JP2014076444A - 排ガス処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】より安価な処理薬剤コストで、排ガスの有害物質の除去処理を可能とする排ガス処理装置。
【解決手段】排ガス４が導入され処理ガス９を排出する集塵装置３と、集塵装置３に排ガスを導入するガス流路５と、排ガスのＨＣｌ濃度を検出する第一ＨＣｌ検出部６と、排ガスのＳＯｘ濃度を検出する第一ＳＯｘ検出部７と、制御指令に基づいて制御指令で定められた重量のＣａ系アルカリ剤、Ｎａ系アルカリ剤を含むアルカリ剤をガス流路に供給するアルカリ供給部１０と、アルカリ剤の重量を決定して制御指令を送出する制御装置８と、を備え、制御装置８は、第一ＨＣｌ検出部６によって検出されたＨＣｌ濃度と、第一ＳＯｘ検出部７によって検出されたＳＯｘ濃度から算出されるＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて重量を決定する排ガス処理装置１。
【選択図】図１

Description

本発明は、排ガス処理装置に関する。より詳しくは、廃棄物焼却炉、ガス化炉、溶融炉等の燃焼装置から排出されるＨＣｌ、ＳＯｘ等の有害物質を含む排ガスを浄化するために使用される排ガス処理装置に関する。

廃棄物焼却炉等の燃焼設備から排出される排ガス中には、ＨＣｌ（塩化水素、塩酸）、ＳＯｘ（硫黄酸化物）などの酸性ガス、ＮＯｘ、ダイオキシン類、煤塵などの有害物質が含まれている。これらの有害物質を除去するために、燃焼設備の出口側には排ガス処理装置が設けられている。

この排ガス処理装置における一般的なプロセスを説明すると、まず燃焼装置から排出された高温の排ガスを減温塔にて水噴霧により所定温度まで減温した後、消石灰、重曹などの噴霧によるＨＣｌ、ＳＯｘ等の酸性ガスの除去が行われる。次いで、バグフィルタ等の集塵装置を通して煤塵が集塵され、その後再加熱器により排ガスを昇温した後に、排ガスを触媒塔に通過させてアンモニア共存触媒により脱硝及びダイオキシンを分解除去している。処理された処理ガスは、誘引通風機により吸引され、煙突から排出されている。

特許文献１には、ＨＣｌを消石灰で処理するとともに、消石灰では処理しきれないＳＯｘを重曹等のＮａ系アルカリ剤（アルカリ金属化合物）で処理する排ガス処理装置が記載されている。

特開２０１０−２２１１５０号公報

しかしながら、重曹等のＮａ系アルカリ剤は高価であるため、より重曹等のＮａ系アルカリ剤の使用量を低減することによって、低コストで排ガスの処理が行える排ガス処理装置が望まれている。

この発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、より安価な処理薬剤コストで、排ガスの有害物質の除去処理を可能とする排ガス処理装置を提供することにある。

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提供している。
即ち、本発明の排ガス処理装置は、排ガスが導入され処理ガスを排出する集塵装置と、前記集塵装置に前記排ガスを導入するガス流路と、前記排ガスのＨＣｌ濃度を検出する第一ＨＣｌ検出部と、前記排ガスのＳＯｘ濃度を検出する第一ＳＯｘ検出部と、制御指令に基づいて前記制御指令で定められた重量のＣａ系アルカリ剤、Ｎａ系アルカリ剤を含むアルカリ剤を前記ガス流路に供給するアルカリ供給部と、前記アルカリ剤の重量を決定して前記制御指令を送出する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記第一ＨＣｌ検出部によって検出されたＨＣｌ濃度と、前記第一ＳＯｘ検出部によって検出されたＳＯｘ濃度から算出されるＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて前記重量を決定することを特徴とする。

上記構成によれば、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて排ガスに供給されるアルカリ剤の重量を最適化することによって、最小限の処理剤で高い排ガス処理性能を得ることができ、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置の運用が可能となる。

また、上記排ガス処理装置において、前記制御装置は、ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以下の場合に前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させることが好ましい。

上記構成によれば、ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以下のときのみにＮａ系アルカリ剤の重量を増加させるため、Ｎａ系アルカリ剤の使用量をより低減させることができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部と、前記排ガスを加湿する加湿手段と、を備え、前記制御装置は、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合に前記加湿手段を用いて前記排ガスを加湿し、前記アルカリ剤の重量は変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合は、加湿のみの処理となるため、より低コストでの処理が可能となる。また、加湿により、排ガスの水分濃度を上げることで、排ガス中のＨＣｌ等の反応性を高め、脱塩率を向上させることができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記集塵装置に流入する排ガスの温度を検出する温度検出部を備え、前記制御装置は、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下、かつ、前記排ガスの温度が所定温度以上の場合に前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させる構成としてもよい。

上記構成によれば、Ｈ_２Ｏ濃度が低い場合においても排ガスに水分を供給することなく処理を行うため、集塵装置の温度を所定温度よりも下げることなく排ガスの処理を行うことができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記制御装置は、前記排ガスのＳＯｘ濃度が所定値以下のときは前記アルカリ剤の重量を変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、排ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上のときのみ、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいた制御を行うことによって、集塵装置から排出された処理ガスの検知手段を省略することができるため、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置の運用が可能となる。

また、上記排ガス処理装置において、前記処理ガスのＳＯｘ濃度を検出する第二ＳＯｘ検出部を備え、前記制御装置は、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以下の場合に前記アルカリ剤の重量を変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上のときのみ、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいた制御を行うことによって、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置の運用が可能となる。

また、上記排ガス処理装置において、前記制御装置は、前記排ガスの前記ＨＣｌ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、排ガスのＨＣｌ濃度が高い場合は、Ｃａ系アルカリ剤のみ増加させるため、Ｎａ系アルカリ剤の使用量をより低減させることができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記処理ガスのＨＣｌ濃度を検出する第二ＨＣｌ検出部を備え、前記制御装置は、前記処理ガスのＨＣｌ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、処理ガスのＨＣｌ濃度が高い場合は、Ｃａ系アルカリ剤のみ増加させるため、Ｎａ系アルカリ剤の使用量をより低減させることができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記集塵装置は、バグフィルタであり、前記バグフィルタの表面に堆積された表面体積層の単位面積当たりの堆積重量を測定する重量測定演算器を備え、前記制御装置は、前記堆積重量が所定値以上のときは前記アルカリ剤の重量を変化させないことが好ましい。

上記構成によれば、バグフィルタの表面堆積層が薄い場合にのみＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいた制御を行うことによって、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置の運用が可能となる。

また、上記排ガス処理装置において、前記集塵装置は、バグフィルタであり、前記バグフィルタの表面に堆積された表面堆積層の単位面積当たりの堆積重量を測定する重量測定演算器を備え、前記制御装置は、前記堆積重量が所定値以下、かつ、前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記堆積重量が所定値以上、又は前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以下の場合は、前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させることが好ましい。

上記構成によれば、バグフィルタの表面堆積層の堆積重量が所定値以下の場合に、Ｃａ系アルカリ剤を増加させることによって、塩化Ｃａ系反応物量を安定的に生成することができ、集塵装置での排ガス処理性能低下を抑制することができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記処理ガスのＳＯｘ濃度を検出する第二ＳＯｘ検出部と、前記処理ガスのＨＣｌ濃度を検出する第二ＨＣｌ検出部と、を備え、前記制御装置は、前記処理ガスのＨＣｌ濃度が所定値以下、かつ、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上のとき、前記Ｎａ系アルカリ剤を増加させることが好ましい。

上記構成によれば、処理ガスのＳＯｘ濃度が高い場合に、Ｎａ系アルカリ剤によって処理ガスを中和することができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部と、前記排ガスを加湿する加湿手段と、を備え、前記制御装置は、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合に前記加湿手段を用いて前記排ガスを加湿し、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させることが好ましい。

上記構成によれば、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合は、加湿のみの処理となるため、より低コストでの処理が可能となる。また、加湿により、排ガス中のＨＣｌ等を水溶液状態にして固液反応させることによって、脱塩率を向上させることができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記集塵装置はバグフィルタであり、前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部を備え、前記アルカリ供給部はＣａ系アルカリ剤として、比表面積１２〜１５ｍ^２／ｇ、細孔容積０．０３〜０．０７ｃｍ^３／ｇでありＪＩＳ特号相当の特号消石灰と、比表面積３０ｍ^２／ｇ以上、細孔容積０．１〜０．３ｃｍ^３／ｇである高反応消石灰を供給可能であり、前記制御装置は、前記Ｈ_２Ｏ濃度及び前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて前記特号消石灰と前記高反応消石灰とを使い分けてもよい。

上記構成によれば、特号消石灰を使用した方が高効率となる使用条件を明確化することによって、高コストである高反応消石灰の使用量を低減することができる。
また、過剰の石灰供給による、集塵装置での差圧上昇を防止することができる。

また、上記排ガス処理装置において、前記特号消石灰を用いた場合の脱硫率と、前記高反応消石灰を用いた場合の脱硫率と、から作成した前記特号消石灰と前記高反応消石灰の使い分け境界線図を備え、前記制御装置は、前記使い分け境界線図に基づいて前記特号消石灰と前記高反応消石灰とを使い分けることが好ましい。

また、上記排ガス処理装置において、前記使い分け境界線図は、複数の前記Ｈ_２Ｏ濃度毎に作成した前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比と前記脱硫率からなる性能線図から作成することが好ましい。

また、上記排ガス処理装置において、前記第一ＨＣｌ検出部及び前記第一ＳＯｘ検出部にフーリエ変換赤外分計測を用いることが好ましい。

本発明によれば、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて排ガスに供給されるアルカリ剤の重量を最適化することによって、最小限の処理剤で高い排ガス処理性能を得ることができ、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置の運用が可能となる。

本発明の第一実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第二実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第三実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第四実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第五実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第六実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第七実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第八実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 本発明の第九実施形態に係る排ガス処理装置の系統図である。 水分濃度２０ｖｏｌ％のときの脱硫率を示す性能線図である。 水分濃度１８ｖｏｌ％のときの脱硫率を示す性能線図である。 水分濃度１６ｖｏｌ％のときの脱硫率を示す性能線図である。 Ｃａ系アルカリ剤の使い分け境界線図である。 ガス温度１７０℃におけるＣａ系アルカリ剤の使い分け境界線図である。 ガス温度１５０℃におけるＣａ系アルカリ剤の使い分け境界線図である。

（第一実施形態）
以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１は、集塵装置３と、燃焼設備２から排出された排ガス４を集塵装置３に導入するガス流路５と、集塵装置３に導入される排ガス４のＨＣｌ濃度を検出する第一ＨＣｌ検出部６と、排ガス４のＳＯｘ濃度を検出する第一ＳＯｘ検出部７と、制御装置８と、ガス流路５にアルカリ剤を供給するアルカリ供給部１０と、集塵装置３から排出された処理ガス９を大気放出する煙突１３と、を備えている。

第一ＨＣｌ検出部６と第二ＳＯｘ検出部２２は、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分計測）を用いた計測器であるが、質量分析装置、ガスクロマトグラフィー、真空紫外光／質量分析装置や吸光光度計等の光学検出器、レーザ測定装置等も採用することができる。

燃焼設備２は、例えば燃焼炉、焼却炉、熱分解炉、溶融炉である。
集塵装置３の内部には、複数の室に隔離され、各室内にバグフィルタや触媒を担持するバグフィルタ（触媒バグフィルタ）が設けられている。触媒として、酸化チタン、五酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化タングステンなどを含むチタン−バナジウム系触媒が使用できる。

アルカリ供給部１０は、消石灰等のＣａ（カルシウム）系アルカリ剤を供給する消石灰供給部１１と、消石灰供給部１１の下流側に設けられ、重曹等のＮａ（ナトリウム）系アルカリ剤を供給する重曹供給部１２とから構成されている。即ち、ガス流路５を流れる排ガス４に対しては、まずＣａ系アルカリ剤が供給され、次いでＮａ系アルカリ剤が供給されるように構成されている。

消石灰供給部１１は、制御装置８から送出される制御指令で定められた重量のＣａ系アルカリ剤を供給するように構成されている。同様に、重曹供給部１２は、制御装置８から送出される制御指令で定められた重量のＮａ系アルカリ剤を供給するように構成されている。

アルカリ剤は、塩化水素（ＨＣｌ、塩酸）、硫黄酸化物（ＳＯｘ）等の酸性ガス成分を中和するための中和剤である。
Ｃａ系アルカリ剤は、一般的には、Ｃａ（ＯＨ）_２（消石灰）である。以下、Ｃａ系アルカリ剤を消石灰として説明する。
Ｎａ系アルカリ剤は、一般的には、ＮａＨＣＯ_３（炭酸水素ナトリウム、重炭酸ナトリウム重曹）である。以下、Ｎａ系アルカリ剤を重曹として説明する。

制御装置８は、第一ＨＣｌ検出部６で検出された排ガス４のＨＣｌ濃度、及び第一ＳＯｘ検出部７で検出された排ガス４のＳＯｘ濃度が入力されるとともに、検出値に基づいてアルカリ供給部１０から供給されるアルカリ剤の重量を決定して制御指令をアルカリ供給部１０に送出するように構成されている。

次に、本実施形態の排ガス処理装置１の制御方法について説明する。
本実施形態の制御装置８は、第一ＨＣｌ検出部６によって検出されたＨＣｌ濃度（ｐｐｍ）と、第一ＳＯｘ検出部７によって検出されたＳＯｘ濃度（ｐｐｍ）の比、即ちＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βを算出し、このβの値に基づいてアルカリ剤の使用量を制御する。

具体的には、制御装置８は、βが所定の値（例えば３〜５）よりも大きい場合に、消石灰の重量を増加させるような制御を行う。そして、制御装置８は、βが所定の値よりも小さい場合に、所定の重量の消石灰をガス流路５に供給するとともに、重曹の重量を増加させるような制御を行う。

上述したように、βの値は、例えば３〜５である。この値は、排ガス４中のＨＣｌ濃度がやや高く（８００ｐｐｍ〜１２００ｐｐｍ）、かつ、ＳＯｘ濃度が高い（２００ｐｐｍ〜３００ｐｐｍ）場合を想定した値であり、制御装置８は、βの値が小さい場合、即ち、排ガス４のＳＯｘ濃度が高い場合に、ＳＯｘ濃度を低減するために消石灰に加えて重曹をガス流路５に供給する制御を行う。

上記実施形態によれば、ＨＣｌ／ＳＯｘ比であるβに基づいてＣａ系アルカリ剤とＮａ系アルカリ剤からなるアルカリ剤の重量を決定することによって、排ガス４に供給されるアルカリ剤の重量を最適化し、より安価な処理剤コストで排ガス処理装置１の運用が可能となる。
さらに、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βが所定値以下のときのみに重曹等のＮａ系アルカリ剤の重量を増加させるため、Ｎａ系アルカリ剤の使用量をより低減させることができる。

（第二実施形態）
以下、本発明の第二実施形態に係る排ガス処理装置１Ｂを図面に基づいて説明する。
図２は、本実施形態に係る排ガス処理装置１Ｂの一例を示す系統図である。なお、本実施形態では、上述した第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。

図２に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｂにおいては、ガス流路５の上流側に排ガス温度を低下させるとともに、排ガス４を加湿する加湿手段としての減温塔１５が設けられている。減温塔１５には、減温水管１６を介して給水装置１７から減温水が供給される。また、第一ＨＣｌ検出部６の下流側には、Ｈ_２Ｏの濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部１８が設けられている。さらに、アルカリ供給部１０の上流側には、排ガス４を加湿する加湿手段としての水蒸気供給部１９が設けられている。

次に、本実施形態の排ガス処理装置１Ｂの制御方法について説明する。
本実施形態の制御装置８は、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に加え、排ガス４中のＨ_２Ｏ濃度を考慮して排ガス４の処理を行うことを特徴としている。即ち、制御装置８は、Ｈ_２Ｏ検出部１８によって検出される排ガス４のＨ_２Ｏ濃度が一定値以下（例えば２０％以下）のときは、排ガス４を加湿する制御を行う。具体的には、制御装置８は、Ｈ_２Ｏ濃度が一定値以下のときは、水蒸気供給部１９に対して、ガス流路５に水蒸気を供給するような制御指令を送出するか、または、給水装置１７に減温塔１５の水量を増加させるような制御指令を送出する。

一方、Ｈ_２Ｏ濃度が一定値以上のときは、第一実施形態と同様の制御を行う。即ち、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値に基づいてアルカリ剤（消石灰、重曹）の使用量を制御して排ガス４の処理を行う。

上記実施形態によれば、ＨＣｌ／ＳＯｘ比に加え、Ｈ_２Ｏ濃度も参照してＣａ系アルカリ剤、水分／蒸気、さらに水分濃度の影響が少ないＮａ系アルカリ剤を使い分け、調整を行うことによって、より最適な排ガス４の処理を行うことができる。
また、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合は、加湿のみの処理となるため、より低コストでの処理が可能となる。また、加湿により、排ガス４中の水分濃度を上げることで、排ガス４中のＨＣｌ等の反応性を高め、脱塩率を向上させることができる。

なお、上記実施形態においては、制御装置８が排ガス４のＳＯｘ濃度を監視し、排ガス４のＳＯｘ濃度が所定値（例えば１００ｐｐｍ）以下のときには、アルカリ剤の重量を変化させない、即ちＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいた制御を行わない構成としてもよい。このような制御を行うことによって、より低コストでの排ガス処理が可能となる。

（第三実施形態）
以下、本発明の第三実施形態に係る排ガス処理装置１Ｃを図面に基づいて説明する。
図３は、本実施形態に係る排ガス処理装置１Ｃの一例を示す系統図である。なお、本実施形態では、上述した第一実施形態との相違点を中心に述べ、同様の部分についてはその説明を省略する。

本実施形態の排ガス処理装置１Ｃの装置構成は、第一実施形態の装置構成に加えて、第二実施形態と同様のＨ_２Ｏ検出部１８と、水蒸気供給部１９とを設けたものである。さらに、集塵装置３の入口側には、温度検出部２１が設けられており、検出された温度は、制御装置８に入力されるように構成されている。

次に、第三実施形態に係る排ガス処理装置１Ｃの制御方法について説明する。
本実施形態の制御装置８は、集塵装置３に流入する排ガス４の温度によって、排ガス４を加湿するか、排ガス４に重曹を供給するかを判断することを特徴としている。
即ち、制御装置８は、温度検出部２１によって検出される温度を監視しており、例えば、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下（例えば１８ｖｏｌ％以下）、かつ、温度検出部２１によって検出された排ガス温度が所定値以上（例えば１８０℃以上）の場合は、重曹供給部１２より供給される重曹を増加させる制御を行う。
一方、Ｈ_２Ｏ濃度が一定値以上のときは、第一実施形態と同様の制御を行う。即ち、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値に基づいてアルカリ剤（消石灰、重曹）の使用量を制御して排ガス４の処理を行う。

上記実施形態によれば、Ｈ_２Ｏ濃度が低い場合においては排ガス４に水分を供給することなく処理を行うため、集塵装置３の温度を所定温度よりも下げることなく排ガス４の処理を行うことができる。

なお、集塵装置３に導入される排ガス４の温度を考慮する必要がなければ、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下（例えば１８ｖｏｌ％以下）の場合に水蒸気供給部１９により排ガス４を加湿する制御を行う構成としてもよい。
また、本実施形態の構成に、第二実施形態の減温塔１５を組み合わせて、さらに上流側の排ガス４を加湿する構成とすることも可能である。

（第四実施形態）
以下、本発明の第四実施形態に係る排ガス処理装置１Ｄを図面に基づいて説明する。
図４は、本実施形態に係る排ガス処理装置１Ｄの一例を示す系統図である。
本実施形態の排ガス処理装置１Ｄの装置構成は、第二実施形態の装置構成に加えて、集塵装置３から排出される処理ガス９のＳＯｘ濃度を検出する第二ＳＯｘ検出部２２を設けたものである。第二ＳＯｘ検出部２２として、フーリエ変換赤外分計測を用いた計測器を採用することができる。

次に、第四実施形態に係る排ガス処理装置１Ｄの制御方法について説明する。
本実施形態の制御装置８は、集塵装置３から排出される処理ガス９のＳＯｘ濃度に応じて、ＨＣｌ／ＳＯｘ比による制御を行うか否かを判断することを特徴としている。
即ち、制御装置８は、第二ＳＯｘ検出部２２によって検出される処理ガス９のＳＯｘ濃度が所定値（例えば１５ｐｐｍ〜２０ｐｐｍ）以下の場合は、アルカリ剤の供給量（重量）を変化させないような制御を行う。一方、第二ＳＯｘ検出部２２によって検出される処理ガス９のＳＯｘ濃度が所定値以上の場合は、第一実施形態〜第三実施形態と同様の制御を行う。即ち、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値に基づいてアルカリ剤（消石灰、重曹）の使用量を制御したり、Ｈ_２Ｏ濃度に応じて排ガス４を加湿したりして排ガス４の処理を行う。

上記実施形態によれば、処理ガス９のＳＯｘ濃度が所定値以上の場合にのみ、消石灰や重曹の重量を増加させる制御を行うため、より低コストで排ガス４の処理が可能となる。

なお、本実施形態の構成に、第三実施形態の集塵装置３の上流側に設置されている温度検出部２１を構成を加えて、集塵装置３の温度を管理する構成とすることも可能である。

（第五実施形態）
以下、本発明の第五実施形態に係る排ガス処理装置１Ｅを図面に基づいて説明する。
図５に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｅの装置構成は、第四実施形態の装置構成に加えて、集塵装置３から排出される処理ガス９のＨＣｌ濃度を検出する第二ＨＣｌ検出部２３を設けたものである。第二ＨＣｌ検出部２３として、フーリエ変換赤外分計測を用いた計測器を採用することができる。

本実施形態の制御装置８は、集塵装置３から排出される処理ガス９のＨＣｌ濃度を、ＨＣｌ／ＳＯｘ比による制御を行うか否かの判断材料とすることを特徴としている。
即ち、制御装置８は、第二ＨＣｌ検出部２３によって検出される処理ガス９のＨＣｌ濃度が所定値（例えば５ｐｐｍ〜１０ｐｐｍ）以下の場合は、アルカリ剤の供給量（重量）を変化させないような制御を行う。
一方、第二ＨＣｌ検出部２３によって検出される処理ガス９のＨＣｌ濃度が所定値以上の場合は、第四実施形態と同様の制御を行う。即ち、処理ガス９のＳＯｘ濃度、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値、排ガス４のＨ_２Ｏ濃度、などに基づいて排ガス４の処理を行う。

上記実施形態によれば、処理ガス９のＨＣｌ濃度が所定値以上の場合にのみ、消石灰や重曹の重量を増加させる制御を行うため、より低コストで排ガス４の処理が可能となる。

（第六実施形態）
以下、本発明の第六実施形態に係る排ガス処理装置１Fを図面に基づいて説明する。
図６に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｆの装置構成は、第五実施形態の装置構成に加えて、集塵装置３であるバグフィルタの表面に堆積された表面体積層の単位面積当たりの堆積重量を測定する重量測定演算器２４を設けたものである。重量測定演算器２４は、集塵装置３のバグ圧力損失、ろ過速度などから堆積重量を間接的に測定するものである。

本実施形態の制御装置８は、集塵装置３であるバグフィルタの表面堆積層の状態によって、ＨＣｌ／ＳＯｘ比による制御を行うか否かを判断することを特徴としている。
即ち、制御装置８は、例えば逆洗直後、あるいは逆洗開始からある一定期間内において、堆積重量が所定値（例えば１００ｇ／ｍ^２）以上の場合は、アルカリ剤の供給量（重量）を変化させないような制御を行う。
一方、堆積重量が所定値以下の場合は、第一実施形態〜第五実施形態と同様の制御を行う。即ち、処理ガス９のＳＯｘ濃度、処理ガス９のＨＣｌ濃度、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値、排ガス４のＨ_２Ｏ濃度、などに基づいて排ガス４の処理を行う。

上記実施形態によれば、バグフィルタの表面に堆積された表面堆積層が薄くなった場合にのみ、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値、排ガス４のＨ_２Ｏ濃度等に基づいて排ガス４の処理を行うため、より低コストで排ガス４の処理が可能となる。

（第七実施形態）
以下、本発明の第七実施形態に係る排ガス処理装置１Ｇを図面に基づいて説明する。
図７に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｇの装置構成は、第一実施形態の排ガス処理装置１の装置構成に加えて、第六実施形態と同様の第二ＳＯｘ検出部２２、第二ＨＣｌ検出部２３、重量測定演算器２４を設け、さらに、ガス流路５の上流側にディスク状のロータリーアトマイザ２５を設けたものである。ロータリーアトマイザ２５には、ロータリーアトマイザ２５に消石灰スラリーを供給するスラリー供給部２６が設けられている。

制御装置８は、例えば逆洗直後、あるいは逆洗開始からある一定期間内において、表面堆積層の単位面積当たりの堆積重量が所定値（例えば例えば１００ｇ／ｍ^２）以上の場合には、重曹供給部１２より供給される重曹を増加させる制御を行う。
堆積重量が所定値以下の場合であって、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値が所定値（例えば３〜５）以上の場合には、ロータリーアトマイザ２５に供給される消石灰スラリーを増加させる制御を行う。

さらに、消石灰スラリー投入後、処理ガス９のＨＣｌ濃度が所定値（例えば５００ｐｐｍ）以下であっても、処理ガス９のＳＯｘ濃度が所定値（例えば１００ｐｐｍ）以上の場合は、重曹を増加させる制御を行う。
一方、堆積重量が所定値以上の場合、または、βの値が所定値以下の場合は、アルカリ剤の重量の制御は行わない。

上記実施形態によれば、逆洗直後における表面堆積層が薄い場合でも、集塵装置３の上流側のロータリーアトマイザ２５での消石灰スラリーの重量を増加させることによって、塩化Ｃａ系反応物量を安定的に生成することができ、集塵装置３での排ガス処理性能低下を抑制することができる。
また、処理ガス９のＳＯｘ濃度が高い場合には、重曹によって処理ガス９を中和することができる。

なお、本実施形態では、消石灰スラリーの供給先としてロータリーアトマイザ２５を設置する構成としたが、消石灰スラリーの噴霧の際には、減温塔１５に導入して噴霧してもよく、これにより、排ガス４の減温効果も同時に得ることができる。

（第八実施形態）
以下、本発明の第八実施形態に係る排ガス処理装置１Ｈを図面に基づいて説明する。
図８に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｈの装置構成は、第七実施形態の排ガス処理装置１Ｇの装置構成に加えて、第二実施形態と同様のＨ_２Ｏ検出部１８、水蒸気供給部１９を設け、ロータリーアトマイザ２５にスラリー供給部２６に加え、水供給部２７を設けた装置構成である。

制御装置８は、第七実施形態と同様に、バグフィルタの表面堆積層の堆積重量が所定値（例えば１００ｇ／ｍ^２）以上の場合には、アルカリ剤の供給量（重量）の制御は行わない。
堆積重量が所定値以下の場合であって、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値が所定値（例えば３〜５）以上の場合には、ロータリーアトマイザ２５に供給される消石灰スラリーを増加させる制御を行う。

さらに、消石灰スラリー投入後、処理ガス９のＨＣｌ濃度が所定値（例えば５００ｐｐｍ）以下、かつ、処理ガス９のＳＯｘ濃度が所定値（例えば１００ｐｐｍ）以上の場合は、Ｈ_２Ｏ濃度に基づいてアルカリ剤及び加湿の制御を行う。具体的には、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値（例えば１８ｖｏｌ％）以上の場合は、消石灰を増加させる制御を行い、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合は、ロータリーアトマイザ２５に水を投入するか、排ガス４に水蒸気を供給して、排ガス４を加湿する。
一方、堆積重量が所定値以上の場合、または、βの値が所定値以下の場合は、アルカリ剤の重量の制御は行わない。

上記実施形態によれば、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合は、加湿のみの処理となるため、より低コストでの処理が可能となる。また、加湿により、排ガス４中のＨＣｌ等を水溶液状態にして固液反応させることによって、脱塩率を向上させることができる。

（第九実施形態）
以下、本発明の第九実施形態に係る排ガス処理装置１Ｊを図面に基づいて説明する。
図９に示すように、本実施形態の排ガス処理装置１Ｊの装置構成は、第一実施形態の排ガス処理装置１Ａの装置構成に加えて、第二実施形態と同様のＨ_２Ｏ検出部１８を設け、さらに、消石灰供給部１１が特号消石灰供給部１１ａと、高反応消石灰供給部１１ｂとから構成されている装置構成である。

特号消石灰供給部１１ａは、制御装置８からの指令に応じてＪＩＳ特号相当の工業用消石灰（以下、特号消石灰と呼ぶ）をガス流路５に供給するように構成されている。高反応消石灰供給部１１ｂは、酸性ガス成分用の専用薬剤である高反応消石灰をガス流路５に供給するように構成されている。
高反応消石灰は、特号消石灰と比較して比表面積、細孔容積が約３倍とされた酸性ガス除去剤である。ただし、高反応消石灰は特号消石灰よりもコストの面で不利である。

具体的には、特号消石灰の比表面積は１２〜１５ｍ^２／ｇ、細孔容積は０．０７ｃｍ^３／ｇ、平均粒径は、５．０〜７．０μｍである。
高反応消石灰の比表面積は３０ｍ^２／ｇ以上、細孔容積は０．２ｃｍ^３／ｇ、平均粒径は、８．０〜１２．０μｍである。

本実施形態の制御装置８は、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝β、Ｈ_２Ｏ濃度に基づいてアルカリ剤の使用量を制御する。具体的には、制御装置８は、第一実施形態の制御に加えて、脱硫性能に基づいて作成されるＣａ系アルカリ剤使い分け境界線図（以下、使い分け境界線図と呼ぶ）を用いて消石灰を使い分ける制御を行う。

ここで、境界線図の作成方法について説明する。
まず、特号消石灰と高反応消石灰のそれぞれを使用した場合において、ｋ_ＳＯｘ（反応速度定数）、Ｌ（表面堆積層厚さ）、ＬＶ（ろ過速度）を用いて、以下の数式（１）によって脱硫率η_ＳＯｘを計算する。

ｋ_ＳＯｘは、反応速度定数であり、消石灰物性、以下に説明するα及びβ、温度などによって決定する。消石灰物性とは、細孔容積、比表面積などであり、これらの値が大きいほどｋ_ＳＯｘは大きくなる。Ｌ／ＬＶは反応時間を表す。

ｋ_ＳＯｘは、以下の数式（２）を用いて算出することができる。
ｋ_ＳＯｘ ＝ Ｆ（α）・Ｇ（β）・Ｈ（Ｃ_Ｈ２Ｏ） ・・・（２）
αは、消石灰供給量に対する排ガス処理装置入口ＨＣｌ濃度、ＳＯｘ濃度の比であり、ＨＣｌ濃度、ＳＯｘ濃度に対して反応物質である消石灰がどのくらいあるかということを表す指標となる値であって、Ｃ_{Ｃａ（ＯＨ）２}（消石灰供給量）、Ｃ_ＨＣｌ（入口ＨＣｌ濃度）、Ｃ_ＳＯｘ（入口ＳＯｘ濃度）を用いて、以下の数式（３）によって算出することができる。
α ＝ Ｃ_{Ｃａ（ＯＨ）２}／（０．５・Ｃ_ＨＣｌ＋Ｃ_ＳＯｘ） ・・・（３）

例えば、以下の反応により、ＨＣｌ及びＳＯｘと消石灰が反応する。
Ｃａ（ＯＨ）_２＋２ＨＣｌ → ＣａＣｌ_２＋２Ｈ_２Ｏ
Ｃａ（ＯＨ）_２＋ＳＯ_２ → ＣａＳＯ_３＋２Ｈ_２Ｏ

βは、上述したように、ＨＣｌ濃度とＳＯｘ濃度の比であり、以下の数式（４）によって算出することができる。
β ＝ Ｃ_ＨＣｌ／Ｃ_ＳＯｘ ・・・（４）
Ｃ_Ｈ２Ｏは、水分濃度である。

Ｌはバグフィルタの表面に堆積された表面堆積層（ダスト層）の厚さであり、Ｃ_ｄ（ダスト濃度）、ｕ_Ｎ（流速）、ｔ（反応時間・ダスト体積時間）、ρ（表面堆積層かさ密度）を用いて、以下の数式（５）によって算出することができる。ｎは定数である。

即ち、脱硫率η_ＳＯｘは、数式（１）に数式（２）、ＬＶ値、数式（５）を代入することによって算出することができる。ここで、ｋ_ＳＯｘは数式（２）に数式（３）、数式（４）、Ｃ_Ｈ２Ｏを代入することで求めることができる。

次に、上記の数式を用いて各排ガス処理条件（温度、α、β、水分濃度）における脱硫率η_ＳＯｘを計算する。例えば、特号消石灰と高反応消石灰について水分濃度毎に性能線図を作成する。
図１０は、水分濃度２０ｖｏｌ％のときの、ＨＣｌ／ＳＯｘ比βに対する脱硫率η_ＳＯｘを示す性能線図である。図１１は、水分濃度１８ｖｏｌ％のときの、ＨＣｌ／ＳＯｘ比βに対する脱硫率η_ＳＯｘを示す性能線図である。図１２は、水分濃度１６ｖｏｌ％のときの、ＨＣｌ／ＳＯｘ比βに対する脱硫率η_ＳＯｘを示す性能線図である。

これらの図にて、特号消石灰と高反応消石灰の性能曲線の交点を求める。実際には、水分濃度を１％程度の刻みで性能線図を複数作成してそれぞれの性能線図で交点を求める。即ち、この交点よりβの値が小さければ、高反応消石灰でなければ脱硫率η_ＳＯｘの維持ができなくなる。また、この交点よりβの値が大きければ、特号消石灰を使用した方が高効率となり、高コストを要する高反応消石灰を使用する必要がなくなる。

そして、交点のＸ座標軸のβ値と水分濃度の関係を図１３に示すようなグラフにし、これを使い分け境界線図とする。この使い分け境界線図によれば、測定されたβ及び水分濃度をプロットした点が、複数の交点によって得られる使い分け境界線よりも上方であれば、特号消石灰を用いたほうが、脱硫率η_ＳＯｘが高くなる。即ち、低コストかつ高効率なＣａ系アルカリ剤の使用が可能となる。
図１２、及び図１３からわかるように、水分濃度が低い程、特号消石灰の脱硫率η_ＳＯｘは低くなり、高反応消石灰を必要とするβの範囲が拡大する。

次に、本実施形態の排ガス処理装置１Ｊの制御方法について説明する。
本実施形態の制御装置８は、第一実施形態の排ガス処理装置１と同様に、ＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値に基づいてアルカリ剤の使用量を決定する。

ここで、消石灰については、図１３に示すような使い分け境界線図に基づいて最適（低コストかつ高効率）なＣａ系アルカリ剤の種類を選定して使用する。即ち、Ｈ_２Ｏ濃度（水分濃度）とＨＣｌ／ＳＯｘ比＝βの値を使い分け境界線図にプロットし、特号消石灰と高反応消石灰とを使い分ける。

上記実施形態によれば、特号消石灰を使用した方が高効率となる使用条件を明確化することによって、高コストである高反応消石灰の使用量を低減することができる。
換言すれば、脱硫率η_ＳＯｘは、水分濃度とＨＣｌ／ＳＯｘ比の相関関係の影響を強く受けるため、水分濃度値とＨＣｌ／ＳＯｘ比によってＣａアルカリ剤の種類を変更したり、量を調整したりと最適な制御をすることで、最小限の量かつ低コストで高い排ガス処理性能を得ることが可能となる。
また、過剰の石灰供給による、集塵装置３での差圧上昇を防止することができる。

なお、第一ＨＣｌ検出部６、第一ＳＯｘ検出部７、Ｈ_２Ｏ検出部１８は、集塵装置３の上流に設けられているが、これらの設置場所は集塵装置３から燃焼設備２の出口の間であればどこでもよい。また、燃焼設備２の出口におけるＨＣｌ濃度、ＳＯｘ濃度、Ｈ_２Ｏ濃度を予測可能な場合には計測は不要であり、予測値を基に使い分け境界線図を作成してもよい。

（第九実施形態の変形例）
次に、第九実施形態の変形例について説明する。この変形例においては、使用温度毎により、Ｃａ系アルカリ剤使い分け境界線図を作成して、この使い分け境界線図に基づいて消石灰を選定して使用する。

例えば、ろ過速度ＬＶ＝０．８ｍ／ｍｉｎ、ガス温度Ｔ＝１７０℃、α＝３における使い分け境界線図は、図１４に示すようなものとなる。ろ過速度ＬＶ＝０．８ｍ／ｍｉｎ、ガス温度Ｔ＝１５０℃、α＝３における使い分け境界線図（即ち、図１４に対して温度を変化させた場合）は、図１５に示すようなものとなる。
図１４及び図１５によれば、ガス温度が低温、かつ水分濃度が高いほど、低コストかつ高効率である特号消石灰の使用条件範囲が広範囲となる。

なお、本発明の技術範囲は上記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変更を加えることが可能である。例えば、以上で説明した各実施形態では、アルカリ剤は、第一ＳＯｘ検出部７及び第一ＨＣｌ検出部６の下流側に供給する構成としたが、これら検出部の上流側に供給する構成としてもよい。

１，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈ，１Ｊ 排ガス処理装置
２ 燃焼設備
３ 集塵装置
４ 排ガス
５ ガス流路
６ 第一ＨＣｌ検出部
７ 第一ＳＯｘ検出部
８ 制御装置
９ 処理ガス
１０ アルカリ供給部
１１ 消石灰供給部
１１ａ 特号消石灰供給部
１１ｂ 高反応消石灰供給部
１２ 重曹供給部
１５ 減温塔
１６ 減温水管
１７ 給水装置
１８ Ｈ２Ｏ検出部
１９ 水蒸気供給部
２１ 温度検出部
２２ 第二ＳＯｘ検出部
２３ 第二ＨＣｌ検出部
２４ 重量測定演算器
２５ ロータリーアトマイザ
２６ スラリー供給部
２７ 水供給部

Claims (16)

1. 排ガスが導入され処理ガスを排出する集塵装置と、
   前記集塵装置に前記排ガスを導入するガス流路と、
   前記排ガスのＨＣｌ濃度を検出する第一ＨＣｌ検出部と、
   前記排ガスのＳＯｘ濃度を検出する第一ＳＯｘ検出部と、
   制御指令に基づいて前記制御指令で定められた重量のＣａ系アルカリ剤、Ｎａ系アルカリ剤を含むアルカリ剤を前記ガス流路に供給するアルカリ供給部と、
   前記アルカリ剤の重量を決定して前記制御指令を送出する制御装置と、を備え、
   前記制御装置は、前記第一ＨＣｌ検出部によって検出されたＨＣｌ濃度と、前記第一ＳＯｘ検出部によって検出されたＳＯｘ濃度から算出されるＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて前記重量を決定することを特徴とする排ガス処理装置。
2. 前記制御装置は、ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以下の場合に前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理装置。
3. 前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部と、
   前記排ガスを加湿する加湿手段と、を備え、
   前記制御装置は、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合に前記加湿手段を用いて前記排ガスを加湿し、前記アルカリ剤の重量は変化させないことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の排ガス処理装置。
4. 前記集塵装置に流入する排ガスの温度を検出する温度検出部を備え、
   前記制御装置は、Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下、かつ、前記排ガスの温度が所定温度以上の場合に前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させることを特徴とする請求項３に記載の排ガス処理装置。
5. 前記制御装置は、前記排ガスのＳＯｘ濃度が所定値以下のときは前記アルカリ剤の重量を変化させないことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
6. 前記処理ガスのＳＯｘ濃度を検出する第二ＳＯｘ検出部を備え、
   前記制御装置は、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以下の場合に前記アルカリ剤の重量を変化させないことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
7. 前記制御装置は、前記排ガスの前記ＨＣｌ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を変化させないことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
8. 前記処理ガスのＨＣｌ濃度を検出する第二ＨＣｌ検出部を備え、
   前記制御装置は、前記処理ガスのＨＣｌ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を変化させないことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
9. 前記集塵装置は、バグフィルタであり、
   前記バグフィルタの表面に堆積された表面体積層の単位面積当たりの堆積重量を測定する重量測定演算器を備え、
   前記制御装置は、前記堆積重量が所定値以上のときは前記アルカリ剤の重量を変化させないことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。
10. 前記集塵装置は、バグフィルタであり、
    前記バグフィルタの表面に堆積された表面堆積層の単位面積当たりの堆積重量を測定する重量測定演算器を備え、
    前記制御装置は、前記堆積重量が所定値以下、かつ、前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、
    前記堆積重量が所定値以上、又は前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比が所定値以下の場合は、
    前記Ｎａ系アルカリ剤の重量を増加させることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理装置。
11. 前記処理ガスのＳＯｘ濃度を検出する第二ＳＯｘ検出部と、
    前記処理ガスのＨＣｌ濃度を検出する第二ＨＣｌ検出部と、を備え、
    前記制御装置は、前記処理ガスのＨＣｌ濃度が所定値以下、かつ、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上のとき、前記Ｎａ系アルカリ剤を増加させることを特徴とする請求項１０に記載の排ガス処理装置。
12. 前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部と、
    前記排ガスを加湿する加湿手段と、を備え、
    前記制御装置は、前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させ、
    前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以下の場合に前記加湿手段を用いて前記排ガスを加湿し、
    前記処理ガスのＳＯｘ濃度が所定値以上、かつ、前記Ｈ_２Ｏ濃度が所定値以上の場合に前記Ｃａ系アルカリ剤の重量を増加させることを特徴とする請求項１１に記載の排ガス処理装置。
13. 前記集塵装置はバグフィルタであり、
    前記排ガスのＨ_２Ｏ濃度を検出するＨ_２Ｏ検出部を備え、
    前記アルカリ供給部はＣａ系アルカリ剤として、比表面積１２〜１５ｍ^２／ｇ、細孔容積０．０３〜０．０７ｃｍ^３／ｇでありＪＩＳ特号相当の特号消石灰と、比表面積３０ｍ^２／ｇ以上、細孔容積０．１〜０．３ｃｍ^３／ｇである高反応消石灰を供給可能であり、
    前記制御装置は、前記Ｈ_２Ｏ濃度及び前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比に基づいて前記特号消石灰と前記高反応消石灰とを使い分けることを特徴とする請求項２に記載の排ガス処理装置。
14. 前記特号消石灰を用いた場合の脱硫率と、前記高反応消石灰を用いた場合の脱硫率と、から作成した前記特号消石灰と前記高反応消石灰の使い分け境界線図を備え、
    前記制御装置は、前記使い分け境界線図に基づいて前記特号消石灰と前記高反応消石灰とを使い分けることを特徴とする請求項１３に記載の排ガス処理装置。
15. 前記使い分け境界線図は、複数の前記Ｈ_２Ｏ濃度毎に作成した前記ＨＣｌ／ＳＯｘ比と前記脱硫率からなる性能線図から作成することを特徴とする請求項１４に記載の排ガス処理装置。
16. 前記第一ＨＣｌ検出部及び前記第一ＳＯｘ検出部にフーリエ変換赤外分計測を用いることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載の排ガス処理装置。

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