JP2014095062A - スチレン系ポリマー溶液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スチレン系ポリマーを含有するスチレン系ポリマー溶液であって、前記スチレン系ポリマーがスチレン系モノマーおよび式(I):
(式中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を示す)で表わされるエーテル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなるスチレン系ポリマーであり、スチレン系モノマーの含有率が0.8質量%以下であることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
(1) スチレン系ポリマーを含有するスチレン系ポリマー溶液であって、スチレン系モノマーおよび式(I):
で表わされるエーテル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなるスチレン系ポリマーを含有し、スチレン系モノマーの含有率が0.8質量%以下であることを特徴とするスチレン系ポリマー溶液、
(2) モノマー成分がさらにカルボキシル基含有モノマーを含有する前記(1)に記載のスチレン系ポリマー溶液、
(3) 前記スチレン系ポリマー溶液の用途が塗膜形成用である前記(1)または(2)に記載のスチレン系ポリマー溶液、および
(4) スチレン系ポリマー溶液を製造する方法であって、スチレン系モノマーおよび式(I):
で表わされるエーテル系モノマーを含有するモノマー成分を、当該モノマー成分に対する連鎖移動剤の量を0.05質量%以下に調整して重合させることを特徴とする、スチレン系ポリマーを含有し、スチレン系モノマーの含有率が0.8質量%以下であるスチレン系ポリマー溶液の製造方法
に関する。
〔スチレン系モノマーの含有率(質量%)[×104ppm(換算)]〕
=[モノマー成分に使用されるスチレン系モノマーの量(質量部)]×[100−スチレン系モノマーの反応率(%)]÷[モノマー成分の量(質量部)]
に基づいて求められる値を意味する。
モノマー滴下槽にモノマー成分としてスチレン35質量部、ジメチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート15質量部、メタクリル酸32質量部およびメチルメタクリレート18質量部、重合開始剤としてtert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート〔日油(株)製、商品名:パーブチルO〕6質量部、および溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を均一な組成となるように攪拌下で混合することにより、モノマー成分を得た。
スチレン系ポリマー溶液1gにアセトン4gを加えて溶解させた溶液を、常温で自然乾燥させ、さらに160℃で5mmHgの減圧度にて5時間減圧乾燥させ、デシケータ内で放冷させた後、スチレン系ポリマーの質量を測定した。スチレン系ポリマー溶液の質量(1g)およびスチレン系ポリマーの質量に基づき、スチレン系ポリマー溶液におけるスチレン系ポリマーの濃度を求めた。
ガスクロマトグラフィー測定装置〔(株)島津製作所製、品番:GC−17A〕を用いてスチレン系ポリマー溶液に含まれているスチレン系モノマーの量を求め、スチレン系モノマーの仕込み量から反応率を求めた。
ゲル透過クロマトグラフ測定装置〔昭和電工(株)製、商品名:Shodex GPC System−21H〕を用い、溶離液としてテトラヒドロフランを用いてポリスチレン換算でスチレン系ポリマーの重量平均分子量を測定した。
スチレン系ポリマー溶液0.5〜1gに、アセトン80mLおよび水10mLを添加し、攪拌することによって均一な組成となるように溶解させることによって溶液を得た。濃度が0.1mol/Lの水酸化カリウム水溶液を滴定液として用い、自動滴定装置〔平沼産業(株)製、品番:COM−555〕を用いて前記溶液を滴定し、当該溶液の酸価を測定した。この溶液の酸価とスチレン系ポリマーの濃度に基づいて当該スチレン系ポリマーの酸価を求めた。
スチレン系ポリマー溶液における未反応のスチレン系モノマーの含有率は、モノマー成分に使用されたスチレン系モノマーの量、前記で求められたスチレン系モノマーの反応率およびモノマー成分の量に基づいて求めた。より具体的には、未反応のスチレン系モノマーの含有率は、式:
〔スチレン系モノマーの含有率(質量%)[×104ppm(換算)]〕
=[モノマー成分に使用されるスチレン系モノマーの量(質量部)]×[100−スチレン系モノマーの反応率(%)]÷[モノマー成分の量(質量部)]
に基づいて求めた。
(1)残渣
前記塗膜の表面を光学顕微鏡で観察し、未露光部における塗膜の溶け残りの有無を観察し、以下の評価基準に基づいて評価した。
(評価基準)
◎:塗膜が溶解しており、溶け残りの残渣は認められない。
○:塗膜が溶解しているが、溶け残りの残渣がごく僅か認められる。
△:塗膜が溶解しているが、溶け残りの残渣が明らかに認められる。
×:塗膜が溶解していない。
前記塗膜の表面を光学顕微鏡で観察し、露光部における塗膜を観察し、以下の評価基準に基づいて評価した。
(評価基準)
◎:塗膜が露光部で硬化することにより、完全なパターンが形成されている。
○:塗膜が露光部で硬化することにより、ほぼ完全なパターンが形成されている。
△:塗膜が露光部で硬化しているが、完全なパターンが形成されているとはいえない。
×:塗膜が露光部で硬化していない。
実施例1において、スチレンの代わりにビニルトルエン35質量部を用いたこと以外は、実施例1と同様にしてスチレン系ポリマーの濃度が33質量%のスチレン系ポリマー溶液を得た。
実施例1において、モノマー滴下槽に投入するtert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(重合開始剤)の量を6質量部から10質量部に変更したこと以外は、実施例1と同様にしてスチレン系ポリマーの濃度が33質量%のスチレン系ポリマー溶液を得た。
実施例1において、メタクリル酸の量を32質量部から16質量部に変更し、メチルメタクリレートの量を18質量部から34質量部に変更し、グリシジルメタクリレートを使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にしてスチレン系ポリマーの濃度が29質量%のスチレン系ポリマー溶液を得た。
モノマー滴下槽にモノマー成分としてスチレン35質量部、ジメチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート15質量部、メタクリル酸32質量部およびメチルメタクリレート18質量部、重合開始剤としてtert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート〔日油(株)製、商品名:パーブチルO〕6質量部、および溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート40質量部を均一な組成となるように攪拌下で混合することにより、モノマー成分を得た。
モノマー滴下槽にモノマー成分としてスチレン35質量部、ジメチル−2,2’−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート10質量部、メタクリル酸16質量部およびメチルメタクリレート39質量部、重合開始剤としてtert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート〔日油(株)製、商品名:パーブチルO〕5質量部、および溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20質量部を均一な組成となるように攪拌下で混合することにより、モノマー成分を得た。
Claims (4)
- スチレン系ポリマーを含有するスチレン系ポリマー溶液であって、スチレン系モノマーおよび式(I):
で表わされるエーテル系モノマーを含有するモノマー成分を重合させてなるスチレン系ポリマーを含有し、スチレン系モノマーの含有率が0.8質量%以下であることを特徴とするスチレン系ポリマー溶液。 - モノマー成分がさらにカルボキシル基含有モノマーを含有する請求項1に記載のスチレン系ポリマー溶液。
- 前記スチレン系ポリマー溶液の用途が塗膜形成用である請求項1または2に記載のスチレン系ポリマー溶液。
- スチレン系ポリマー溶液を製造する方法であって、スチレン系モノマーおよび式(I):
で表わされるエーテル系モノマーを含有するモノマー成分を、当該モノマー成分に対する連鎖移動剤の量を0.05質量%以下に調整して重合させることを特徴とする、スチレン系ポリマーを含有し、スチレン系モノマーの含有率が0.8質量%以下であるスチレン系ポリマー溶液の製造方法。
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