JP2014067940A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014067940A5 JP2014067940A5 JP2012213573A JP2012213573A JP2014067940A5 JP 2014067940 A5 JP2014067940 A5 JP 2014067940A5 JP 2012213573 A JP2012213573 A JP 2012213573A JP 2012213573 A JP2012213573 A JP 2012213573A JP 2014067940 A5 JP2014067940 A5 JP 2014067940A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unit
- processing
- substrate
- coating
- blocks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012213573A JP5920981B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 基板処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012213573A JP5920981B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 基板処理システム |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014067940A JP2014067940A (ja) | 2014-04-17 |
| JP2014067940A5 true JP2014067940A5 (enExample) | 2014-11-27 |
| JP5920981B2 JP5920981B2 (ja) | 2016-05-24 |
Family
ID=50744024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012213573A Active JP5920981B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 基板処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5920981B2 (enExample) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101919122B1 (ko) * | 2014-08-12 | 2018-11-15 | 주식회사 제우스 | 공정 분리형 기판 처리장치 및 처리방법 |
| JP6929105B2 (ja) * | 2017-04-06 | 2021-09-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08115968A (ja) * | 1994-10-13 | 1996-05-07 | Touyoko Kagaku Kk | 多段式複数チャンバ真空熱処理装置 |
| US6749390B2 (en) * | 1997-12-15 | 2004-06-15 | Semitool, Inc. | Integrated tools with transfer devices for handling microelectronic workpieces |
| JPH1074818A (ja) * | 1996-09-02 | 1998-03-17 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JP3462405B2 (ja) * | 1998-10-29 | 2003-11-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| JP3845585B2 (ja) * | 2002-01-25 | 2006-11-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置 |
| JP4209658B2 (ja) * | 2002-10-22 | 2009-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| JP4464993B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2010-05-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理システム |
| JP5284808B2 (ja) * | 2009-01-26 | 2013-09-11 | 株式会社Sokudo | ストッカー装置及び基板処理装置 |
| JP2010251380A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウエハローディング・アンローディング方法および装置 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012213573A patent/JP5920981B2/ja active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011253897A5 (enExample) | ||
| JP2006287178A5 (enExample) | ||
| JP2009278138A5 (enExample) | ||
| JP2014138063A5 (enExample) | ||
| TWI456360B (zh) | 基板處理系統及基板處理方法 | |
| JP2012151312A5 (enExample) | ||
| JP2014513429A5 (enExample) | ||
| JP6723110B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP6243784B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP6049367B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理システム | |
| WO2008059684A1 (fr) | Equipement de transport de substrat | |
| JP2014067940A5 (enExample) | ||
| TWI525739B (zh) | 基板處理裝置 | |
| JP2020035935A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP5569508B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2014063791A5 (enExample) | ||
| JP5977729B2 (ja) | 基板処理システム | |
| JP2013162111A5 (enExample) | ||
| JP6363284B2 (ja) | 基板処理システム | |
| JP5378686B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP7142566B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP7232593B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP5925869B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP5920981B2 (ja) | 基板処理システム | |
| JP2020107686A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 |