JP2014086522A - 電子デバイスの製造方法、電子部品用容器の接合装置、電子機器、及び移動体機器 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 92
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 65
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 49
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 29
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 20
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 19
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 14
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002066 L-histidyl group Chemical group [H]N1C([H])=NC(C([H])([H])[C@](C(=O)[*])([H])N([H])[H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- -1 that is Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10N30/01—Manufacture or treatment
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- H05K13/04—Mounting of components, e.g. of leadless components
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/08—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas after the connecting process of an individual bonding area
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- H01L2224/0812—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding
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- H01L2224/08221—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/08225—Disposition the bonding area connecting directly to another bonding area, i.e. connectorless bonding, e.g. bumpless bonding the bonding area connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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Abstract
。
【解決手段】ベース基板21と、ベース基板21との間に空間を形成する蓋体22と、を
備えた容器の接合方法は、ベース基板21と、蓋体22とを用意する工程と、ベース基板
21の接合領域23に蓋体22が重なるように配置する工程と、蓋体22の接合領域23
よりも内側の外面に押圧部1を接触させる工程と、押圧部1を蓋体22に接触させた状態
で、蓋体22にエネルギービームLを照射して接合する接合工程と、を有する。
【選択図】図1
Description
体機器に関するものである。
た表面実装型の電子部品には、圧電デバイス、半導体等がある。電子素子を容器内に気密
封止するに際しては、凹所を有したセラミック等から成るベース基板(容器本体)の凹所
内に電子素子を配置し、導電性部材を用いて電子素子とベース基板側配線との電気的導通
を図った後、ベース基板の凹所周縁部に形成した封止部(メタライズ層)と、金属製の蓋
体とを、シーム溶接(抵抗溶接)、エネルギービーム(レーザー光、電子ビーム等)、超
音波等を用いて溶接し、接合する手法が一般的に用いられている。
特許文献1には、水晶振動デバイスの気密封止方法が開示されている。この表面実装型
の水晶振動デバイスは、凹所を有したベース基板(容器本体)と、ベース基板の凹所内に
収納される水晶振動素子と、ベース基板の凹所周縁に接合される蓋体とを備えている。ベ
ース基板と、蓋体とで容器を構成している。
下層から順次にタングステンメタライズ、ニッケルメッキ、金メッキ等が積層された構成
を有している。また、ベース基板の凹所内には、素子搭載パッドが形成されており、素子
搭載パッドは貫通ビアを介して、ベース基板の外部底面に形成された実装端子と電気的に
導通されている。水晶振動素子は導電性接着剤を介して素子搭載パッドに片持ち支持され
る。
また、蓋体はコバールを蓋体用基材とし、この基材の一方の面には、封止部に対応した
ロウ材層が形成されている。このロウ材層は銀ロウからなり、後述する未溶接領域に対応
する位置のみを薄肉領域にした構成となっている。
の接合領域中に未溶接領域が残るように部分的に溶接を行う。この部分的な溶接に際して
は、未接合領域が蓋体に予め形成された銀ロウの薄肉領域に対応するように溶接機を制御
する。次いで、水晶振動素子を収容した容器を、スポット溶接機を具備した真空チャンバ
ー内に収容し、チャンバー内を真空排気して、未溶接領域に形成される隙間を介して容器
内のガスを除去する。この状態で未溶接領域をスポット溶接し、気密封止を完了し、電気
的、機械的検査を経て水晶振動デバイスが完成される。
シームローラをパラレルに走行させて溶接を行うものであり、数mm角の小型の電子部品
用容器の封止に用い得る程度に、シームローラを小型化することが難しいという問題があ
った。
なお、電子ビーム溶接法、又はレーザー接合法等のエネルギービーム接合法は、数mm
角の小型電子部品用容器の封止に用いることが可能である。しかし、これらの溶接方法で
は、被溶接物と、電子ビーム、又はレーザー光の溶接(接合)源とは、非接触状態で溶接
が行われるため、ベース基板上の電子素子を包囲するように蓋体を配置した後で、溶接中
の蓋体のずれを防止するために蓋体を押さえ治具で押さえておく必要がある。しかし、実
際には、押さえ治具の傾きや、蓋体の平面度のバラツキによって、ベース基板の封止部(
接合領域)全面に蓋体を均等に密着させることが難しくなり、この不具合を補うためにシ
ーム溶接法との併用が必要となる。このため封止工数の増大と、封止装置の設備費用とで
封止コストが増加するという問題があった。
本発明は上記問題を解決するためになされたもので、小型の電子部品用容器の接合方法
、レーザー接合装置、これを用いて製造した電子デバイス、この電子デバイスを搭載した
電子機器、移動体機器を提供することにある。
形態又は適用例として実現することが可能である。
域を有するベース基板、を用意する工程と、前記ベース基板に電子部品を配置する工程と
、前記ベース基板の前記接合領域に前記蓋体が重なるように前記蓋体を前記ベース基板に
配置する工程と、前記ベース基板と前記蓋体の重なっている方向の平面視で見て、前記接
合領域よりも内側の前記蓋体に押圧部を接触させる押圧工程と、前記押圧部を前記蓋体に
接触させた状態で、前記蓋体にエネルギービームを照射して前記ベース基板と前記蓋体と
を接合する接合する工程と、を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法である。
止部)に蓋体の接合領域が重なるように配置し、この蓋体の接合領域よりも内側の外面に
押圧部を接触させた状態、即ちベース基板の接合領域と、蓋体の接合領域とを密着させた
状態で蓋体にエネルギービーム(例えばレーザー光)を照射し接合するので、電子デバイ
スの気密度の良品率が大幅に改善されるという効果がある。
一部を接合し、前記接合工程の後に前記押圧部を前記蓋体から離脱させる工程と、前記接
合領域の残りの領域を接合する工程と、を含むことを特徴とする適用例1に記載の電子デ
バイスの製造方法である。
止部)に蓋体の接合領域が重なるように配置し、この蓋体の接合領域よりも内側の外面に
押圧部を接触させて押圧した状態、即ち押圧部からの押圧によってベース基板の接合領域
と蓋体の接合領域とを全面に渡って密着させた状態で蓋体の一部にエネルギービーム(例
えばレーザー光)を照射して一部を接合する一部接合工程を経てから、押圧部を離し、そ
の後に未接合領域を接合する本接合工程を行うので、電子デバイスの気密度の良品率が大
幅に改善されるという効果がある。
ーム溶接を用いることを特徴とする適用例2に記載の電子デバイスの製造方法である。
止部)に蓋体の接合領域が重なるように配置し、この蓋体の接合領域よりも内側の外面に
押圧部を接触させて押圧した状態、即ちベース基板の接合領域と、蓋体の接合領域とが密
着した状態で蓋体の一部をエネルギービーム(例えばレーザー)接合し、押圧部による押
圧を解除してから、未溶接領域をシーム溶接する本溶接工程を行うので、電子デバイスの
気密度の良品率が大幅に改善されるという効果がある。
て電子部品用容器を組立てるための接合装置であって、前記蓋体を前記ベースに固定させ
るための押圧部と、前記蓋体にエネルギービームを照射して前記ベース基板と前記蓋体を
接合するためのエネルギービーム照射手段と、を備えていることを特徴とする電子部品用
容器の接合装置である。
領域よりも内側の外面に接触する押圧部と、蓋体にエネルギービームを照射して蓋体の接
合領域を接合するエネルギービーム照射手段と、を備えているので、この接合工程を経れ
ば電子部品用容器の気密度が大幅に改善されるという効果がある。
送させるための吸着機構を備えていることを特徴とする適用例4に記載の電子部品用容器
の接合装置である。
領域に蓋体を正確に配置できるので、電子部品用容器の気密度を大幅に改善できるという
効果がある。
ガスを吸引する機構とを備えていることを特徴とする適用例4又は5に記載の電子部品用
容器の接合装置である。
構を備えており、金属部分の酸化を防止し、コスト低減に効果がある。
り製造された電子デバイスを備えていることを特徴とする電子機器である。
スを用いて電子機器を構成するので、長期に亘って周波数の安定な電子機器が得られると
いう効果がある。
より製造された電子デバイスを備えていることを特徴とする移動体機器である。
用いて移動体機器を構成するので、移動体機器の小型化と、長期に亘って安定な動作の移
動体機器が得られるという効果がある。
一実施形態に係るエネルギービーム接合装置に付属する接合治具60の構成を示す概略縦
断面図であり、同図(b)は、ベース基板21の封止部21c(接合領域23)に、蓋体
22の接合領域が重なるように配置し、蓋体の内側上面を押圧部1で押圧した状態におい
て、接合治具60の一部を拡大した縦断面図である。図2(a)は接合治具60を下方か
ら見た斜視図であり、同図(b)は押圧部1の底部に形成した吸着孔2aにより蓋体22
を吸着した状態を、接合治具60の下方から見た斜視図である。図3は、エネルギービー
ム接合装置70の構成を示す概略ブロック図である。
エネルギービーム接合装置70は、エネルギービーム(例えばレーザービーム、電子ビ
ーム等)照射手段71と、物体認識用の撮像手段72と、接合治具60と、ガス送出手段
74と、複数の気体吸入手段75と、全体を制御する制御手段76と、これらを収容する
チャンバー73と、を概略備えている。
エネルギービーム照射手段71は、例えばレーザー光Lを発生させるレーザー発生器と
、レーザー光Lのスポット径を調整するレンズ系と、撮像手段72からの物体認識信号に
基づき前記制御手段の信号によりレーザー光のスポット位置を移動する機構と、を概略備
えている。
接合治具60は、蓋体22を吸着する吸着孔2aを備えた押圧部1と、不活性ガス、例
えば窒素ガス(N2)を吹き出す複数のガス吐出孔3aと、エネルギービームLにより蓋
体22の金属が溶融した時に飛散するヒューム(金属飛沫)を吸引するヒューム吸引孔4
aと、を概略備えている。
6を連結した構造を有している。上盤5は、例えば外形が円筒状であり、その円形の底面
中心部に下部が円筒状で上部が逆円錐状の穴5aが形成されている。更に、上盤5の底面
には、穴5aの外径側に、穴5aと同心円上に円環状の空洞部7が形成され、空洞部7の
底部は円環状の開口部7aとなっている。つまり、円筒状の上盤5は、その中心線Cnに
沿って貫通した穴5aと、穴5aの外径側に同軸状に配置された環状溝としての空洞部7
と、を有している。また、上盤5の底部は、図1(a)に符号7bで示すように、中心線
Cnを中心として、空洞部7の外径よりも大きな径で環状状に切削されている。
この切削部7bには、下盤6が嵌合固定される。下盤6には環状の貫通穴8が貫通形成
されており、貫通穴8の上部は空洞部7の開口部7aと連通している。
み付けられた状態では、下盤6の中心線は上盤5の中心(Cn)と一致し、貫通穴8は空
洞部7と連通している。
下盤6の底面の中心部には、直方体状の突起部1(押圧部)が突設されている。図2に
示すように突起部1の対向する2つの壁面からは夫々細幅の連接部9(下盤底面の一部)
が延びており、他方の対向する2つの側壁に沿った下盤底面にはヒューム吸引孔4aが夫
々開口形成されている。
2つのヒューム吸引孔穴4aの仮想中心は、中心線Cnである。下盤6には、中心線C
nに対し対称な環状の貫通穴8が形成され、貫通穴8の上面で中心線Cnから外寄り位置
には円環状の開口部8aが形成されている。また、貫通穴8の底面で中心線Cn寄り位置
には、所定の周方向ピッチで複数のガス吐出孔3aが形成されている。
上盤5の底部の切削された部分7bに、下盤6の上面の外側が接合され、上盤5の下面
の開口部7aと、下盤6の上面の開口部8aとが連通される。
以下、押圧部と称す)1が突出し、押圧部1の中心は下盤6の中心線Cnと一致する。押
圧部1は、押圧部1のP−P方向に直交する側面から延在する連接部9により支持されて
いる。押圧部1には、その内部を貫通する吸着孔2aが形成され、前記吸入装置の一つと
中空パイプで接続されて吸着機構2を構成する。吸着孔2aが形成された押圧部1の下面
は蓋体上面と密着し易いように平坦に仕上げられている。押圧部1を支持する連接部9と
は別の底面部位には、一対の略半円形のヒューム吸引孔4aが形成され、前記吸入装置の
一つと中空パイプで接続されてヒューム吸引機構4を構成する。空洞部7は、ガス送出装
置74と中空パイプで接続されてガス吐出機構3を構成する。つまり、前記ガス送出装置
から供給されるガス(不活性ガス、例えば窒素ガス)は、上盤5の空洞部7から下盤6の
貫通穴8を経て、貫通穴8の底面に開けられた吐出孔3a(図2の実施例では10個のガ
ス吐出孔)から蓋体22へ向けて供給される。
なお、貫通穴8は円環状である必要はなく、各吐出孔3aと対応する位置に夫々設けた
複数の穴であってもよい。
が破線A、一点鎖線B、二点鎖線Cで夫々示されている。つまり、吸着機構2を動作させ
て押圧部1の吸着孔2aから負圧を導入すると、破線Aで示した負圧の流れが形成されて
押圧部の端面に蓋体22が吸着される。この際、カメラ機構72が動作して蓋体22の吸
着位置を認識することにより、制御装置76が位置合わせを行って、適正な位置を吸着保
持する。
ガス吐出機構3を動作させると、空洞部7に送り込まれた窒素ガスは、貫通穴8を経て
、その底板に開けられた各ガス吐出孔3aから吐出される。即ち、一点鎖線Bに示すよう
に流れた窒素ガスは、ガス吐出孔3aから蓋体22の方へ供給され、容器20のキャビテ
ィー内を窒素ガスで充満し、金属部分の酸化を防止することができる。
即ち、この時点ではベース基板21に対して蓋体22は部分的に接合されている状態で
あるため、ベース基板と蓋体との隙間(未接合領域)を経由して容器内に窒素ガスが導入
される。
ヒューム吸引機構4を動作させると、図2(a)のヒューム吸引孔4aから気体が吸引
され、図1(a)の二点鎖線Cで示す気体の流れが作られる。この気体の流れは、ベース
基板21の封止部(接合領域)21cに蓋体22をレーザー接合する際に発生する金属微
粉末、即ちヒュームを外部に排出する役割を担う。また、ガス吐出孔3aから供給された
窒素ガスのうちの余分な窒素ガスの外部への排出も担う。
なお、ヒューム吸引孔4aは、ベース基板21の封止部(接合部)21cに蓋体22の
ロウ材層を重ね、蓋体22の外面の周縁を一部接合(仮止め)する際のエネルギービーム
の照射経路としても利用される。
ラミックを材料とするベース基板21と、金属製の蓋体22と、を備えている。ベース基
板21は、例えばセラミックス材を材料とした平板状の下層板21aと、環状体の上層板
21bと、を積層して構成されている。下層板21aはベース基板21の底部を形成し、
中空環状体の上層板21bは、ベース基板21の内部空間(キャビテーション)28を形
成する。セラミック基板の下層板21a、上層板21bを構成するセラミック基材は、グ
リーンシートを成形・加工してから焼成することにより形成されている。
下層板21aの一端部寄りの上面には、電子素子搭載用の複数の素子搭載用パッド24
が形成され、素子搭載用パッド24は複数の貫通ビア26を経由して、ベース基板21の
外側底面の実装端子25と電気的に導通している。素子搭載パッド24上には導電性接着
剤を用いて電子部品(水晶振動素子)30が搭載されている。
メタライズ層)21cの一例は、例えばメタライズ印刷(タングステンW等)、焼成、ニ
ッケル(Ni)メッキ、金(Au)メッキ等で形成されている。また、近年では、セラミ
ック基板面に、セミアディティブ法を用いて銅(Cu)、ニッケル(Ni)、金(Au)
等メタライズ層を形成する方法が開発されている。この方法は、焼成済みのグリーンシー
ト上にスパッタによる金属膜(銅Cu)の成膜、フォトリソグラフィ技術、メッキ(Ni
+Au)、エッチング手法を用い、所定のメタライズ層を、高温加熱を伴わないで形成す
るものである。後者の封止部(メタライズ層)は寸法精度に優れている。
また、ベース基板21の外部底面には外部配線と接続するための複数の実装端子14を
備えている。
図1(b)に示す素子搭載用パッド24、貫通ビア26は、一例に過ぎず、他の配線例
を用いてもよい。また、必要に応じて封止部(メタライズ層)21cと、接地用の実装端
子25と、を導通する貫通ビアを設けることが望ましい。容器20を電子デバイス等に用
いるとき、金属性の蓋体22をグランド電位に保持することにより、蓋体22のシールド
効果によって外部からの不要な電気的信号、例えばノイズなどから保護することができる
し、また、外部に対し不要輻射を防止することができる。
、上層板21b)の線膨張係数(7ppm/℃)に近い線膨張係数を有した金属材料のコ
バール(線膨張係数:5.5ppm/℃)から成る蓋体用基材22aと、蓋体用基材22
aの下面にクラッド法により積層されたロウ材層22b、例えば銀ロウと、蓋体用基材2
2aの上面にクラッド法により積層された酸化防止膜用のニッケル膜22cと、から構成
されている。なお、蓋体用基材22aとしては、コバールの他に、42ニッケル、SUS
等も使用することができる。
bが重なるように配置し、蓋体22が機械振動等で動かないように、押圧部1で抑えた接
合治具60の一部を拡大した縦断面図である。押圧部1の側面と環状体の上層板21bの
内側との距離W1は、例えば100μmから200μmである。
押圧部1による所定の加重が蓋体22の中心部領域に掛るため、蓋体22は加重の掛る
下方へ湾曲し、封止部21c、即ち接合領域23と、蓋体22の接合領域とが密着するよ
うになる。なお、レーザー接合法の場合は、封止部21cと蓋体22との密着度が気密封
止の重要な要件であり、蓋体22の一部に所定の加重を掛け、キャビティー28側に湾曲
させる手段が有効である。なお、詳しくは、接合領域23は、封止部21cの全領域では
なく、図1(b)に符号23で示す領域となる。
蓋体22の中心部領域に押圧部1で所定の加重を掛けた状態で、ガス吐出機構3を動作
させてガス吐出孔3aから窒素ガスを吐出させる。金属部分の酸化を防止した状態で、ヒ
ューム吸引機構4を動作させると共に、ヒューム吸引孔4aからエネルギービームを照射
し、蓋体22の所定の一部だけを部分的に接合する。押圧部1の加重を取り去り、離脱さ
せた後、蓋体22の未接合領域にエネルギービームを照射し、容器20を気密封止する。
容器20の一部を拡大した縦断面図である。ベース基板21の環状の封止部(メタライズ
層)21c上に、ロウ材層22bが接合するように金属製の蓋体22を整合・配置し、蓋
体22の周縁にエネルギービームを照射する。封止部21cと、金属製蓋体22の周縁部
とを接合する際のエネルギービームの照射位置は、図4に示すようにエネルギービームの
スポット径の中心部が、封止部21cと蓋体22との接合部23の幅寸法W2の中心部と
ほぼ合致するように設定する。エネルギービームのスポット径の一例は100μm程度で
あり、接合部23の幅寸法W2の一例は、150μm程度である。エネルギービームのエ
ネルギーはスポット径の中心部で最大であり、中心部から遠ざかるに連れてそのエネルギ
ー量は減少する。なお、このようにエネルギービームの中心位置を設定すると、蓋体22
裏面のロウ材層22bを均一、且つ確実に溶融させることにより、均一、且つ必要十分な
範囲に展開させることが可能となる。
図5は、エネルギービームと、接合治具60等を用いた本発明の電子部品用容器の接合
方法により製造した電子デバイスの縦断面図である。押圧部1に加重(一例として200
gr重から500gr重)を掛け、蓋体22を湾曲させる変形量は、ベース基板21と蓋
体22との反りを吸収できる変形量(一例として5μから15μm)とする。蓋体22の
中央部には押圧部1により押痕(図5は誇張して示している)が残る。
以上ではベース基板21と蓋体22との接合にエネルギービームを用いた接合方法を説
明したが、エネルギービームに限らず、シーム溶接、電子ビーム溶接、超音波接合等にも
適用できることは、説明するまでもない。
cに蓋体の接合領域が重なるように配置し、この蓋体22の接合領域よりも内側の外面に
押圧部1を接触させた状態、即ちベース基板21の接合領域23と、蓋体の接合領域とが
密着した状態で蓋体22にエネルギービームを照射し、接合するので、電子部品用容器の
気密度の良品率が大幅に改善されるという効果がある。
また、ベース基板21の接合領域23と、蓋体22の接合領域とが密着した状態で蓋体
22の一部にエネルギービームを照射し、一部を接合する一部接合工程を経てから、押圧
部1を離し、未接合領域を接合する本接合工程を経るので、電子部品用容器の気密度の良
品率が大幅に改善されるという効果がある。
また、ベース基板21の接合領域21cと、蓋体22の接合領域とが密着した状態で蓋
体の一部をレーザー接合し、押圧部1を離し、未溶接領域をシーム溶接する本溶接工程を
経るので、電子部品用容器の気密度の良品率が大幅に改善されるという効果がある。
し、この蓋体22の接合領域よりも内側の外面に接触する押圧部1と、蓋体22を吸着す
る吸着機構2と、ベース基板21と蓋体22の接合部位に不活性ガスを吐出するガス吐出
機構3と、ベース基板21と蓋体22の接合時に発生するヒュームを吸引するヒューム吸
引機構4と、蓋体22にエネルギービームを照射して蓋体22の接合領域の接合するレー
ザー照射装置と、を備えているので、電子部品用容器の気密度が大幅に改善されると共に
、不活性ガスの節減し、ヒュームが電子部品用容器の内部や電子部品を汚染することを防
止する効果という効果がある。
電子デバイスの実施形態の一例である圧電振動子10の構成を示す縦断面図である。電子
デバイス(圧電振動子)10は、電子部品(圧電振動素子)30と、電子部品30を収容
する容器20とを備えている。容器20は、凹陥部(キャビティー)28を有するベース
基板21と、金属製の蓋体22と、を備えている。蓋体22のベース基板21と接合する
面にはロウ材層22bが全面に形成されている。ベース基板21は、図6(a)に示すよ
うに、二層の絶縁基板(下層板、上層板)からなり、絶縁材料としての酸化アルミニウム
質のセラミック・グリーンシートを焼結して形成される。環状体の封止部21cは、多層
のメタライズ層から構成されている。また、凹陥部(キャビティー)28の底部には一対
の素子搭載用パッド24が形成されている。実装端子25は、ベース基板21の外部底面
に複数形成されている。
ベース基板21の素子搭載用パッド24と、実装端子25とは、貫通ビア26により電
気的に導通されている。素子搭載パッド24の位置は、電子部品(圧電振動素子)30を
載置した際に、電子部品(圧電振動素子)30のパッド電極に対応するように配置されて
いる。
励振電極と、リード電極と、電極パッドと、を概略備えている。水晶基板は、ATカット
水晶振動子の場合、小型化を図るためメサ型構造とするのが一般的である。メサ型構造の
水晶基板は、大型水晶ウェハーにフォトリソグラフィ技法と、エッチング手法とを適用す
ることにより、同一品質の水晶基板を大量の製造することが可能である。水晶基板のメサ
型構造は、水晶振動子の要求特性により、厚さ方向に対称な1段構造でもよいし、2段、
3段構造であってもよい。
励振電極は、水晶基板のほぼ中央部に形成され、水晶基板の端部に形成された電極パッ
ドに向けて夫々延在するリード電極を形成する。励振電極の一例は、スパッタ法、真空蒸
着法等を用い、クロム(Cr)、又はニッケル(Ni)の電極膜を下地とし、その上に金
(Au)の電極膜を積層した水晶基板を、フォトリソグラフィ技法にて所定の形状に形成
する。この手法を用いると、励振電極、リード電極、電極パッドが一度に、所定の形状で
形成することが可能である。励振電極の大きさは、要求される仕様により、メサ型構造の
頂部、又は周縁の一部まで広がる場合がある。また、励振電極の大きさは高次の屈曲モー
ドを抑圧するように、その寸法を決めるのが一般的である。
ド24に導電性接着剤35を塗布し、これに電子部品(圧電振動素子)30のパッド電極
が整合するように載置して所定の荷重をかける。導電性接着剤35としては、シリコン系
接着剤、エポキシ系接着剤、ポリイミド系接着剤等があるが、接着剤35に起因する応力
(∝歪)の大きさが小さく、経年変化を考慮して脱ガスの少ない接着剤を選ぶとよい。
所定の温度の高温炉に所定の時間入れる。導電性接着剤35を硬化させ、アニール処理を
施した後、励振電極に質量を付加するか、又は質量を減じて周波数調整を行う。ベース基
板21の上面に形成した封止部21c上に、蓋体22を配置し、レーザー接合装置のチャ
ンバー内で窒素N2ガスを吐出しながら蓋体22のロウ材層22bと、封止部21cとを
レーザー接合して密封し、圧電振動子10が完成する。
図6(a)に示すように、電子デバイス、例えば圧電デバイス10を構成すれば、容器
20の気密度の良品率が改善されるので、周波数精度、周波数温度特性、経年変化の優れ
た圧電デバイスを構成することができるという効果がある。
電子デバイス11の一例は、電子部品(例えば圧電振動素子)30と、少なくとも1つの
第2の電子部品(例えばIC)37と、これらを収容する容器20と、蓋体22と、を概
略備えている。ベース基板21のキャビティー28の底面には、素子搭載用パッド24と
、部品搭載用パッド24aとが設けられ、両者とも貫通ビア26で実装端子25と導通接
続されている。素子搭載用パッド24に導電性接着剤35を塗布し、電子部品(圧電振動
素子)30のパッド電極を載置し、所定の加重をかけ、導電性接着剤35を硬化させるた
め熱処理する。更に、部品搭載用パッド24aに第2の電子部品37を載置し、超音波ボ
ンディング等の手段で接合する。ベース基板21の上面の封止部21cに整合するように
、蓋体22を配置し、レーザー接合装置のチャンバーに入れ、レーザー接合して、電子デ
バイス11を完成する。電子デバイス11の容器1内は、窒素(N2)が満たされている
。
、コンデンサ、リアクタンス素子、半導体素子(可変容量ダイオード、発振回路、増幅器
等を備えたIC)のうち少なくとも一つを用いて電子デバイスを構成することが望ましい
。
る。電子素子30を準備する工程(S1a)と、ベース基板21を準備する工程(S1b
)と、蓋体を準備する工程22(S1c)と、を有している。更に、ベース基板21のキ
ャビティー28の底部に形成した素子搭載パッド24に導電性接着剤35を塗布し、導電
性接着剤35の上に電子素子30のパッド電極を配置し、導電性接着剤35を乾燥する電
子素子接着工程(S2)と、ベース基板21の封止部21cの接合領域23に重なるよう
に蓋体22を配置し、蓋体22の接合領域の内側を押圧部1で押圧すると共に、ガス吐出
機構3を動作させ窒素ガスを供給する蓋体配置、押圧工程(S3)と、ヒューム吸引機構
4とレーザー照射装置を動作させ、ヒューム吸引孔4aを通してエネルギービームを照射
し、蓋体の一部を仮止めする一部接合工程(S4)と、押圧部1を蓋体22から離脱させ
、蓋体22の周縁で未接合領域にエネルギービームを照射して本接合する工程(S5)と
、検査工程(S6)と、有している。
図6(b)の電子デバイス11についても同等の手順による製造が可能である。
図であり、蓋体3を取り除いて示している。図8(b)は、(a)のP−P断面図である
。振動ジャイロセンサー12は、振動ジャイロ素子40と、振動ジャイロ素子40を収容
する容器20と、を概略備えている。容器20は、ベース基板21と、ベース基板21の
キャビティー28を気密封止する蓋体22と、を備えている。
線上に突設された1対の検出用振動腕45a、45bと、を備えている。更に、振動ジャ
イロ素子40は、基部41の対向する他の2つの端縁から夫々検出用振動腕45a、45
bと直交する方向に同一直線上に突設された1対の第1の連結腕42a、42bと、各第
1の連結腕42a、42bの先部からそれと直交する両方向へ夫々突設された各1対の駆
動用振動腕43a、43b及び44a、44bと、を備えている。
振動ジャイロ素子40は、基部41の対向する他の2つの端縁から夫々前記検出用振動
腕45a、45bと直交する方向に同一直線上に突設された各1対の第2の連結腕41a
、41b、及び41c、41dと、各第2の連結腕41a、41b、及び41c、41d
の先端部からそれと直交する両方向へ夫々突設され、検出用振動腕45a、45bと、駆
動用振動腕43a、43b及び44a、44bとの間に配置された各1対の支持腕46a
、46b及び47a、47bと、を備えている。
励振電極は、少なくとも1対の検出用振動腕45a、45bと、各1対の駆動用振動腕
43a、43b及び44a、44bと、に夫々形成されている。支持腕46a、46b及
び47a、47bには、複数の電極パッド(図示せず)が形成され、この電極パッドと励
振電極との間は、夫々電気的に接続されている。
振動ジャイロセンサー7は、容器本体2の内面の、圧振動ジャイロ素子40の各検出用
振動腕45a、45b、及び各駆動用振動腕43a、43b及び44a、44bの先部と
対向する部位に金属、又は高分子材の緩衝材が設けられている。
サー12は角速度が加わらない状態では、駆動用振動腕43a、43b、44a、44b
が矢印Eで示す方向に屈曲振動を行う。このとき、駆動用振動腕43a、43bと、44
a、44bとが、重心Gを通るY軸方向の直線に関して線対称の振動を行っているため、
基部41、連結腕42a、42b、検出用振動腕45a、45bは、ほとんど振動しない
。
振動ジャイロセンサー12にZ軸回りの角速度ωが加わると、駆動用振動腕43a、4
3b、44a、44b及び第1の連結腕42a、42bにコリオリ力が働き、新たな振動
が励起される。この振動は重心Gに対して周方向の振動である。同時に、検出用振動腕4
5a、45bは、この振動に応じて検出振動が励起される。この振動により発生した歪を
検出用振動腕45a、45bに形成した検出電極が検出して角速度が求められる。
用いるデジタル携帯電話13の構成を示す概略ブロック図である。電子デバイス(例えば
圧電デバイス)11を例にして説明する。図9に示すデジタル携帯電話13で音声を送信
する場合、使用者が自分の音声をマイクロフォンに入力すると、信号はパルス幅変調・符
号化の回路と変調器/ 復調器の回路を経てトランスミッター、アンテナスイッチを介し
アンテナから送信される。一方、他者から送信された信号は、アンテナで受信され、アン
テナスイッチ、受信フィルター+アンプ回路等を経て、レシーバー回路に入り、このレシ
ーバー回路から変調器/ 復調器回路に入力される。そして、復調器回路で復調された信
号がパルス幅変調・符号化回路を経てスピーカーから音声として出力されるように構成さ
れている。アンテナスイッチや変調器/ 復調器ブ回路等を制御するためにコントローラ
が設けられている。
キー、さらにRAMやROM等も制御するため、用いられる圧電デバイスの周波数は、高
精度、高安定度であることが求められる。この要求に応える電子デバイスが、図6に示す
圧電デバイス11である。
以上のように本発明の接合方法を用いて製造された電子部品用容器を用いた電子デバイ
スを用いて電子機器を構成すると、周波数精度、周波数温度特性、エージング特性の良好
な電子デバイス11を用いて電子機器13を構成するので、長期に亘って周波数の安定な
電子機器13が得られるという効果がある。
110には、例えば図8に示すようにジャイロセンサー素子40を有するジャイロセンサ
ー12が組み込まれる。ジャイロセンサー12は車体111の姿勢を検出することができ
る。ジャイロセンサー12の検出信号は車体姿勢制御装置112に供給されることができ
る。車体姿勢制御装置112は例えば車体111の姿勢に応じてサスペンションの硬軟を
制御したり個々の車輪113のブレーキを制御したりすることができる。その他、こうい
った姿勢制御は二足歩行ロボットやラジコンヘリコプターで利用されることができる。姿
勢制御の実現にあたってジャイロセンサー12が組み込まれる。
以上のように小型で且つ出力が安定であり、エージング特性の良好な電子デバイスを用
いて移動体機器を構成するので、移動体機器の小型化と、長期に亘って安定な移動体機器
が得られるという効果がある。
…ヒューム吸引機構、4a…ヒューム吸引孔、5…上盤、6…下盤、7…空洞部、8…貫
通穴、9…連接部、10、11…電子デバイス、12…振動ジャイロセンサー、13…電
子機器(デジタル携帯電話)、20…容器、21…ベース基板、21a…下層板、21b
…上層板、21c…封止部(メタライズ層)、22…蓋体、22a…蓋体用基材、22b
…ロウ材層、22c…ニッケル膜、23…接合領域、24…素子搭載用パッド、24a…
部品搭載用パッド、25…実装端子、26…貫通ビア、27…接合部、28…キャビティ
ー、30…電子部品、35…導電性接着剤、37…第2の電子部品、40…振動ジャイロ
素子、41a、41b、41c、41d…第2の連結腕、42a、42b…第1の連結腕
、43a、43b、44a、44b…駆動用振動腕、45a、45b…検出用振動腕、4
6a、46b、47a、47b…支持腕、60…接合治具、70…エネルギービーム接合
装置、71…エネルギービーム照射手段、72…撮像手段、73…チャンバー、74…ガ
ス送出手段、75…気体吸入手段、76…制御手段、Cn…中心線、G…重心、L…エネ
ルギービーム、W1…押圧部の側面と環状体の上層板の内側との距離、W2…接合部幅
Claims (8)
- 電子部品、蓋体、および接合領域を有するベース基板、を用意する工程と、
前記ベース基板に電子部品を配置する工程と、
前記ベース基板の前記接合領域に前記蓋体が重なるように前記蓋体を前記ベース基板に
配置する工程と、
前記ベース基板と前記蓋体の重なっている方向の平面視で見て、前記接合領域よりも内
側の前記蓋体に押圧部を接触させる押圧工程と、
前記押圧部を前記蓋体に接触させた状態で、前記蓋体にエネルギービームを照射して前
記ベース基板と前記蓋体とを接合する接合する工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 - 前記接合する工程では、前記接合領域の一部を接合し、
前記接合工程の後に前記押圧部を前記蓋体から離脱させる工程と、
前記接合領域の残りの領域を接合する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイスの製造方法。 - 前記残りの領域を接合する工程では、シーム溶接を用いることを特徴とする請求項2に
記載の電子デバイスの製造方法。 - ベース基板と蓋体とを接合して電子部品用容器を組立てるための接合装置であって、
前記蓋体を前記ベースに固定させるための押圧部と、
前記蓋体にエネルギービームを照射して前記ベース基板と前記蓋体を接合するためのエ
ネルギービーム照射手段と、
を備えていることを特徴とする電子部品用容器の接合装置。 - 前記押圧部は、前記蓋体を吸着して搬送させるための吸着機構を備えていることを特徴
とする請求項4に記載の電子部品用容器の接合装置。 - 前記押圧部は、ガスを吐出する機構とガスを吸引する機構とを備えていることを特徴と
する請求項4又は5に記載の電子部品用容器の接合装置。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載の製造方法により製造された電子デバイスを備えて
いることを特徴とする電子機器。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載の製造方法により製造された電子デバイスを備えて
いることを特徴とする移動体機器。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012233498A JP2014086522A (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 電子デバイスの製造方法、電子部品用容器の接合装置、電子機器、及び移動体機器 |
US14/049,283 US20140111919A1 (en) | 2012-10-23 | 2013-10-09 | Method for manufacturing electronic device, bonding device for electronic component container, electronic apparatus, and apparatus for moving object |
CN201310498916.XA CN103769747A (zh) | 2012-10-23 | 2013-10-22 | 电子器件的制造方法、接合装置、电子设备及移动体设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012233498A JP2014086522A (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 電子デバイスの製造方法、電子部品用容器の接合装置、電子機器、及び移動体機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014086522A true JP2014086522A (ja) | 2014-05-12 |
JP2014086522A5 JP2014086522A5 (ja) | 2014-06-19 |
Family
ID=50485117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012233498A Withdrawn JP2014086522A (ja) | 2012-10-23 | 2012-10-23 | 電子デバイスの製造方法、電子部品用容器の接合装置、電子機器、及び移動体機器 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140111919A1 (ja) |
JP (1) | JP2014086522A (ja) |
CN (1) | CN103769747A (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN103769747A (zh) | 2014-05-07 |
US20140111919A1 (en) | 2014-04-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A761 | Written withdrawal of application |
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