JP2014088285A - 乾式シリカ微粒子 - Google Patents

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Abstract

【課題】 比表面積が20〜60m/gの範囲にありながら、既存の同サイズの乾式シリカ微粒子よりも、一次粒子径の粒度まで容易に分散される優れた分散特性を有し、エポキシ樹脂に充填した樹脂組成物において低い粘度を実現でき、前記樹脂用樹脂充填剤やトナー用乾式シリカ微粒子として有用な乾式シリカ微粒子を提供する。
【解決手段】 シロキサン等の珪素化合物の燃焼によって得られた、BET比表面積が20〜60m/g乾式シリカ微粒子であって、100×DCS/DUSAXSが100〜110である乾式シリカ微粒子。
ここで、DCSは遠心沈降法による該乾式シリカ微粒子の重量基準粒度分布のメジアン径であり、DUSAXSは超小角X線散乱法による該乾式シリカ微粒子の体積基準粒度分布のメジアン径である。
【選択図】 なし

Description

本発明は、半導体封止剤等に使用する樹脂組成物の充填剤や電子写真用トナーの外添剤などとして好適に使用できる新規な乾式シリカに関する。
比表面積20〜60m/gの乾式シリカ微粒子は、半導体封止剤や半導体実装用接着剤に添加される充填剤として、また、電子写真用トナー粒子の外添剤としての需要が見込まれる。
即ち、近年、半導体デバイスの小型化、薄型化に伴い、エポキシ樹脂組成物である半導体封止剤や半導体実装接着剤に添加される充填剤の粒子径が小さくなっていく傾向があり、比表面積20〜60m/g、一次粒子径に換算すると50〜150nm程度を有するシリカ微粒子が好適に用いられる(特許文献1参照)。
半導体デバイスの小型化、薄型化の進展は急速であり、成形性を重視する用途では、既存の比表面積20〜60m/gの乾式シリカ微粒子を充填剤として用いたエポキシ樹脂組成物では、その粘度が高く、不具合をきたすようになった。
一方、比表面積20〜60m/gの乾式シリカ微粒子は、電子写真用トナー粒子の外添剤として使用されたとき、長期の使用でもトナー樹脂粒子へ埋没しないため、長期の使用にわたって優れた流動性をトナー粒子に付与できることが知られている(特許文献1参照)。
電子写真用トナー粒子の外添剤には、良好に目的の粒度に分散される特性が要求される。
このため、比表面積20〜60m/g、一次粒子径に換算すると50〜150nm程度を有するシリカ微粒子であって、既存の同サイズの乾式シリカ微粒子よりも、エポキシ樹脂に充填したときの樹脂組成物の粘度が低く、また良好に目的の粒度に分散される特性を有するものが要求されるようになった。
特開2008−19157号公報
従って、本発明の目的は、比表面積が20〜60m/gの範囲にありながら、既存の同サイズの乾式シリカ微粒子よりも、一次粒子径の粒度まで容易に分散される優れた分散特性を有し、エポキシ樹脂に充填した樹脂組成物において低い粘度を実現でき、前記樹脂用樹脂充填剤やトナー用乾式シリカ微粒子として有用な乾式シリカ微粒子を提供することにある。
本発明者は、上記課題を解決すべく、珪素化合物の燃焼によって生成し、火炎中および火炎近傍において成長、凝集する乾式シリカ微粒子について、鋭意検討を行なった結果、乾式シリカ微粒子を生成するための火炎条件のみならずその冷却条件を調整することで、前記目的を達成した乾式シリカ微粒子を得ることに成功し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、珪素化合物の燃焼によって得られた乾式シリカ微粒子であって、以下の条件を満足することを特徴とする乾式シリカ微粒子である。
(1)BET比表面積が20〜60m/gである。
(2)100×DCS/DUSAXSが100〜110である。
ここで、DCSは遠心沈降法による該乾式シリカ微粒子の重量基準粒度分布のメジアン径であり、DUSAXSは超小角X線散乱法による該乾式シリカ微粒子の体積基準粒度分布のメジアン径である。
上記本発明の乾式シリカ微粒子においては、130℃での乾燥減量法により測定される水分量が0.5質量%以下であること、珪素化合物がシロキサン、特に、環状シロキサンであること、が好適である。
尚、本発明において、前記した遠心沈降法による粒度分布は、該乾式シリカ微粒子を1.5質量%濃度で出力20W、分散時間3分で水中分散させて得られる分散粒子の重量基準粒度分布である。遠心沈降法の粒度分布測定機の例としては、CPS Instruments Inc.製ディスク遠心式粒度分布測定装置DC24000が挙げられる。
また、本発明の超小角X線散乱法による粒度分布は、該乾式シリカ微粒子を1.5質量%濃度で出力20W、分散時間3分で水中分散させて得られる水懸濁液の超小角X線散乱スペクトルを体積基準粒度分布としてガンマ分布、粒子形状として球形を仮定し、スペクトルフィッティング操作で得られる体積基準粒度分布である。超小角X線散乱法では、分散粒子ではなく一次粒子に対する粒度分布が得られる。超小角X線散乱法の粒度分布測定としては、リガク製全自動水平型多目的X線回折装置SmartLabを用い、光学系として超小角X線散乱仕様の透過法小角散乱を適用し、得られた散乱スペクトルをリガク製解析ソフトNANO−Solverで粒度分布を解析する手法が挙げられる。
本発明の乾式シリカ微粒子は、BET比表面積が20〜60m/gであるにも拘わらず、実質的に1次粒子のレベルにまで分散される優れた分散性能を有しているため、樹脂組成物の微細な成形を可能とする粘度特性を付与でき、樹脂充填剤として極めて有用である。
また、本発明の乾式シリカ微粒子は、前記の極めて優れた分散性能を有しているため、電子写真用トナー製造における外添・混合工程において、処方によるバラツキなく、トナー樹脂粒子上に目的の粒度に分散される。このため、トナー製品に安定した流動性を付与できる効果を発揮する。したがって、電子写真用トナーの外添剤としても極めて有用である。
本発明の乾式シリカ微粒子は、珪素化合物の燃焼によって生成し、火炎中および火炎近傍において成長、凝集せしめる方法、所謂、「乾式法」により得られるシリカ微粒子であり、(1)BET比表面積が20〜60m/gの範囲にありながら、
(2)分散性能に特に優れる
という特性を有する。
上記分散性に優れた特性(2)は、100×DCS/DUSAXSが100〜110であることで特定される。ここで、DCSは遠心沈降法による該乾式シリカ微粒子の重量基準粒度分布のメジアン径であり、DUSAXSは超小角X線散乱法による該乾式シリカ微粒子の体積基準粒度分布のメジアン径である。
このように、比表面積が20〜60m/gの範囲にある乾式シリカ微粒子であって、前記特性(2)に示す分散性能を有する乾式シリカ粒子は、従来製造された例はなく、本発明によって初めて提供されるものである。即ち、前記特性(2)で示される本発明の乾式シリカ微粒子は、一次粒子同士の化学結合に基づく部分融着、あるいは強い物理的な粒子間力で形成される凝集粒子が存在しないか、ほとんど存在しないことを意味している。これに対して、従来の方法によって製造された乾式シリカ微粒子は、後述する製造方法の相違により、一次粒子同士の化学結合に基づく部分融着、あるいは強い粒子間力で形成される凝集粒子の形成を十分抑止できない結果、得られる乾式シリカ微粒子は、前記特性(2)で示される範囲を大きく上回るものとなり、本発明の前記効果を十分発揮することができない。
本発明の乾式シリカ微粒子は、前記特性を有することにより、微細成形が要求される樹脂組成物用の充填剤として、また、電子写真用トナー外添剤として、何れの用途においても好適に使用される。
即ち、本発明の乾式シリカ微粒子は、前記BET比表面積が前記範囲内であることにより、樹脂充填剤として樹脂組成物の微細成形を可能する。合わせて、樹脂組成物の成形・硬化後の組成物である硬化組成物に十分な強度を付与することができる。また、電子写真用トナー外添剤として適用した場合は、トナー樹脂粒子表面に埋没も脱落もすることなく、安定した付着性を有する。画像形成に際しての転写率向上を加味すれば、BET比表面積が25〜35m/gであることが、更に好ましい形態である。
また、本発明の乾式シリカ微粒子において、前記特性(2)に示す、100×DCS/DUSAXSが100〜110であることは、一次粒子で構成されるシリカ微粒子が一次粒子のレベルまで分散される優れた分散性能を有することを意味する。なお、DCSは遠心沈降法による該乾式シリカ微粒子の重量基準粒度分布のメジアン径であり、DUSAXSは超小角X線散乱法による該乾式シリカ微粒子の体積基準粒度分布のメジアン径である。遠心沈降法の粒度分布は後述のように媒体中に分散された分散粒子の粒度分布を表し、超小角X線散乱法の粒度分布は一次粒子の粒度分布を表す。このため、100×DCS/DUSAXSは分散粒子のメジアン径を一次粒子のメジアン径で割ったものに100を乗じたものを意味し、シリカ微粒子の分散特性を表現する。
前記特性(2)を有する前記乾式シリカ微粒子を樹脂充填剤として用いる場合、当該乾式シリカ微粒子は、樹脂中で、空間的に均一で特定の構造を有さない一次粒子として、実質的に振舞うため、得られる樹脂組成物は微細成形に必要な低粘度特性を有するものとなる。しかも、樹脂中で凝集粒子を形成することもなく、該凝集粒子の生成により微細成形における微細な型部分を凝集粒子が堰きとめ、成形に不具合をきたすことも効果的に防止できるという利点も有する。
さらに、前記特性(2)により、当該乾式シリカ微粒子が電子写真用トナー外添剤として用いられた場合、トナー樹脂粒子上に目的の粒度に分散されるため、安定した流動性を付与されたトナー製品とすることができるという効果を発揮する。
本発明の乾式シリカ微粒子は、前記特性を有するものであれば、その他の特性は特に制限されるものではないが、例えば、130℃での乾燥減量法により測定される水分量が0.5質量%以下であれば、シリカ微粒子の吸着水分による経時的な強固な凝集粒子形成を抑止できるため、長期保存の後でも上述の優位性を維持できるため、より好ましい形態である。
また、本発明の乾式シリカ微粒子は、その用途に応じて、シリル化剤、シリコーンオイル、シロキサン類、脂肪酸からなる群から少なくとも1種選ばれる処理剤によってシリカ微粒子の表面を処理してもよい。
具体的なシリル化剤として、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、i−ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、i−ブチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアルコキシシラン類、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン、ヘキサプロピルジシラザン、ヘキサブチルジシラザン、ヘキサペンチルジシラザン、ヘキサヘキシルジシラザン、ヘキサフェニルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、ジメチルテトラビニルジシラザン等のシラザン類等が挙げられる。
シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、カルボン酸変性シリコーンオイル、脂肪酸変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルコキシ変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、末端反応性シリコーンオイル等が挙げられる。
シロキサン類としては、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン等が挙げられる。
脂肪酸としては、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ドデシル酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、ペンタデシル酸、ステアリン酸、ヘプタデシル酸、アラキン酸、モンタン酸、オレイン酸、リノール酸、アラキドン酸などの長鎖脂肪酸が挙げられる。
(乾式シリカ微粒子の製造方法)
本発明の乾式シリカ微粒子は珪素化合物の燃焼反応により得られる。本発明の乾式シリカ微粒子を得るにあたっては、当該珪素化合物の燃焼反応による火炎として、最高温度はシリカの融点(約2000K)を超え、なおかつ、冷却時の急な温度勾配を有することが必要である。
本発明の乾式シリカ微粒子は同心円多重管構造を有するバーナを用いて製造することが好ましい。以下、その典型例として、同心円4重管バーナを使用する場合について詳述する。
この同心円4重管バーナは中心管を有し、この中心管の外周に第1環状管を配置、第1環状管の外周に第2環状管を配置、第2環状管の外周に第3環状管を配置したバーナである。
前記中心管に、シリカ源として気化した珪素化合物と酸素を予め混合して導入する。この際、窒素等などの不活性ガスも合わせて混合してもよい。また、珪素化合物の加水分解反応でシリカ微粒子を生成させる場合は、酸素と反応すると水蒸気を生成する燃料、例えば水素、炭化水素等を合わせて混合する。
また、第1環状管には、補助火炎形成のための燃料、例えば水素、炭化水素を導入する。この際、窒素等の不活性ガスを合わせて混合して導入してよい。さらに、酸素も合わせて混合してもよい。
更に、第2環状管には、補助火炎形成のための酸素を導入する。この際、窒素等の不活性ガスを合わせて混合してよい。
更にまた、第3環状管には、酸素と窒素等の不活性ガスの混合ガスを導入する。空気導入は容易であるため、空気導入は好適な様態である。
火炎中ならびに火炎近傍で生成・成長・凝集して得られる乾式シリカ微粒子の特性は、該シリカ微粒子が受ける温度履歴を非常に強く反映する。
本発明の乾式シリカ微粒子の製造方法においては、火炎の最高温度はシリカの融点を超えることが必須である。火炎の最高温度がシリカの融点を下回ると、分散性能が著しく悪化し、本発明の乾式シリカ微粒子を得ることは不可能になる。
本発明の乾式シリカ微粒子の製造方法においては、後述する冷却時の温度勾配が同一であれば、火炎の最高温度が高いほどBET比表面積が低下する。これを利用して、所望のBET比表面積を有す乾式シリカ微粒子が得られるように火炎の最高温度を適宜調整すればよいが、シリカ微粒子の液体溶融時の粘度は温度とともに低下するため、部分融着抑止を目的とした場合、火炎の最高温度は高いほど好ましい。火炎の最高温度は、3000K以上が好ましく、4500K以上がさらに好ましい様態である。
本発明の乾式シリカ微粒子を得るには、以下に説明するように、熱量に合わせた冷却時の急な温度勾配を有する火炎に調整することが特に重要である。
上記冷却時の急な温度勾配により、シリカ微粒子の凝集が終了する温度までの時間を短くできる。すわなち、該シリカ微粒子の凝集領域の滞在時間を短くできる。このため、凝集領域で、一次粒子同士の化学結合に基づく部分融着、あるいは強い物理的な粒子間力による凝集を防止でき、形成される該シリカ微粒子の凝集は弱く、凝集粒子径も小さくなる。これにより、該シリカ微粒子は容易に分散される特性、優れた分散特性を示すものとなる。
かかる火炎温度分布の具体的な調整は、中心管の導入組成、中心管のサイズ、第3環状管のサイズ、第3環状管の出口流速を調整することによって実施される。
火炎の最高温度は中心管の導入組成で定まる。火炎の最高温度は導入組成から算出できる断熱火炎温度で監理することが好ましい。この監理法の適用においては、中心管に導入する化学成分だけで反応が完結する組成、すなわち、未反応の珪素化合物と燃料が残留しない組成を選ぶことが必須である。例えば、中心管に珪素化合物と酸素のみを導入した場合、その酸素導入量は導入珪素化合物が完全燃焼するに必要な酸素量以上であることが必須である。
断熱火炎温度の算出においては、その熱力学物性値は“JANAF Thermochemical Tables SECOND EDITION“,堀越研究所(1975)などを参照すればよい。断熱火炎温度の算出で必要な比熱は、シリカの融点にあたる2000Kの値を使うとよい。
熱量に合わせた急な温度勾配は、(熱量)×(火炎の冷却速度)で定義される冷却因子を8kcal/ms×K/ms以上になるように中心管の導入組成、中心管のサイズ、第3環状管のサイズ、第3環状管の出口流速を調整することでなされる。
熱量は珪素化合物の燃焼熱量に中心管導入ガス温度分の顕熱を足し合わせることで得られる。
火炎の冷却速度について以下、詳述する。
火炎の冷却速度ΔT/Δtは、以下の通り算出できる。
Figure 2014088285
ここで、Tは火炎の最高温度であり、断熱火炎温度として求められる。Tはシリカの融点で2000Kである。Tは周囲のガス温度を意味するが、第3環状管のガス温度を使えばよく、第3環状管のガスを常温で導入する場合は、298Kとすればよい。kはボルツマン定数(1.38×10−23J/K)である。μSTDは298Kにおける中心管ガスの粘度であるが、中心管に珪素化合物と酸素と窒素のみを導入した場合は空気の粘度にあたる18×10−6Pa・sを使えばよい。TSTDは298Kのことである。VSTDは中心管ガスが燃焼した後の単位時間当りに流れるガスの298K換算の体積である。Wは単位時間当たりのシリカの生成量である。ρはシリカの真密度であり、2200kg/mとすればよい。Sは生成したシリカのBET比表面積である。Dは燃焼反応で生成したシリカの生成直後、成長前の粒子径であり、5nmとすればよい。
前述の数式は、シリカ微粒子は火炎中および火炎近傍でブラウン運動をし、火炎は第3環状管に導入されたガスと熱交換することで空間的に指数関数として減衰するものとし、シリカ微粒子の成長は2000K以上で起こり、それ以下の温度では成長せず、凝集粒子を形成するとして構築した式である。
冷却因子は珪素化合物の量を増やす、中心管のサイズを小さくする、第3環状管のサイズを大きくする、第3環状管の出口流速を速くする、ことで大きくなるため、これを利用して、得られる乾式シリカ微粒子のBET比表面積を確認しながら冷却因子を前述の範囲に入るように適宜調整すればよい。
例として、気化させたオクタメチルシクロテトラシロキサン100kg/hに酸素121Nm/hと窒素121Nm/hを混合し、これを473Kでバーナ中心管に導入して、大気圧下でオクタメチルシクロテトラシロキサンを燃焼させてBET比表面積40m/g=4×10/kgの乾式シリカ微粒子が得られたケースを想定し、このときの冷却因子を算出してみる。第3環状管のガス温度は298Kとする。なお、Nmは温度273K、1気圧換算でのガス量を表す。
燃焼後の組成を計算すれば、シリカ80.92kg/h、二酸化炭素60.42Nm/h、水蒸気90.63Nm/h、酸素0.16Nm/h、窒素121Nm/hとなる。
中心管ガスが燃焼した後の単位時間当りに流れるガス量は上記組成より、298K換算で、以下のようになる。
Figure 2014088285
オクタメチルシクロテトラシロキサンの燃焼熱として6063kcal/kg(298Kでの値)を使えば、燃焼熱は、以下のように算出される。
6063×1000kcal/h=60.63万kcal/h
また、燃焼後成分の比熱として2000Kでの値である、シリカ0.34kcal/kg/K、二酸化炭素0.64kcal/Nm/K、水蒸気0.55kcal/Nm/K、酸素0.40kcal/Nm/K、窒素0.38kcal/Nm/Kを用いれば、単位時間あたりの熱容量は、以下のように求められる。
Figure 2014088285
また、顕熱は、以下のように求められる。
162×(473−298)kcal/h=2.84万kcal/h
したがって熱量は、以下のように算出される。
Figure 2014088285
断熱火炎温度は、
298+63.5×10/162=4218K
と算出される。
火炎の冷却速度は前述の式を逆に追って得られた数値を代入していくことで計算できる。
Figure 2014088285
以上の結果より、(熱量)×(火炎の冷却速度)で定義される冷却因子は、以下のように求められる。
Figure 2014088285
本発明において、珪素化合物としては、常温でガス状または液状であるものが特に制限なく使用される。例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等の環状シロキサン類、ヘキサメチルジシロキサン等の鎖状シロキサン類、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等のアルコキシシラン類、トリクロロシラン、テトラクロロシラン等のクロロシラン類を珪素化合物として使用することができる。
上記珪素化合物としてシロキサン類およびアルコキシシラン類の塩素を含まない珪素化合物を使用すれば、不純物となる塩素を著しく低減された高純度の乾式シリカ微粒子を得ることができるため好ましい。
シロキサン類とアルコキシシラン類とではシロキサン類の方がアルコキシシラン類よりも、珪素原子当りの炭素原子数が少ないため、炭素の発生等などの燃焼不良を起こし難く、火炎を均一にし易いため、珪素化合物として、シロキサン類が好適な形態であり、さらに環状シロキサンが最も好適な形態である。
本発明の乾式シリカ微粒子は火炎中および火炎近傍で生成・成長・凝集させることで得られるが、その回収は金属フィルター、セラミックフィルター、バックフィルター等によるフィルター分離やサイクロン等による遠心分離で燃焼ガスと分離させて、回収することでなされる。
本発明を具体的に説明するために実施例及び比較例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例および比較例における各種の物性測定等は以下の方法による。
(1)BET比表面積
柴田理化学社製比表面積測定装置SA−1000を用い、窒素吸着BET1点法により測定した。
(2)吸光度
(測定サンプルの調製)
測定サンプルであるシリカ濃度1.5質量%水懸濁液を、以下のように調製した。
シリカ0.3gと蒸留水20mlをガラス製のサンプル管瓶(アズワン社製、内容量30ml、外径約28mm)に入れ、超音波細胞破砕器(BRANSON社製Sonifier II Model 250D、プローブ:1.4インチ)のプローブチップ下面が水面下15mmになるように試料入りサンプル管瓶を設置し、出力20W、分散時間3分の条件でシリカ微粒子を蒸留水に分散し、測定サンプルであるシリカ濃度1.5質量%水懸濁液を調製した。
(吸光度測定)
日本分光社製分光光度計V−530を用いて、波長700nmの光に対するシリカ濃度1.5質量%の水懸濁物の吸光度を測定した。なお、測定試料セルは東京硝子器械社製合成石英セル(5面透明、10×10×45H)を用いた。
(3)遠心沈降法による粒度分布
(測定サンプルの調製)
吸光度における測定サンプルと全く同一とした。
(粒度分布測定)
CPSInstruments Inc.製のディスク遠心式粒度分布測定装置(DC24000)を用いて、重量基準粒度分布を測定した。なお測定条件は、回転数18000rmp、温度32℃、シリカ真密度を2.2g/cmとした。
得られた重量基準粒度分布からメジアン径を算出した。
(4)超小角X線散乱による粒度分布
(測定サンプルの調製)
吸光度および遠心沈降法による粒度分布における測定サンプルと全く同一とした。
(超小角X線散乱測定)
超小角X線散乱スペクトルを得るために、リガク製全自動水平型多目的X線回折装置SmartLabに、光学系として超小角X線散乱仕様の透過法小角散乱を適用して、測定サンプルの超小角X線散乱スペクトルを測定した。X線の波長は0.154187nmであった。ホルダーはスペーサー1mmの透過小角用試料ホルダーを用い、試料の入射側と散乱側をポリイミドフィルム(カプトン膜)で挟んだ。検知器はシンチレーション カウンターとした。
(粒度分布の算出)
試料の超小角X散乱スペクトルを、試料の体積基準粒度分布としてガンマ分布、粒子形状として球形として、リガク製解析ソフトNANO−Solverを用いてスペクトルフィッティングを実施し、試料の体積基準粒度分布を得た。なお、スペクトルフィッティングに際しては、フィッティング対象粒子径範囲が0.3×平均粒子径〜3×平均粒子径となるようにBraggの式とX線波長を使って、フィッティング対象角度範囲を定めた。すなわち、フィッティング対象角度範囲をsin−1{X線波長/(6×平均粒子径)}〜sin−1{X線波長/(0.6×平均粒子径)}とした。
(5)水分量
130℃での乾燥減量法により水分量を測定した。
(6)増粘指数
(エポキシ樹脂組成物の調製)
東都化成製エポキシ樹脂ZX−1059を42.84g秤取し、これにシリカ28.56g添加した。その後、シンキー社製のプラネタリーミキサーAR−500を用いて、回転数1000rmpで8分間攪拌、その後、回転数2000rpmで2分間脱泡することで、混練し、エポキシ樹脂組成物を得た。その後、樹脂組成物を25℃の恒温槽に1時間以上静置した。
(エポキシ樹脂組成物の粘度)
25℃の恒温槽から樹脂組成物を取り出し、Haake社製レオメータ レオストレスRS600を用いてせん断速度10s−1で粘度を測定した。なお、測定温度は25℃、使用センサーはC35/1(コーンプレート型 直径35mm、角度1度、材質チタン)とし、せん断速度10s−1の状態を3分間保った後での粘度の値をエポキシ樹脂組成物の粘度とした。
(エポキシ樹脂の粘度)
東都化成製エポキシ樹脂ZX−1059の粘度を、Haake社製レオメータ レオストレスRS600を用いてせん断速度10s−1で粘度を測定した。なお、測定温度は25℃、使用センサーはC35/1(コーンプレート型 直径35mm、角度1度、材質チタン)とし、せん断速度10s−1の状態を3分間保った後での粘度の値をエポキシ樹脂の粘度とした。
(増粘指数)
増粘指数[g/m]を下記式で求めた。
増粘指数[g/m]=(η・η −1・S−2)×100
ここで、ηは、樹脂組成物の粘度[Pa・s]、ηは、樹脂の粘度[Pa・s]、Sは、BET比表面積[m/g]である。
実施例1〜5、比較例1〜9
オクタメチルシクロテトラシロキサンを同心円4重管バーナで燃焼させ乾式シリカ微粒子を製造した。以下、オクタメチルシクロテトラシロキサンを原料と記す。
加熱気化させた原料と酸素と窒素を混合した後、473Kでバーナ中心管に導入した。また、水素と窒素を混合し、中心管の外周に配置した第1環状管に導入し、酸素を第1環状管の外周に配置した第2環状管に導入した。さらに、空気を第2環状管の外周に配置した第3環状管に298Kで導入した。
得られた乾式シリカ微粒子を金属フィルターで回収後、そのBET比表面積、吸光度、遠心沈降法による粒度分布、超小角X線散乱による粒度分布、水分量、増粘指数を測定した。実施例1〜5、比較例1〜9の乾式シリカ微粒子の水分量は0.5質量%以下であることを確認した。表1に実施例1〜5の製造条件とシリカ特性を、表2に比較例1〜5の製造条件とシリカ特性を、表3に比較例6〜9の製造条件とシリカ特性を示す。
なお、表1〜3の酸素比は、(中心管に導入した酸素のモル数)/(16×中心管に導入した原料のモル数)であり、酸素濃度は、(中心管に導入した酸素のモル数)/(中心管に導入した酸素のモル数+中心管に導入した窒素のモル数)をパーセント表示したものである。またRSFLは(第1環状管に導入した水素のモル数)/(32×中心管に導入した原料のモル数)であり、Rcmbtsは(第2環状管に導入した酸素のモル数)/(16×中心管に導入した原料のモル数)である。また、DCSは遠心沈降法による重量基準粒度分布のメジアン径、DUSAXSは超小角X線散乱法による体積基準粒度分布のメジアン径、σgは遠心沈降法による重量基準粒度分布の幾何標準偏差を表す。
火炎の最高温度である断熱火炎温度および冷却因子の算出においては、オクタメチルシクロテトラシロキサンの燃焼熱として6063kcal/kg(298Kでの値)、比熱としてシリカ0.34kcal/kg/K、二酸化炭素0.64kcal/Nm/K、水蒸気0.55kcal/Nm/K、酸素0.40kcal/Nm/K、窒素0.38kcal/Nm/Kとした。
また、実施例1〜3、比較例1〜3では同一バーナを使用した。実施例4、比較例4〜7では中心管、第1環状管、第2環状管は実施例1と同一で第3環状管は実施例1より径を1.8倍拡大したバーナを使用した。さらに、実施例5では中心管、第1環状管、第2環状管は実施例1と同一で第3環状管は実施例1より径を2.5倍拡大したバーナを使用した。また、比較例8〜9では、中心管径が実施例1の1/2、第1環状管のクリアランス(スペース)と第2環状管の断面積は実施例1と同一、第3環状管の外径は実施例1の1.1倍のバーナを使用した。
また、増粘指数を求めるために測定したエポキシ樹脂の粘度は2.22Pa・sであった。
Figure 2014088285
Figure 2014088285
Figure 2014088285
表1〜3は実施例が比較例より比表面積の影響を取り除いた増粘効果が小さい、つまり低粘度特性を示すことを示している。

Claims (4)

  1. 珪素化合物の燃焼によって得られた乾式シリカ微粒子であって、以下の条件を満足することを特徴する乾式シリカ微粒子。
    (1)BET比表面積が20〜60m/gである。
    (2)100×DCS/DUSAXSが100〜110である。
    ここで、DCSは遠心沈降法による該乾式シリカ微粒子の重量基準粒度分布のメジアン径であり、DUSAXSは超小角X線散乱法による該乾式シリカ微粒子の体積基準粒度分布のメジアン径である。
  2. 130℃での乾燥減量法により測定される水分量が0.5質量%以下であることを特徴とする請求項1記載の乾式シリカ微粒子。
  3. 珪素化合物がシロキサンであることを特徴とする請求項1又は2何れかに記載の乾式シリカ微粒子。
  4. シロキサンが環状シロキサンであることを特徴とする請求項3記載の乾式シリカ微粒子。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017119621A (ja) * 2015-12-25 2017-07-06 株式会社トクヤマ 親水性乾式シリカ粉末
CN110371990A (zh) * 2019-07-02 2019-10-25 新疆晶硕新材料有限公司 一种生产气相二氧化硅的水解炉及系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002003213A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Nippon Aerosil Co Ltd 非晶質微細シリカ粒子とその製造方法および用途
JP2008019157A (ja) * 2006-06-09 2008-01-31 Tokuyama Corp 乾式シリカ微粒子
JP2008274260A (ja) * 2007-04-06 2008-11-13 Nippon Shokubai Co Ltd 樹脂組成物及び光学部材
JP2010163303A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Tokuyama Corp 親水性乾式シリカの保存方法
JP2012512795A (ja) * 2008-12-20 2012-06-07 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 低い表面積を有するフュームドシリカ粉末

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002003213A (ja) * 2000-06-20 2002-01-09 Nippon Aerosil Co Ltd 非晶質微細シリカ粒子とその製造方法および用途
JP2008019157A (ja) * 2006-06-09 2008-01-31 Tokuyama Corp 乾式シリカ微粒子
JP2008274260A (ja) * 2007-04-06 2008-11-13 Nippon Shokubai Co Ltd 樹脂組成物及び光学部材
JP2012512795A (ja) * 2008-12-20 2012-06-07 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 低い表面積を有するフュームドシリカ粉末
JP2010163303A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Tokuyama Corp 親水性乾式シリカの保存方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017119621A (ja) * 2015-12-25 2017-07-06 株式会社トクヤマ 親水性乾式シリカ粉末
CN110371990A (zh) * 2019-07-02 2019-10-25 新疆晶硕新材料有限公司 一种生产气相二氧化硅的水解炉及系统

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