JP2014111517A - アンモニアの酸化分解触媒、水素の製造方法及び水素製造装置 - Google Patents

アンモニアの酸化分解触媒、水素の製造方法及び水素製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 アンモニアの酸化分解のコールドスタートを可能とするアンモニアの酸化分解触媒、並びに、当該触媒を用いた水素の製造方法及び水素製造装置の提供。
【解決手段】 本発明に係る水素の製造方法は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、上記触媒による発熱を利用してアンモニアの酸化分解反応を開始することを特徴とする。
【選択図】 なし

Description

本発明は、アンモニアの酸化分解触媒、アンモニアの酸化分解触媒を用いる水素の製造方法及び水素製造装置に関する。
アンモニアを水素媒体とした高度エネルギー変換・利用システムが提唱されている。このシステムでは、日照量の多い地域で、太陽光を利用して水を光分解することにより水素を製造し、得られた水素を窒素と反応させてアンモニアに変換し、液体のアンモニアを消費地まで運搬した後、アンモニアを分解して水素を生成することにより、水素が利用される。
上記システムの実用化に向けて、アンモニアの分解に用いられるアンモニアの分解触媒の開発が行われている。アンモニアの分解触媒に関しては、これまでにも種々の触媒が提案されている(例えば、下記特許文献1〜4を参照)。
特開2005−246163号公報 特開2006−326578号公報 特開2006−346642号公報 特開2007−021482号公報
2NH→N+3Hで示されるアンモニアの分解反応は吸熱反応であり、アンモニアを十分に分解するには400℃という温度が必要である。従来のアンモニアの分解触媒を利用した水素製造装置では、起動のために触媒を400℃まで加熱する必要があり、起動後も更に外部からの熱供給が必要であり、起動時間やエネルギー消費の点で課題がある。
本発明は、室温などの低い温度から、外部からの熱供給なしに若しくはわずかな熱供給によってアンモニアの酸化分解を開始すること(以下、「アンモニアの酸化分解のコールドスタート」という場合もある)を可能とするアンモニアの酸化分解触媒、並びに、当該触媒を用いた水素の製造方法及び水素製造装置を提供することを目的とする。
本発明は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、上記触媒による発熱を利用してアンモニアの酸化分解反応を開始することを特徴とする水素の製造方法を提供する。
本発明の水素の製造方法によれば、上記触媒に接触させる反応ガスに酸素を導入すること及び上記触媒による発熱を利用することにより、速やかにアンモニアの燃焼開始温度に到達させることができるとともに、アンモニアの燃焼反応による内部発熱で外部からの熱供給なしにアンモニアを分解して水素を得ることができる。
本発明の水素の製造方法の一態様においては、上記金属及び上記担体が還元状態にある触媒に酸素を接触させて上記発熱を得ることができる。この場合、上記担体がCe、Zr及びPrから選択される1種又は2種以上の元素を含む酸化物を1種以上含むことが好ましい。
更に、上記触媒が、アンモニア及び酸素を含む反応ガスから生成した水素を含む生成ガスによって還元されていてもよい。この場合、アンモニアの分解反応を一度開始させることにより、その後は触媒に前処理を施さなくても繰り返しアンモニアの分解反応を開始させることができる。
本発明の水素の製造方法の別の一態様においては、上記金属が還元状態にある触媒に酸素を接触させて上記発熱を得ることができる。この場合、上記担体がLa、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことが好ましい。
更に、上記触媒が、アンモニア及び酸素を含む反応ガスから生成した水素を含む生成ガスによって還元されていてもよい。この場合、アンモニアの分解反応を一度開始させることにより、その後は触媒に前処理を施さなくても繰り返しアンモニアの分解反応を開始させることができる。
本発明の水素の製造方法の別の一態様においては、上記担体が酸点を有する状態にある触媒にアンモニアを接触させて上記発熱を得ることができる。この場合、Al及びSiOからなる群より選択される一種以上の酸化物を含む担体を有する触媒にアンモニアを接触させて上記発熱を得ることができる。
更に、上記触媒が、アンモニアの酸化分解反応の反応熱によってアンモニアが脱離されていてもよい。この場合、アンモニアの分解反応を一度開始させることにより、その後は触媒に前処理を施さなくても繰り返しアンモニアの分解反応を開始させることができる。
上記の方法においては、アンモニアの酸化分解反応の開始及び終了を繰り返すときに当該反応の間で室温にある触媒が酸素と接触することができる。
本発明はまた、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、担体がCe、Zr及びPrから選択される1種又は2種以上の元素を含む酸化物を1種以上含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒を提供する。
本発明はまた、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、担体がLa、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒を提供する。
本発明はまた、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、担体がAl及びSiOからなる群より選択される一種以上の酸化物を含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒を提供する。
本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒は、酸素或いはアンモニアと接触させることにより発熱させることができ、その後アンモニア及び酸素を含む反応ガスと接触させた場合には自己熱によりアンモニアの燃焼反応を開始することができる。本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒によれば、アンモニアの酸化分解のコールドスタートが可能となる。
本発明はまた、上記本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒のいずれかを備えることを特徴とする水素製造装置を提供する。
本発明に係る水素製造装置によれば、本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒を備えることにより、起動のためのエネルギーの消費を抑制することができ、起動後は外部からの熱供給なしに水素を製造することができる。本発明に係る水素製造装置は、起動性及び省エネルギーに優れた装置であるといえる。
本発明によれば、アンモニアの酸化分解のコールドスタートを可能とするアンモニアの酸化分解触媒、並びに、当該触媒を用いた水素の製造方法及び水素製造装置を提供することができる。
本発明に係る水素製造装置の一実施形態を示す模式図である。 本発明に係る水素製造装置の他の実施形態を示す模式図である。
図1は、本発明に係る水素製造装置の一実施形態を示す模式図である。図1に示される水素製造装置1は、反応器10と、反応器10内に設けられた触媒層20と、反応器10を取り囲むように設けられた断熱材30とを備える。反応器10の入口には、水素の原料となる反応ガスを導入するための流路L1が接続され、反応器10の出口には、生成ガスを取り出すための流路L2が接続されている。更に、反応器10は、仕切材40で仕切られた触媒層20の上流側及び下流側に不活性充填材50が充填されている。
図2は、本発明に係る水素製造装置の他の実施形態を示す模式図である。図1に示される水素製造装置2は、断熱材30が反応器10の下流側にのみ設けられていること、不活性充填材50が触媒層20の下流側にのみ充填されていること以外は図1の水素製造装置1と同様の構成を有している。
反応器10は、固定床流通式反応器であることが好ましい。反応器は単一であってもよいし、直列又は並列に配置された複数で構成されてもよい。また反応器内に設けられる触媒床は単一であってもよいし、複数に区分されていてもよい。
触媒層20は、本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒が充填される。
断熱材30としては、熱伝導性が低く、アンモニア酸化分解反応温度で十分な耐熱性を有する一般的な断熱材を使用することができる。例えば、セラミック、ロックウール、ケイ酸カルシウム水和物系などを用いることができる。
仕切材40は、触媒が不活性充填材と混合しないようにするためのものであり、例えば、石英ウール、金属製メッシュ、又はパンチングメタル板などを用いることができる。
不活性充填材50としては、触媒層20の固定や反応流体の整流を目的として、例えば、α−Alボール、セラミックボール、炭化ケイ素などの反応に不活性な成型物又は粒状物を用いることができる。
本発明に係る水素の製造方法は、上述した水素製造装置1、2により実施することができる。
本発明に係る水素の製造方法は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、上記触媒による発熱を利用してアンモニアの酸化分解反応を開始することを特徴とする。以下、本発明に係る水素の製造方法及びそれに用いられる本発明に係るアンモニアの酸化分解触媒の好適な実施形態について説明する。
(第1の実施形態)
第1実施形態に係る水素の製造方法は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、上記金属及び上記担体が還元状態にある触媒に酸素を接触させて得られる発熱を利用してアンモニアの酸化分解反応を開始する。
本実施形態において上記担体は酸化還元能を有することが好ましい。上記担体は、例えば、Ce、Zr及びPrから選択される1種又は2種以上の元素を含む酸化物を1種以上含むことが好ましい。
上記酸化物としては、例えば、CeO、Pr11、CeZr(0.0<x≦0.75、0.25≦y<1.0、0.0<z≦2.0、但し、x+y=1)が挙げられる。
上記酸化物を含む担体の調製方法は、特に限定されるものではなく、例えば、Ce、Pr若しくはZrの硝酸塩、水酸化物又は酸化物などを出発原料として、公知の方法、例えば空気中において焼成処理する、又は、水溶液を用いて単独あるいは混合したのちに、水熱処理、中和、焼成などの工程を単独あるいは組み合わせて施すことにより、上記酸化物を含む担体を得ることができる。
担体は、上記酸化物以外の化合物を含有することができる。例えば、成型体として機械的強度を維持する目的でアルミナなどをバインダー成分として用いることができる。
担体の形状は、円筒状、ペレット状、球状、塊状、粉状とすることができる。本実施形態においては、担体の粉化や異物混入などによって触媒間の空隙が閉塞して反応流体の流通が妨げられたり、差圧が発生したりすることが無いよう、円筒状、ペレット、球状、塊状のいずれかの形状を有することが望ましい。
本実施形態に係る触媒において、上記活性金属の含有量は、触媒の全質量を基準として、0.1〜50.0質量%であることが好ましく、0.5〜40.0質量%であることがより好ましく、1.0〜30.0質量%であることがさらに好ましい。
上記金属の担体への担持方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を適用することにより容易に行うことができる。例えば、含浸法、沈着法、共沈法、混練法、イオン交換法、ポアフィリング法等が挙げられ、特に含浸法が望ましい。触媒を製造する際の金属の出発物質は、前記の担持法により異なり、適宜選択することができるが、通常、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を用いることができる。具体的には、Ru(C、RuCl、Ru(NO)(NO(OH)、Rh(NO・2HO、Ru(CO)12、[(CH3COO)Rh]、[Rh(C15COO)、RhCl・nHO、Rh(NO、Rh(C)x・nHO、C1521IrO、IrCl・nHO、Ni(NO・6HO、(CHCOO)Ni・4HO、NiCl・6HO、Ni(O・nHO、Co(NO・6HO、(CHCOCHCOCHCo・2HO、Co(CO)、CoCl・6HOを用いることができる。
含浸法を適用する場合、例えば、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を水または有機溶剤に加えた溶液を調製し、前記の担体に含浸させたのち、乾燥、必要に応じ焼成する方法を例示することができる。
焼成は、通常、空気や窒素雰囲気下などで行われ、温度は、上記塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物の分解温度以上であれば特に限定されないが、例えば、100〜1000℃、好ましくは200〜900℃、より好ましくは250〜800℃が望ましい。
次に、本実施形態に係る水素の製造方法の具体的な手順について説明する。
本実施形態においては、触媒を還元するための前処理を行うことが好ましい。
前処理は、触媒の酸化還元特性に応じて適宜その条件を設定することができ、例えば、触媒を反応器に充填して触媒層を設けた後、室温〜800℃、好ましくは100〜700℃、さらに好ましくは200〜600℃の触媒層温度で、5分〜5時間、好ましくは10分〜3時間、さらに好ましくは30分〜2時間、水素ガス或いは水素を含むガスを流通させることにより行うことができる。
担体に含まれる酸化物として、CeO又はCeZr(0.0<x≦0.75、0.25≦y<1.0、0.0<z≦2.0、但し、x+y=1)を用いる場合は、室温(25℃)未満の触媒層温度で、水素ガス或いは水素を含むガスを流通させることにより触媒を還元するための前処理を行うことができる。この場合、加熱のためのエネルギーを低減することができる。
触媒の前処理が終了すれば、Heなどの不活性ガスを流通させながら触媒層の加熱を止め、そのまま室温で保持することができる。
次に、金属及び担体が還元状態にある触媒に酸素を接触させる。本実施形態においては、アンモニア及び酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを触媒層に供給することにより、触媒を発熱させることが好ましい。この場合、触媒の温度がアンモニアの燃焼開始温度に達成するとアンモニアの燃焼反応を開始させることができる。そして、アンモニアの燃焼反応による発熱によって触媒の温度がアンモニアの酸化分解反応開始温度に到達すると、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。
上記反応ガスにおけるアンモニアと酸素との体積比は、1.0:0.095〜0.5が好ましく、1.0:0.2〜0.4がより好ましい。空気を用いる場合、上記のアンモニアと酸素の比率になるよう空気の量を調節することができる。反応ガスには、発熱量を調整するために、ヘリウムなどの不活性ガスを随伴させることもできる。
こうして、アンモニアを含む反応ガスから水素を含む生成ガスを得ることができる。
本実施形態の水素の製造方法によれば、例えば、図1及び2に示されるような水素製造装置において、反応停止・触媒層を降温した後、還元雰囲気下(例えば、水素雰囲気下)あるいは不活性雰囲気下で触媒系を維持することにより、上述したような前処理(スタート前の加熱・水素還元処理など)を施すことなく2回目の起動が可能となる。具体的には、例えば、Heなどの不活性ガスを流通させることで触媒層の発熱を止め、触媒層を常温まで降温した後、反応ガスを供給することにより再起動が可能となる。このとき、反応ガスを供給する前にアンモニア及びヘリウムの混合ガスを供給し、続いて酸素を供給してもよい。
上記の効果は、アンモニアの酸化分解反応で生成する水素によって金属と担体がin−situ還元されることによるものと考えられる。
本実施形態において、二回目又は三回目以降の起動時には、アンモニアと酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを供給、又はアンモニアを先に供給してから酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを供給することが望ましい。また、アンモニア及びヘリウムの混合ガスを供給し、続いて酸素を供給した後、反応ガスを供給することができる。
また、本実施形態においては、担体に含まれる酸化物としてCeOを用いる場合、800℃以下、好ましくは室温(25℃程度)〜800℃、より好ましくは100℃〜600℃の触媒層温度で、Heガスを流通させて、触媒のHe加熱処理を行い、その後触媒にアンモニアを接触させることにより、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。本実施形態においては、アンモニア及び酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを触媒層に供給することにより、触媒を発熱させることが好ましい。この場合、触媒の温度がアンモニアの燃焼開始温度に達成するとアンモニアの燃焼反応を開始させることができる。そして、アンモニアの燃焼反応による発熱によって触媒の温度がアンモニアの酸化分解反応開始温度に到達すると、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。
なお、触媒にアンモニアを接触させることにより得られる発熱は、上記酸化物の酸点にアンモニアが吸着することによるものと考えられる。また、CeO上では上記金属が高分散されやすく、活性が高められるため、吸着熱によってアンモニアの酸化分解反応が可能になったものと考えられる。
(第2の実施形態)
第2実施形態に係る水素の製造方法は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、上記金属が還元状態にある触媒に酸素を接触させて上記発熱を得ることができる。この場合、上記担体がLa、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことが好ましい。
上記担体は、例えば、La、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことが好ましい。
上記酸化物を含む担体の調製方法は、特に限定されるものではなく、例えば、La、Mg若しくはAlの硝酸塩、水酸化物又は酸化物などを出発原料として、公知の方法、例えば空気中において焼成処理する、又は、水溶液を用いて単独あるいは混合したのちに、水熱処理、中和、焼成などの工程を単独あるいは組み合わせて施すことにより、上記酸化物を含む担体を得ることができる。
担体は、上記酸化物以外の化合物を含有することができる。例えば、成型体として機械的強度を維持する目的でアルミナなどをバインダー成分として用いることができる。
担体の形状は、円筒状、ペレット状、球状、塊状、粉状とすることができる。本実施形態においては、担体の粉化や異物混入などによって触媒間の空隙が閉塞して反応流体の流通が妨げられたり、差圧が発生したりすることが無いよう、円筒状、ペレット、球状、塊状のいずれかの形状を有することが望ましい。
本実施形態に係る触媒において、上記活性金属の含有量は、触媒の全質量を基準として、0.1〜50.0質量%であることが好ましく、0.5〜40.0質量%であることがより好ましく、1.0〜30.0質量%であることがさらに好ましい。
上記金属の担体への担持方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を適用することにより容易に行うことができる。例えば、含浸法、沈着法、共沈法、混練法、イオン交換法、ポアフィリング法等が挙げられ、特に含浸法が望ましい。触媒を製造する際の金属の出発物質は、前記の担持法により異なり、適宜選択することができるが、通常、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を用いることができる。具体的には、Ru(C、RuCl、Ru(NO)(NO(OH)、Rh(NO・2HO、Ru(CO)12、[(CH3COO)Rh]、[Rh(C15COO)、RhCl・nHO、Rh(NO、Rh(C)x・nHO、C1521IrO、IrCl・nHO、Ni(NO・6HO、(CHCOO)Ni・4HO、NiCl・6HO、Ni(O・nHO、Co(NO・6HO、(CHCOCHCOCHCo・2HO、Co(CO)、CoCl・6HOを用いることができる。
含浸法を適用する場合、例えば、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を水または有機溶剤に加えた溶液を調製し、前記の担体に含浸させたのち、乾燥、必要に応じ焼成する方法を例示することができる。
焼成は、通常、空気や窒素雰囲気下などで行われ、温度は、上記塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物の分解温度以上であれば特に限定されないが、例えば、100〜1000℃、好ましくは200〜900℃、より好ましくは250〜800℃が望ましい。
次に、本実施形態に係る水素の製造方法の具体的な手順について説明する。
本実施形態においては、触媒を還元するための前処理を行うことが好ましい。
前処理は、触媒の酸化還元特性に応じて適宜その条件を設定することができ、例えば、触媒を反応器に充填して触媒層を設けた後、100〜800℃、好ましくは400〜700℃、さらに好ましくは500〜700℃の触媒層温度で、5分〜5時間、好ましくは10分〜3時間、さらに好ましくは30分〜2時間、水素ガス或いは水素を含むガスを流通させることにより行うことができる。
触媒の前処理が終了すれば、Heなどの不活性ガスを流通させながら触媒層の加熱を止め、そのまま室温で保持することができる。
次に、金属及び担体が還元状態にある触媒に酸素を接触させる。本実施形態においては、アンモニア及び酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを触媒層に供給することにより、触媒を発熱させることが好ましい。この場合、触媒の温度がアンモニアの燃焼開始温度に達成するとアンモニアの燃焼反応を開始させることができる。そして、アンモニアの燃焼反応による発熱によって触媒の温度がアンモニアの酸化分解反応開始温度に到達すると、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。
上記反応ガスにおけるアンモニアと酸素との体積比は、1.0:0.095〜0.5が好ましく、1.0:0.2〜0.4がより好ましい。空気を用いる場合、上記のアンモニアと酸素の比率になるよう空気の量を調節することができる。反応ガスには、発熱量を調整するために、ヘリウムなどの不活性ガスを随伴させることもできる。
こうして、アンモニアを含む反応ガスから水素を含む生成ガスを得ることができる。
本実施形態の水素の製造方法によれば、例えば、図1及び2に示されるような水素製造装置において、反応停止・触媒層を降温した後、還元雰囲気下(例えば、水素雰囲気下)あるいは不活性雰囲気下で触媒系を維持することにより、上述したような前処理(スタート前の加熱・水素還元処理など)を施すことなく2回目の起動が可能となる。具体的には、例えば、Heなどの不活性ガスを流通させることで触媒層の発熱を止め、触媒層を常温まで降温した後、反応ガスを供給することにより再起動が可能となる。このとき、反応ガスを供給する前にアンモニア及びヘリウムの混合ガスを供給し、続いて酸素を供給してもよい。
上記の効果は、アンモニアの酸化分解反応で生成する水素によって金属がin−situ還元されることによるものと考えられる。
本実施形態において、二回目又は三回目以降の起動時には、アンモニアと酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを供給、又はアンモニアを先に供給してから酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを供給することが望ましい。また、アンモニア及びヘリウムの混合ガスを供給し、続いて酸素を供給した後、反応ガスを供給することができる。
(第3の実施形態)
第3実施形態に係る水素の製造方法は、Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、Al及びSiOからなる群より選択される一種以上の酸化物を含む担体を有する触媒にアンモニアを接触させて上記発熱を得ることができる。
上記酸化物としては、例えば、γ−Al、SiO及びSiO−Alが挙げられる。
起動性の観点から、担体がAl及びSiOのうちの1種以上を含むことが好ましい。担体が、これらの酸化物を含むことによりアンモニアの燃焼開始温度を低くできる。
また、繰り返しの起動が外部加熱なしに容易にできる点で、担体がAlを含むことが好ましい。さらに、Alはγ−Alであることがより好ましい。
上記酸化物を含む担体の調製方法は、特に限定されるものではなく、例えば、Alの原料としては硝酸塩、硫酸塩などから調製したアルミニウム水溶液を用いて水酸化アルミニウムゲルを調製してもよく、このほか市販の酸化アルミニウム中間体やベーマイトパウダーを用いてもよい。SiOの原料としてはケイ酸、水ガラス、シリカゾルなどを用いることができる。Al及びSiOを組み合わせる場合、前記のアルミ原料溶液や、混練する工程においてSi原料を添加してもよく、好ましくは混練工程の前でAl原料とあらかじめ混合させることがより好ましい。これらを調合後、例えば空気中において焼成処理する、又は、水溶液を用いて単独あるいは混合したのちに、水熱処理、中和、焼成などの工程を単独あるいは組み合わせて施すことにより、上記酸化物を含む担体を得ることができる。
担体は、上記酸化物以外の化合物を含有することができる。例えば、成型体として機械的強度を維持する目的でアルミナなどをバインダー成分として用いることができる。
担体の形状は、円筒状、ペレット状、球状、塊状、粉状とすることができる。本実施形態においては、担体の粉化や異物混入などによって触媒間の空隙が閉塞して反応流体の流通が妨げられたり、差圧が発生したりすることが無いよう、円筒状、ペレット、球状、塊状のいずれかの形状を有することが望ましい。
本実施形態に係る触媒において、上記活性金属の含有量は、触媒の全質量を基準として、0.1〜50.0質量%であることが好ましく、0.5〜40.0質量%であることがより好ましく、1.0〜30.0質量%であることがさらに好ましい。
上記金属の担体への担持方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法を適用することにより容易に行うことができる。例えば、含浸法、沈着法、共沈法、混練法、イオン交換法、ポアフィリング法等が挙げられ、特に含浸法が望ましい。触媒を製造する際の金属の出発物質は、前記の担持法により異なり、適宜選択することができるが、通常、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を用いることができる。具体的には、Ru(C、RuCl、Ru(NO)(NO(OH)、Rh(NO・2HO、Ru(CO)12、[(CH3COO)Rh]、[Rh(C15COO)、RhCl・nHO、Rh(NO、Rh(C)x・nHO、C1521IrO、IrCl・nHO、Ni(NO・6HO、(CHCOO)Ni・4HO、NiCl・6HO、Ni(O・nHO、Co(NO・6HO、(CHCOCHCOCHCo・2HO、Co(CO)、CoCl・6HOを用いることができる。
含浸法を適用する場合、例えば、塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物を水または有機溶剤に加えた溶液を調製し、前記の担体に含浸させたのち、乾燥、必要に応じ焼成する方法を例示することができる。
焼成は、通常、空気や窒素雰囲気下などで行われ、温度は、上記塩化物、硝酸塩、酢酸等の有機酸塩、カルボニル化物の分解温度以上であれば特に限定されないが、例えば、100〜1000℃、好ましくは200〜900℃、より好ましくは250〜800℃が望ましい。
次に、本実施形態に係る水素の製造方法の具体的な手順について説明する。
本実施形態においては、担体の酸点を発現させるための前処理を行うことが好ましい。
前処理は、例えば、触媒を反応器に充填して触媒層を設けた後、10〜800℃、好ましくは50〜700℃、より好ましくは100〜500℃に加熱した触媒層に不活性ガスとして例えばHeガスを5分〜5時間、好ましくは10分〜3時間、より好ましくは30分〜2時間流通させ、その後触媒層の温度を例えば100℃〜常温に低下させることにより行うことができる。触媒層の温度を低下させる際には触媒上の酸点を維持するためにHeでパージを行うことが好ましい。
担体がγ−Alを含む場合、酸素を含むガスにより前処理を行うことができる。この場合、空気とアンモニアとわずかな熱源があれば、水素製造装置を繰り返し起動させることが可能となり、容易に水素を得ることができ好ましい。
次に、触媒にアンモニアを接触させる。本実施形態においては、アンモニア及び酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを触媒層に供給することにより、触媒を発熱させることが好ましい。この場合、触媒の温度がアンモニアの燃焼開始温度に達成するとアンモニアの燃焼反応を開始させることができる。そして、アンモニアの燃焼反応による発熱によって触媒の温度がアンモニアの酸化分解反応開始温度に到達すると、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。
なお、触媒にアンモニアを接触させることにより得られる発熱は、上記酸化物の酸点にアンモニアが吸着することによるものと考えられる。
上記反応ガスにおけるアンモニアと酸素との体積比は、1.0:0.095〜0.5が好ましく、1.0:0.2〜0.4がより好ましい。空気を用いる場合、上記のアンモニアと酸素の比率になるよう空気の量を調節することができる。反応ガスには、発熱量を調整するために、ヘリウムなどの不活性ガスを随伴させることもできる。
こうして、アンモニアを含む反応ガスから水素を含む生成ガスを得ることができる。
本実施形態の水素の製造方法によれば、例えば、図1及び2に示されるような水素製造装置において、反応停止・触媒層を降温した後、不活性雰囲気下あるいは還元雰囲気下(例えば、水素雰囲気下)で触媒系を維持することにより、上述したような前処理(スタート前の加熱・水素還元処理など)を施すことなく2回目の起動が可能となる。なお、このとき触媒が酸素を含むガスに触れても、アンモニアの吸着点が十分に残れば、前処理を施すことなく2回目の起動が可能となる。具体的には、例えば、Heなどの不活性ガスを流通させることで触媒層の発熱を止め、触媒層を常温まで降温した後、反応ガスを供給することにより再起動が可能となる。このとき、反応ガスを供給する前に酸素を供給してもよい。
上記の効果は、アンモニアの酸化分解反応の反応熱によって吸着したアンモニアが担体からin−situ脱離され、酸点が再び発現することによるものと考えられる。
本実施形態において、二回目又は三回目以降の起動時には、アンモニアと酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを供給、又は酸素(好ましくは空気)を先に供給してからアンモニアを含む反応ガスを供給することが望ましい。
また、本実施形態においては、担体に含まれる酸化物としてAlを用いる場合、800℃以下、好ましくは室温(25℃程度)〜800℃、より好ましくは室温(25℃程度)〜600℃の触媒層温度で、水素ガス或いは水素を含むガスを流通させることにより触媒を還元するための前処理を行うことができる。その後、金属及び担体が還元状態にある触媒に酸素を接触させることにより、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。本実施形態においては、アンモニア及び酸素(好ましくは空気)を含む反応ガスを触媒層に供給することにより、触媒を発熱させることが好ましい。この場合、触媒の温度がアンモニアの燃焼開始温度に達成するとアンモニアの燃焼反応を開始させることができる。そして、アンモニアの燃焼反応による発熱によって触媒の温度がアンモニアの酸化分解反応開始温度に到達すると、アンモニアの酸化分解反応を開始させることができる。
(実施例A−1)
Ru(CO)12(田中貴金属工業(株)製)をテトラヒドロフランに溶かした溶液に、CeO粒子(沈殿法により調製し、空気中700℃で5時間焼成したもの)を含浸した後、ロータリーエバポレーターにて蒸発乾固し、Ruの担持量が触媒の全質量を基準として5質量%となるように担持を行った。次に、得られた含浸物をHe流通下、350℃で5時間、加熱処理して、アンモニアの酸化分解触媒A−1を得た。
(実施例A−2)
CeO粒子に代えて、Ce0.5Zr0.5粒子(沈殿法により調製し、空気中700℃で5時間焼成したもの)を用いたこと以外は実施例A−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒A−2を得た。
(実施例A−3)
CeO粒子に代えて、Pr11粒子(沈殿法により調製し、空気中700℃で5時間焼成したもの)を用いたこと以外は実施例A−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒A−3を得た。
図1と同様の構成を有する反応装置を用意した。反応装置は、直径7mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器と、この容器を囲むように設けられたセラミック製断熱材とを有しており、石英ウールで仕切られた触媒層の上流側及び下流側にはα−Alボールが充填されている。反応装置の内部には触媒層にまで到達する熱電対が設けられており、これにより触媒層の温度を測定することができる。また、反応器の外側に設けられた電気炉により触媒層、石英ウール、α−Alボールを加熱することができる。
上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、水素ガスを600℃で1時間流通させることにより触媒を還元した。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
また、前処理後の触媒A−1〜A−3について酸素吸収量を測定したところ、還元されたRuへの酸素吸収が起きていることが確認され、前処理によってRuの一部が還元されたことが確認された。
アンモニアの酸化分解触媒A−1を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から1分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が424℃に達し、その後の生成ガス中には収率21%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ54%及び100%であった。
アンモニアの酸化分解触媒A−2を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から1分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が596℃に達し、その後の生成ガス中には収率36%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ70%及び100%であった。
また、アンモニアの酸化分解触媒A−2を用いた場合には、反応を一時停止した後に外部加熱を行うことなく、反応ガスの導入によって再起動できることが確認され、4回目の再起動後においても初期と同様の水素収率、並びにアンモニア及び酸素の転化率が維持されることが確認された。
アンモニアの酸化分解触媒A−3を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から1分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が358℃に達し、その後の生成ガス中には収率45%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ79%及び100%であった。
上記のとおり、アンモニアの酸化分解触媒A−1〜A−3によれば、アンモニアの酸化分解のコールドスタートが可能であることが分かった。なお、このような効果が得られるメカニズムとしては、還元された担体及びRuが反応ガス中の酸素により酸化され、触媒層温度が急激に上昇し、アンモニアの燃焼開始温度に達し、更にアンモニアの燃焼反応による発熱で反応が継続することで外部からの加熱なしにアンモニアの酸化分解反応が進行することが考えられる。
(実施例A−4)
図2と同様の構成を有する反応装置を用意した。反応装置は、直径7mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器と、この容器の触媒層から下流部分を囲むように設けられたセラミック製断熱材とを有しており、石英ウールで仕切られた触媒層の下流側にはα−Al2O3ボールが充填されている。反応装置の内部には触媒層にまで到達する熱電対が設けられており、これにより触媒層の温度を測定することができる。また、反応器の外側に設けられた電気炉により触媒層、石英ウール、α−Alボールを加熱することができる。
実施例A−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒A−1と、上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、水素ガスを室温(25℃未満)で1時間流通させることにより触媒を還元した。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率63%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ96%及び100%であった。
また、Heによるパージを行い反応を一時停止し、触媒層を室温まで放冷した後に、反応ガスの導入によって、外部加熱を行うことなく再起動できることが確認された。また、4回目の再起動後においても初期と同様の水素収率、並びにアンモニア及び酸素の転化率が維持されることが確認され、繰り返しの常温起動が可能であった。
また、上記前処理における温度を25℃又は100℃に変更した場合も、水素の製造が可能であることが確認された。
(実施例A−5)
アンモニアの酸化分解触媒A−1に代えて、実施例A−2と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒A−2を用いたこと以外は実施例A−4と同様にして水素の製造を行った。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率54%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ87%及び100%であった。
また、上記前処理における温度を25℃に変更した場合も、水素の製造が可能であることが確認された。
(実施例A−6)
アンモニアの酸化分解触媒A−1に代えて、実施例A−3と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒A−3を用い、水素ガスを200℃で1時間流通させることにより触媒を還元したこと以外は実施例A−4と同様にして水素の製造を行った。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率66%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ99%及び100%であった。
(実施例A−7)
実施例A−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒A−1と、上記の図2と同様の構成を有する反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、ヘリウムガスを200℃で0.5時間流通させた。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率62%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ94%及び100%であった。
(実施例B−1)
Ru(CO)12(田中貴金属工業(株)製)をテトラヒドロフランに溶かした溶液に、La粒子(沈殿法により調製し、空気中700℃で5時間焼成したもの)を含浸した後、ロータリーエバポレーターにて蒸発乾固し、Ruの担持量が触媒の全質量を基準として5質量%となるように担持を行った。次に、得られた含浸物をHe流通下、350℃で5時間、加熱処理して、アンモニアの酸化分解触媒B−1を得た。
(実施例B−2)
La粒子に代えて、MgO粒子(宇部マテリアル社製(JRC−MgO−3)、空気中700℃で5時間焼成したもの)を用いたこと以外は実施例B−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒B−2を得た。
(実施例B−3)
La粒子に代えて、Mg−Alオキサイド粒子(粘土状化合物であるハイドロタルサイト(Mg:Al=3:1)を沈殿法により調製し、空気中700℃で5時間焼成したもの)を用いたこと以外は実施例B−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒B−3を得た。
図1と同様の構成を有する反応装置を用意した。反応装置は、直径7mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器と、この容器を囲むように設けられたセラミック製断熱材とを有しており、石英ウールで仕切られた触媒層の上流側及び下流側にはα−Alボールが充填されている。反応装置の内部には触媒層にまで到達する熱電対が設けられており、これにより触媒層の温度を測定することができる。また、反応器の外側に設けられた電気炉により触媒層、石英ウール、α−Alボールを加熱することができる。
上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、水素ガスを600℃で1時間流通させることにより触媒を還元した。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
また、前処理後の触媒B−1〜B−3について酸素吸収量を測定したところ、還元されたRuへの酸素吸収が起きていることが確認され、前処理によってRuの一部が還元されたことが確認された。なお、具体的な数値としては、触媒B−1の場合、前処理後に286μmol/gの酸素吸収量が測定され、Ruがすべて還元された場合の理論値495μmol/gに対して58%の値であった。
アンモニアの酸化分解触媒B−1を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から1分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が515℃に達し、その後の生成ガス中には収率59%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ92%及び100%であった。
アンモニアの酸化分解触媒B−2を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から2分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が338℃に達し、その後の生成ガス中には収率47%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ80%及び100%であった。
アンモニアの酸化分解触媒B−3を用いた場合、反応ガス供給開始5秒後から触媒層の上流側が赤熱し始めることが確認され、反応ガス供給開始から3分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が339℃に達し、その後の生成ガス中には収率25%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ58%及び100%であった。
上記のとおり、アンモニアの酸化分解触媒B−1〜B−3によれば、アンモニアの酸化分解のコールドスタートが可能であることが分かった。なお、このような効果が得られるメカニズムとしては、還元されたRuが反応ガス中の酸素により酸化され、触媒層温度が急激に上昇し、アンモニアの燃焼開始温度に達し、更にアンモニアの燃焼反応による発熱で反応が継続することで外部からの加熱なしにアンモニアの酸化分解反応が進行することが考えられる。
(実施例B−4)
図2と同様の構成を有する反応装置を用意した。反応装置は、直径7mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器と、この容器の触媒層から下流部分を囲むように設けられたセラミック製断熱材とを有しており、石英ウールで仕切られた触媒層の下流側にはα−Al2O3ボールが充填されている。反応装置の内部には触媒層にまで到達する熱電対が設けられており、これにより触媒層の温度を測定することができる。また、反応器の外側に設けられた電気炉により触媒層、石英ウール、α−Alボールを加熱することができる。
実施例B−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒B−1と、上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、水素ガスを500℃で1時間流通させることにより触媒を還元した。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率63%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ96%及び100%であった。
(実施例C−1)
Ru(CO)12(田中貴金属工業(株)製)をテトラヒドロフランに溶かした溶液に、γ−Al粒子(住友化学社製、高純度アルミナ AKP−G15 (JRC−ALO−8)、空気中700℃で5時間焼成したもの)を含浸した後、ロータリーエバポレーターにて蒸発乾固し、Ruの担持量が触媒の全質量を基準として5質量%となるように担持を行った。次に、得られた含浸物をHe流通下、350℃で5時間、加熱処理して、アンモニアの酸化分解触媒C−1を得た。
(実施例C−2)
γ−Al粒子に代えて、SiO粒子(AEROSIL300、未焼成で使用)を用いたこと以外は実施例C−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒C−2を得た。
(実施例C−3)
γ−Al粒子に代えて、SiO−Al粒子(触媒化成社製、IS−28E、未焼成で使用)を用いたこと以外は実施例C−1と同様にして、アンモニアの酸化分解触媒C−3を得た。
図2と同様の構成を有する反応装置を用意した。反応装置は、直径7mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器と、この容器の触媒層から下流部分を囲むように設けられたセラミック製断熱材とを有しており、石英ウールで仕切られた触媒層の下流側にはα−Alボールが充填されている。反応装置の内部には触媒層にまで到達する熱電対が設けられており、これにより触媒層の温度を測定することができる。また、反応器の外側に設けられた電気炉により触媒層、石英ウール、α−Alボールを加熱することができる。
上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、ヘリウムガスを350℃で0.5時間流通させた。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
アンモニアの酸化分解触媒C−1を用いた場合、反応ガス供給開始から2分後に触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が359℃に達し、その後の生成ガス中には収率61%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ96%及び100%であった。
また、アンモニアの酸化分解触媒C−1を用いた場合には、反応を一時停止した後に外部加熱を行うことなく、反応ガスの導入によって再起動できることが確認され、4回目の再起動後においても初期と同様の水素収率、並びにアンモニア及び酸素の転化率が維持されることが確認された。なお、反応の一時停止中に触媒が酸素含有ガスに触れRuが酸化されても、外部加熱なしの反応ガスの導入による再起動は可能であった。
アンモニアの酸化分解触媒C−2を用いた場合、反応ガス供給開始から2分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が390℃に達し、その後の生成ガス中には収率58%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ92%及び100%であった。
アンモニアの酸化分解触媒C−3を用いた場合、反応ガス供給開始から2分後には触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が330℃に達し、その後の生成ガス中には収率56%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ89%及び100%であった。
上記のとおり、アンモニアの酸化分解触媒C−1〜C−3によれば、アンモニアの酸化分解のコールドスタートが可能であることが分かった。なお、このような効果が得られるメカニズムとしては、担体の酸点に反応ガス中のアンモニアが吸着し、吸着熱により触媒層温度が急激に上昇し、アンモニアの燃焼開始温度に達し、更にアンモニアの燃焼反応による発熱で反応が継続することで外部からの加熱なしにアンモニアの酸化分解反応が進行することが考えられる。また、上記の担体によるアンモニアの燃焼開始温度の低減効果もコールドスタートに寄与していると考えられる。
(実施例C−4)
実施例C−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒C−1を用意し、直径9mmの円筒状の常圧固定床流通式反応器を備えること以外は実施例C−1で用いた反応装置と同様の構成を有する装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。まず、前処理として、触媒0.4gを充填した触媒層を加熱し、酸素及びヘリウムの混合ガス(体積比O/He=1/4)を120℃で0.5時間流通させた。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=250/62.5/34.7(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
反応ガス供給開始から2分後に触媒層に挿し込んだ熱電対の温度が342℃に達し、その後の生成ガス中には収率64%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ98%及び100%であった。
また、反応を一時停止した後に外部加熱を行うことなく、反応ガスの導入によって再起動できることが確認され、4回目の再起動後においても初期と同様の水素収率、並びにアンモニア及び酸素の転化率が維持されることが確認された。なお、反応の一時停止中に触媒が酸素含有ガスに触れRuが酸化されても、外部加熱なしの反応ガスの導入による再起動は可能であった。
(実施例C−5)
実施例C−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒C−1と、上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、ヘリウムガスを300℃で0.5時間流通させた。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率63%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ97%及び100%であった。
また、Heによるパージを行い反応を一時停止し、触媒層を室温まで放冷した後に、更に反応ガスの導入によって、外部加熱を行うことなく再起動できることが確認された。また、4回目の再起動後においても初期と同様の水素収率、並びにアンモニア及び酸素の転化率が維持されることが確認され、繰り返しの常温起動が可能であった。
(実施例C−6)
空気中700℃で5時間焼成したSiO−Al粒子を用いた以外は実施例C−3と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒と、上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、ヘリウムガスを300℃で0.5時間流通させた。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率59%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ92%及び100%であった。
(実施例C−7)
実施例C−1と同様にして得られたアンモニアの酸化分解触媒C−1と、上記の反応装置を用いて以下の手順により水素の製造を行った。
まず、前処理として、触媒0.2gを充填した触媒層を加熱し、水素ガスを50℃で1時間流通させることにより触媒を還元した。その後、触媒層の加熱を止め、Heでパージを行った。触媒層の温度が常温に低下した後、NH、O及びHeが混合した反応ガスをNH/O/He=150/37.5/20.8(ml/分)の割合で反応装置の入口から常温で供給し、生成ガスをGC−TCD(GC−8A、島津製作所製)により分析した。
駆動開始から30分後の生成ガス中には収率64%の水素が含まれることが確認された。このときのアンモニア及び酸素の転化率はそれぞれ97%及び100%であった。
また、上記前処理における温度を400℃に変更した場合も、水素の製造が可能であることが確認された。
1,2…水素製造装置、10…反応器、20…触媒層、30…断熱材、40…仕切材、50…不活性充填材。

Claims (14)

  1. Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される1種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有する触媒に、アンモニア及び酸素を含む反応ガスを接触させることによりアンモニアを酸化分解して水素を製造するに際し、前記触媒による発熱を利用してアンモニアの酸化分解反応を開始することを特徴とする水素の製造方法。
  2. 前記金属及び前記担体が還元状態にある前記触媒に酸素を接触させて前記発熱を得ることを特徴とする請求項1に記載の水素の製造方法。
  3. 前記担体がCe、Zr及びPrから選択される1種又は2種以上の元素を含む酸化物を1種以上含むことを特徴とする請求項2に記載の水素の製造方法。
  4. 前記金属が還元状態にある前記触媒に酸素を接触させて前記発熱を得ることを特徴とする請求項1に記載の水素の製造方法。
  5. 前記担体がLa、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことを特徴とする請求項4に記載の水素の製造方法。
  6. 前記触媒が、アンモニア及び酸素を含む反応ガスから生成した水素を含む生成ガスによって還元されることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の水素の製造方法。
  7. 前記担体が酸点を有する状態にある前記触媒にアンモニアを接触させて前記発熱を得ることを特徴とする請求項1に記載の水素の製造方法。
  8. Al及びSiOからなる群より選択される一種以上の酸化物を含む前記担体を有する前記触媒にアンモニアを接触させて前記発熱を得ることを特徴とする請求項7に記載の水素の製造方法。
  9. 前記触媒が、アンモニアの酸化分解反応の反応熱によってアンモニアが脱離されることを特徴とする請求項7又は8に記載の水素の製造方法。
  10. 前記アンモニアの酸化分解反応の開始及び終了を繰り返すときに当該反応の間で室温にある前記触媒が酸素と接触することを特徴とする請求項7〜9のいずれか一項に記載の水素の製造方法。
  11. Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、前記担体がCe、Zr及びPrから選択される1種又は2種以上の元素を含む酸化物を1種以上含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒。
  12. Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、前記担体がLa、MgO及びMg−Alオキサイドからなる群より選択される1種以上の酸化物を含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒。
  13. Ru、Co、Rh、Ir及びNiからなる群より選択される一種以上の金属と、該金属を担持する担体と、を有し、前記担体がAl及びSiOからなる群より選択される一種以上の酸化物を含むことを特徴とするアンモニアの酸化分解触媒。
  14. 請求項11〜13のいずれか一項に記載のアンモニアの酸化分解触媒を備えることを特徴とする水素製造装置。
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