JP2012156488A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
積層された第1の基板搬送領域及び第2の基板搬送領域を仕切る仕切り位置に設けられ、内部に気体拡散室を備える仕切り板と、基板搬送領域の幅方向中央部から周縁部に寄った位置にて、前記仕切り板に前記気体拡散室に連通する清浄気体供給口に気体を供給する気体供給路と、前記気体供給路に設けられ、前記清浄気体供給口に供給する気体を清浄化するためのフィルタと、仕切り板の下面に形成され、気体拡散室にて拡散した気体を基板搬送領域に吐出するための多数の吐出口と、を備え、仕切り板は、メンテナンス時に第2の基板搬送領域から第1の基板搬送領域が見通せる開放状態とするために前記仕切り位置から退避できるように装置を構成する。
【選択図】図6
Description
各々横方向に伸び、互いに上下に積層された第1の基板搬送領域及び第2の基板搬送領域と、
前記第1の基板搬送領域及び第2の基板搬送領域を互いに仕切るための仕切り位置に設けられ、内部に気体拡散室を形成する空洞の仕切り板と、
前記基板搬送領域の幅方向中央部から周縁部に寄った位置にて、前記仕切り板に前記気体拡散室に連通するように形成された清浄気体供給口と、
前記清浄気体供給口に気体を供給する気体供給路と、
前記気体供給路に設けられ、前記清浄気体供給口に供給する気体を清浄化するためのフィルタと、
前記仕切り板の下面に形成され、拡散室にて拡散した気体を基板搬送領域に吐出する多数の吐出口と、を備え、
前記仕切り板は、メンテナンス時に第2の基板搬送領域から第1の基板搬送領域が見通せる開放状態とするために前記仕切り位置から退避できるように構成されたことを特徴とする。
(a)前記気体拡散室には、当該気体拡散室を第1の領域と、当該第1の領域よりも前記清浄気体供給口から横方向に離れた第2の領域とに区画する区画部材が設けられ、
前記区画部材には第1の領域から第2の領域へ前記清浄気体を流通させる多数の気体流通口が設けられる。
(b)前記気体拡散室には、清浄気体供給口から離れたガスを清浄気体供給口に向けて戻るようにガイドするガイド部材が設けられている。
(c)前記ガイド部材は平面視コ字型に形成され、当該コ字型が清浄気体供給口と反対方向に開口する。
(d)前記仕切り板は、水平軸回りに回転自在である。
(e)基板搬送領域には、基板を搬送するための基板搬送機構と、前記基板搬送機構を基板搬送領域に沿ってガイドする搬送ガイドと、が設けられ、前記搬送ガイドは基板搬送領域の長さ方向に沿って設けられている。
(f)基板搬送領域の幅方向の両側には基板に処理を行うモジュールが設けられる。
この搬送アームA1は、単位ブロックB1の全てのモジュール間でウエハWの受け渡しを行うことができる。図4中301は搬送ガイド部材であり、棚ユニットU1〜U6の下部に、搬送領域R1の長さ方向に沿って設けられている。図中302はガイドに沿って移動するフレーム、303はフレームに沿って昇降する昇降基体、304は昇降基体上を回動する回動基体、305は回動基体上を進退するウエハ支持部である。
図4では、点線の矢印により処理ブロックS2に形成される気流を示している。搬送領域R1に供給されたエアは、棚ユニットU1〜U6の加熱モジュール401の排気部405、406及びファン装置407により排気される。
W ウエハ
1 塗布、現像装置
31 筐体
32 ファン装置
34 水平ダクト
37 フィルタ
41 仕切り板
42 清浄気体供給口
44 気体拡散室
45 吐出口
46 ガイド部材
53 蝶番
501 区画板
505 エア流通口
Claims (7)
- 基板を処理する処理部に基板を搬送するための基板搬送領域を備えた基板処理装置において、
各々横方向に伸び、互いに上下に積層された第1の基板搬送領域及び第2の基板搬送領域と、
前記第1の基板搬送領域及び第2の基板搬送領域を互いに仕切るための仕切り位置に設けられ、内部に気体拡散室を形成する空洞の仕切り板と、
前記基板搬送領域の幅方向中央部から周縁部に寄った位置にて、前記仕切り板に前記気体拡散室に連通するように形成された清浄気体供給口と、
前記清浄気体供給口に気体を供給する気体供給路と、
前記気体供給路に設けられ、前記清浄気体供給口に供給する気体を清浄化するためのフィルタと、
前記仕切り板の下面に形成され、拡散室にて拡散した気体を基板搬送領域に吐出する多数の吐出口と、を備え、
前記仕切り板は、メンテナンス時に第2の基板搬送領域から第1の基板搬送領域が見通せる開放状態とするために前記仕切り位置から退避できるように構成されたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記気体拡散室には、当該気体拡散室を第1の領域と、当該第1の領域よりも前記清浄気体供給口から横方向に離れた第2の領域とに区画する区画部材が設けられ、
前記区画部材には第1の領域から第2の領域へ前記清浄気体を流通させる多数の気体流通口が設けられることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 - 前記気体拡散室には、清浄気体供給口から離れたガスを清浄気体供給口に向けて戻るようにガイドするガイド部材が設けられていることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記ガイド部材は平面視コ字型に形成され、当該コ字型が清浄気体供給口と反対方向に開口することを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記仕切り板は、水平軸回りに回転自在であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板処理装置。
- 基板搬送領域には、基板を搬送するための基板搬送機構と、前記基板搬送機構を基板搬送領域に沿ってガイドする搬送ガイドと、が設けられ、
前記搬送ガイドは基板搬送領域の縁部に長さ方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の基板処理装置。 - 基板搬送領域の幅方向の両側には基板に処理を行うモジュールが設けられることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の基板処理装置。
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