させて制御することを特徴とする請求項1または2に記載の光断層撮像装置。
  4. 前記被検査物に対して前記測定光を合焦する合焦レンズを光路に沿って移動する移動手段を更に有し、
    前記制御手段が、前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段と前記移動手段とを連動させて制御することを特徴とする請求項乃至の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  5. 記撮影部位の選択指示を入力するための表示形態を表示手段に表示させる表示制御手段を更に有し、
    前記選択手段が、操作手段による操作に応じて前記選択を指示することを特徴とする請求項1乃至何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  6. 前記被検査物は、被検眼の眼底であり
    記表示制御手段が、前記選択手段により前記眼底の一部の領域前記撮影部位として選択された場合、前記被検眼の瞳孔の大きさに応じて、前記眼底の断層画像の撮像範囲の大きさの限界を示す表示形態を前記表示手段に表示させることを特徴とする請求項に記載の光断層撮像装置。
  7. 前記被検査物は、被検眼であり、
    前記制御手段が、前記被検眼の眼底の断層画像を取得する場合には前記走査手段の走査角度を変更するように前記走査手段を制御し、前記被検眼の前眼部の断層画像を取得する場合には前記走査手段の走査角度を変更しないように前記走査手段を制御することを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  8. 前記被検査物は、被検眼であり、
    記撮影部位は、前記被検眼の前眼部の部位と前記被検眼の眼底の部位とのうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1乃至何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  9. 前記被検査物は、被検眼の前眼部であり
    記制御手段が、前記前眼部の角膜前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を長くするように、前記前眼部の隅角前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を短くするように、前記測定光光路長変更手段を制御することを特徴とする請求項1乃至何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  10. 前記被検査物は、被検眼の眼底であり
    記制御手段が、前記眼底の黄斑前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を長くするように、前記眼底の視神経乳頭前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を短くするように、前記測定光光路長変更手段を制御することを特徴とする請求項1乃至何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  11. 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置であって、
    前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と、
    前記被検査物における撮影部位を選択する選択手段と、
    前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段と、
    前記指示手段による指示に応じて、前記測定光光路長変更手段を制御する制御手段と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置。
  12. 前記測定光の光路に設けられる対物レンズを更に有し、
    前記測定光光路長変更手段は、前記対物レンズと前記被検査物との距離を変更することにより、前記測定光の光路長を変更することを特徴とする請求項1乃至11の何れか一項に記載の光断層撮像装置。
  13. 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置の制御方法であって、
    前記被検査物における撮影部位を選択する工程と、
    前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段による指示に応じて、前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段と前記被検査物において前記測定光を走査する走査手段とを制御する工程と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置の制御方法。
  14. 前記測定光光路長変更手段は、前記測定光の光路を含む光学部を前記被検査物に対して移動する光学部移動機構を有し、
    前記制御する工程において、前記指示手段による指示に応じて、前記光学部移動機構と前記走査手段とを制御することを特徴とする請求項1に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  15. 記撮影部位の選択指示を入力するための表示形態を表示手段に表示させる工程を更に有し、
    前記選択する工程において、操作手段による操作に応じて前記選択を指示することを特徴とする請求項13または14に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  16. 前記被検査物は、被検眼の眼底であり
    記表示手段に表示させる工程において、前記眼底の一部の領域前記撮影部位として選択された場合、前記被検眼の瞳孔の大きさに応じて、前記眼底の断層画像の撮像範囲の大きさの限界を示す表示形態を前記表示手段に表示させることを特徴とする請求項1に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  17. 前記被検査物は、被検眼であり、
    記撮影部位は、前記被検眼の前眼部の部位と前記被検眼の眼底の部位とのうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1乃至1何れか一項に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  18. 前記被検査物は、被検眼の前眼部であり
    記制御する工程において、前記前眼部の角膜前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を長くするように、前記前眼部の隅角前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長を短くするように、前記測定光光路長変更手段を制御することを特徴とする請求項1乃至1何れか一項に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  19. 前記被検査物は、被検眼の眼底であり
    記制御する工程において、前記眼底の黄斑前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長をくするように、前記眼底の視神経乳頭前記撮影部位として選択された場合には前記測定光の光路長をくするように、前記測定光光路長変更手段を制御することを特徴とする請求項1乃至1何れか一項に記載の光断層撮像装置の制御方法。
  20. 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する光断層撮像装置の制御方法であって、
    前記被検査物における撮影部位を選択する工程と、
    前記選択された撮影部位に応じて前記断層画像の撮像範囲の大きさを指示する指示手段による指示に応じて、前記測定光の光路長を変更する測定光光路長変更手段を制御する工程と、
    を有することを特徴とする光断層撮像装置の制御方法。
  21. 請求項1乃至20の何れか一項に記載の光断層撮像装置の制御方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
JP2013017659A 2013-01-31 2013-01-31 光断層撮像装置およびその制御方法 Expired - Fee Related JP6184113B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013017659A JP6184113B2 (ja) 2013-01-31 2013-01-31 光断層撮像装置およびその制御方法
US14/161,539 US9326674B2 (en) 2013-01-31 2014-01-22 Optical tomographic imaging apparatus and method for controlling the same
CN201410042724.2A CN103961061B (zh) 2013-01-31 2014-01-29 光学断层成像装置及其控制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013017659A JP6184113B2 (ja) 2013-01-31 2013-01-31 光断層撮像装置およびその制御方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014147501A JP2014147501A (ja) 2014-08-21
JP2014147501A5 true JP2014147501A5 (ja) 2016-03-03
JP6184113B2 JP6184113B2 (ja) 2017-08-23

Family

ID=51222569

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013017659A Expired - Fee Related JP6184113B2 (ja) 2013-01-31 2013-01-31 光断層撮像装置およびその制御方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9326674B2 (ja)
JP (1) JP6184113B2 (ja)
CN (1) CN103961061B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6503669B2 (ja) * 2014-09-20 2019-04-24 株式会社ニデック 眼科装置
JP6552200B2 (ja) * 2015-01-09 2019-07-31 キヤノン株式会社 光断層撮像装置、その制御方法、及びプログラム
JP2017063995A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 株式会社トプコン 眼科装置
JP6798233B2 (ja) * 2016-10-06 2020-12-09 富士ゼロックス株式会社 眼球の光計測装置及び眼球の光計測方法
JP6923392B2 (ja) * 2017-08-28 2021-08-18 株式会社トプコン 眼科装置
JP6923393B2 (ja) * 2017-08-28 2021-08-18 株式会社トプコン 眼科装置、及びその制御方法
JP7314345B2 (ja) * 2017-08-30 2023-07-25 株式会社トプコン 眼科装置、及びその制御方法
JP2019041841A (ja) * 2017-08-30 2019-03-22 株式会社トプコン 眼科装置、及びその制御方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003126043A (ja) 2001-10-22 2003-05-07 Canon Inc 眼科撮影装置
JP4823693B2 (ja) * 2006-01-11 2011-11-24 株式会社トプコン 光画像計測装置
JP4996917B2 (ja) * 2006-12-26 2012-08-08 株式会社トプコン 光画像計測装置及び光画像計測装置を制御するプログラム
JP5339828B2 (ja) 2007-10-04 2013-11-13 キヤノン株式会社 光干渉断層撮像装置及び光干渉断層撮像方法
JP5231802B2 (ja) 2007-12-29 2013-07-10 株式会社ニデック 眼科撮影装置
US8419186B2 (en) * 2009-09-30 2013-04-16 Nidek Co., Ltd. Fundus observation apparatus
JP5545630B2 (ja) 2010-01-21 2014-07-09 株式会社ニデック 眼科撮影装置
JP5783681B2 (ja) * 2010-03-31 2015-09-24 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像方法
JP5506504B2 (ja) * 2010-03-31 2014-05-28 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像方法
JP5627321B2 (ja) * 2010-07-09 2014-11-19 キヤノン株式会社 光断層画像撮像装置及びその撮像方法
JP5610884B2 (ja) * 2010-07-09 2014-10-22 キヤノン株式会社 光断層撮像装置及び光断層撮像方法
JP5289496B2 (ja) 2011-03-31 2013-09-11 キヤノン株式会社 眼科装置
JP5220208B2 (ja) * 2011-03-31 2013-06-26 キヤノン株式会社 制御装置、撮像制御方法、およびプログラム
JP5220156B2 (ja) * 2011-03-31 2013-06-26 キヤノン株式会社 医療装置および医療システム
JP5936371B2 (ja) * 2012-01-26 2016-06-22 キヤノン株式会社 眼科装置、眼科装置の制御方法、およびプログラム
JP5210442B1 (ja) * 2012-01-26 2013-06-12 キヤノン株式会社 光断層撮像装置および制御方法
JP5210443B1 (ja) 2012-01-26 2013-06-12 キヤノン株式会社 光断層撮像装置および制御方法
JP6300443B2 (ja) * 2013-01-31 2018-03-28 キヤノン株式会社 光断層撮像装置およびその制御方法
JP2015039580A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 キヤノン株式会社 光断層撮像装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014147501A5 (ja)
JP6009935B2 (ja) 眼科装置
JP6567947B2 (ja) 眼科装置
JP2013144048A5 (ja)
JP6716752B2 (ja) 眼科装置
JP2012210299A5 (ja) 眼科装置
JP2013212313A5 (ja)
JP2011050532A5 (ja) 眼科撮影装置及びその方法
JP2011004978A5 (ja)
JP2013212172A5 (ja)
JP2013212173A5 (ja) 光干渉断層撮影装置及び制御方法
JP2013212314A5 (ja)
US20160143529A1 (en) Ophthalmological apparatus
JP2011167285A5 (ja) 眼科装置および眼科装置の制御方法、そのプログラム
JP2014147500A5 (ja)
JP2011036431A5 (ja)
JP6184113B2 (ja) 光断層撮像装置およびその制御方法
WO2016031630A1 (ja) 眼科装置
JP2015208574A5 (ja)
JP2016077337A5 (ja)
JP6367530B2 (ja) 断層画像撮影装置及び断層画像の画像生成制御方法
JP2014147499A5 (ja)
JPWO2017135278A1 (ja) 断層画像撮影装置
JP2014140474A (ja) 眼科撮影装置および撮影制御プログラム
JP2021097989A5 (ja)