JP2014062822A - 微小粒子分析装置及び微小粒子分析方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の検出について、分析精度を向上することが可能な微小粒子分析装置の提供。
【解決手段】 分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置を提供する。この微小粒子分析装置の構成により、装置の構造上の機械的振動等に起因する低周波ノイズが光検出部に入り込んでいても、当該低周波ノイズをハイパスフィルタにて除去することが可能となる。
【選択図】図1
【解決手段】 分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置を提供する。この微小粒子分析装置の構成により、装置の構造上の機械的振動等に起因する低周波ノイズが光検出部に入り込んでいても、当該低周波ノイズをハイパスフィルタにて除去することが可能となる。
【選択図】図1
Description
本技術は、微小粒子分析装置及び微小粒子分析方法に関する。より詳しくは、微小粒子から発生する前方散乱光の検出精度を高められる技術に関する。
従来から、フローセル内やマイクロチップに形成された流路内を通流する微小粒子に光を照射し、微小粒子から発生する散乱光や、微小粒子又は微小粒子に標識された蛍光物質から発生する蛍光を検出する微小粒子分析装置が用いられている。
この微小粒子分析装置は、微小粒子等から発生する散乱光や蛍光を検出することで、分析対象である微小粒子の光学的特性を測定するものである。また、所定の特性を有する微小粒子のみを分別して回収する分取系の構成を備える装置(フローサイトメータ又はセルソータ等とも称される)も用いられている。
この微小粒子分析装置は、微小粒子等から発生する散乱光や蛍光を検出することで、分析対象である微小粒子の光学的特性を測定するものである。また、所定の特性を有する微小粒子のみを分別して回収する分取系の構成を備える装置(フローサイトメータ又はセルソータ等とも称される)も用いられている。
微小粒子分析装置の分野においては、分析対象となる微小粒子から発生する蛍光や散乱光の検出精度や分析精度の向上を図るべく、種々の構成が提案されている。
例えば、特許文献1には、後方散乱光や蛍光をより効率的に取得すべく、微小粒子から発生する光を光検出器に導光する光学経路上に、蛍光の透過領域と散乱光の透過領域とを有する光学フィルタを備える微小粒子測定装置が提案されている。
また、特許文献2には、高精度な測定を行うことを可能とすべく、散乱されずに直進した照射光と微小粒子に散乱された散乱光とを複数領域に分割された受光素子に集光する集光手段等を備えた微小粒子測定装置が開示されている。この特許文献2には、微小粒子測定装置における集光手段として、照射光の遮断領域と散乱光の透過領域とを有する光学フィルタを用いることが提案されている。
例えば、特許文献1には、後方散乱光や蛍光をより効率的に取得すべく、微小粒子から発生する光を光検出器に導光する光学経路上に、蛍光の透過領域と散乱光の透過領域とを有する光学フィルタを備える微小粒子測定装置が提案されている。
また、特許文献2には、高精度な測定を行うことを可能とすべく、散乱されずに直進した照射光と微小粒子に散乱された散乱光とを複数領域に分割された受光素子に集光する集光手段等を備えた微小粒子測定装置が開示されている。この特許文献2には、微小粒子測定装置における集光手段として、照射光の遮断領域と散乱光の透過領域とを有する光学フィルタを用いることが提案されている。
上述の通り、微小粒子測定装置(微小粒子分析装置)の分野においては、分析精度の向上の手法が種々提案されているが、前方散乱光の検出などに関して、さらなる分析精度の向上が望まれている。
そこで、本技術は、分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の検出について、分析精度を向上することが可能な微小粒子分析装置を提供することを主目的とする。
本発明者は、前方散乱光の検出に関して、分析精度(検出精度)の向上を図るべく、鋭意研究を重ねた。研究過程において、まず、本発明者は、微小粒子分析装置の構造上の機械的振動に起因して発生する低周波ノイズの問題が存在することを突き止めた。
その問題は、機械的振動起因による低周波ノイズが、光源から出射された光のうちの微小粒子に照射されずに透過した光に含まれ、その光が前方散乱光を検出する光検出部に入射されることから生じるものである。具体的には、前方散乱光を検出する光検出部に入り込む低周波ノイズは、分析対象となる微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力レベルが小さいほど、SN比の悪化をもたらすことから問題となる。
また、本発明者は、分析対象となる微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力レベルが小さいとき、その前方散乱光の周波数が高いということに気が付いた。
そして、このときに低周波ノイズを除去すれば、SN比の悪化を防止することができるとの着想を得て本技術を見出したのである。
その問題は、機械的振動起因による低周波ノイズが、光源から出射された光のうちの微小粒子に照射されずに透過した光に含まれ、その光が前方散乱光を検出する光検出部に入射されることから生じるものである。具体的には、前方散乱光を検出する光検出部に入り込む低周波ノイズは、分析対象となる微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力レベルが小さいほど、SN比の悪化をもたらすことから問題となる。
また、本発明者は、分析対象となる微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力レベルが小さいとき、その前方散乱光の周波数が高いということに気が付いた。
そして、このときに低周波ノイズを除去すれば、SN比の悪化を防止することができるとの着想を得て本技術を見出したのである。
すなわち、上記課題解決のため、本技術は、分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置を提供する。
この構成により、装置の構造上の機械的振動等に起因する低周波ノイズが光検出部に入り込んでいても、当該低周波ノイズをハイパスフィルタにて除去することが可能となる。そして、光検出部は、前方散乱光の所定周波数に応じてハイパスフィルタに切り替わることで、当該低周波ノイズにより光検出部の検出のSN比を悪化させるおそれがあるときに、当該低周波ノイズを除去することが可能となる。
なお、本技術において、「低周波ノイズを除去する」ことには、低周波ノイズを完全に除去することのみならず、低周波ノイズの一部を除去すること、及び低周波ノイズを低減することの意も含まれる。
前記光検出部は、前記所定周波数が200kHz以上のときに、前記ハイパスフィルタに切り替わるものであることが好ましい。
前記ハイパスフィルタは、前記微小粒子と前記光検出部との間に配置される0次光除去部を回避して光検出部に入射される漏れ光に含まれる低周波ノイズを除去するものとすることができる。
また、前記ハイパスフィルタは、2kHz未満の周波数のノイズを除去することが好ましい。
前記回路は、入力側から出力側へ直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルと、を備え、前記直通のチャネルと前記ハイパスフィルタを有するチャネルとは、並列に接続されている構成であるのが好ましい。そして、前記回路は、前記直通のチャネル及び前記ハイパスフィルタを有するチャネルのうちの何れかのチャネルに切り替えるスイッチ素子を備えるのが好ましい。
さらに、前記回路は、前記前方散乱光の検出信号を増幅させる増幅器を備えるのが好ましい。
この構成により、装置の構造上の機械的振動等に起因する低周波ノイズが光検出部に入り込んでいても、当該低周波ノイズをハイパスフィルタにて除去することが可能となる。そして、光検出部は、前方散乱光の所定周波数に応じてハイパスフィルタに切り替わることで、当該低周波ノイズにより光検出部の検出のSN比を悪化させるおそれがあるときに、当該低周波ノイズを除去することが可能となる。
なお、本技術において、「低周波ノイズを除去する」ことには、低周波ノイズを完全に除去することのみならず、低周波ノイズの一部を除去すること、及び低周波ノイズを低減することの意も含まれる。
前記光検出部は、前記所定周波数が200kHz以上のときに、前記ハイパスフィルタに切り替わるものであることが好ましい。
前記ハイパスフィルタは、前記微小粒子と前記光検出部との間に配置される0次光除去部を回避して光検出部に入射される漏れ光に含まれる低周波ノイズを除去するものとすることができる。
また、前記ハイパスフィルタは、2kHz未満の周波数のノイズを除去することが好ましい。
前記回路は、入力側から出力側へ直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルと、を備え、前記直通のチャネルと前記ハイパスフィルタを有するチャネルとは、並列に接続されている構成であるのが好ましい。そして、前記回路は、前記直通のチャネル及び前記ハイパスフィルタを有するチャネルのうちの何れかのチャネルに切り替えるスイッチ素子を備えるのが好ましい。
さらに、前記回路は、前記前方散乱光の検出信号を増幅させる増幅器を備えるのが好ましい。
また、本技術は、分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタを有する回路にて、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去し、前記微小粒子を分析する微小粒子分析方法も提供する。
本技術において、「微小粒子」には、細胞や微生物、リポソームなどの生体関連微小粒子、あるいはラテックス粒子やゲル粒子、工業用粒子などの合成粒子などが広く含まれるものとする。
生体関連微小粒子には、各種細胞を構成する染色体、リポソーム、ミトコンドリア、オルガネラ(細胞小器官)などが含まれる。細胞には、動物細胞(血球系細胞など)および植物細胞が含まれる。微生物には、大腸菌などの細菌類、タバコモザイクウイルスなどのウイルス類、イースト菌などの菌類などが含まれる。さらに、生体関連微小粒子には、核酸やタンパク質、これらの複合体などの生体関連高分子も包含され得るものとする。また、工業用粒子は、例えば有機もしくは無機高分子材料、金属などであってもよい。有機高分子材料には、ポリスチレン、スチレン・ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレートなどが含まれる。無機高分子材料には、ガラス、シリカ、磁性体材料などが含まれる。金属には、金コロイド、アルミなどが含まれる。これら微小粒子の形状は、一般には球形であるのが普通であるが、非球形であってもよく、また大きさや質量なども特に限定されない。
生体関連微小粒子には、各種細胞を構成する染色体、リポソーム、ミトコンドリア、オルガネラ(細胞小器官)などが含まれる。細胞には、動物細胞(血球系細胞など)および植物細胞が含まれる。微生物には、大腸菌などの細菌類、タバコモザイクウイルスなどのウイルス類、イースト菌などの菌類などが含まれる。さらに、生体関連微小粒子には、核酸やタンパク質、これらの複合体などの生体関連高分子も包含され得るものとする。また、工業用粒子は、例えば有機もしくは無機高分子材料、金属などであってもよい。有機高分子材料には、ポリスチレン、スチレン・ジビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレートなどが含まれる。無機高分子材料には、ガラス、シリカ、磁性体材料などが含まれる。金属には、金コロイド、アルミなどが含まれる。これら微小粒子の形状は、一般には球形であるのが普通であるが、非球形であってもよく、また大きさや質量なども特に限定されない。
本技術により、分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の検出について、分析精度を向上することが可能な微小粒子分析装置及び微小粒子分析方法が提供される。
以下、本技術を実施するための好適な形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施形態は、本技術の代表的な実施形態の一例を示したものであり、これにより本技術の範囲が狭く解釈されることはない。説明は以下の順序で行う。
1.微小粒子分析装置の構成
2.微小粒子分析装置の動作
1.微小粒子分析装置の構成
2.微小粒子分析装置の動作
<1.微小粒子分析装置の構成>
本技術に係る微小粒子分析装置は、フローセルやマイクロチップ等の流路系と、流路系の流路内を通過する微小粒子から発生する蛍光(FL)、前方散乱光(FS)及び後方散乱光(BS)等の光成分を検出する光学検出系等を備えている。
図1は、本技術に係る微小粒子分析装置1の光学検出系における、前方散乱光検出系(以下、「FS検出系」ともいう。)の概略構成を説明するための模式図である。
本技術に係る微小粒子分析装置は、フローセルやマイクロチップ等の流路系と、流路系の流路内を通過する微小粒子から発生する蛍光(FL)、前方散乱光(FS)及び後方散乱光(BS)等の光成分を検出する光学検出系等を備えている。
図1は、本技術に係る微小粒子分析装置1の光学検出系における、前方散乱光検出系(以下、「FS検出系」ともいう。)の概略構成を説明するための模式図である。
本実施形態に係る微小粒子分析装置の流路系は、マイクロチップ2に形成された流路2aを備えるものである。マイクロチップ2に形成された流路2aには、サンプル液、及びサンプル液中に含まれる分析対象となる微小粒子(サンプル)Pが通流される。
マイクロチップ2に形成された流路2aを用いることは、マイクロチップ2がディスポーザブルユース(使い捨て)に適していることから、測定間(サンプル間)のクロスコンタミネーションを防止し易い点で好ましい。
マイクロチップ2は、例えば、ガラスやPC、PMMA、PE、PP、PS、及びポリジメチルシロキサン(PDMS)等の各種樹脂材料からなる基板により形成される。基板への流路2aの形成は、例えば、エッチング、射出成形、ナノインプリント、及び機械加工等によって行うことができる。
なお、流路は、水晶製、石英製又はセラミック製の略角柱状又は略円柱状等に形成されたフローセルによって構成されていてもよい。
マイクロチップ2に形成された流路2aを用いることは、マイクロチップ2がディスポーザブルユース(使い捨て)に適していることから、測定間(サンプル間)のクロスコンタミネーションを防止し易い点で好ましい。
マイクロチップ2は、例えば、ガラスやPC、PMMA、PE、PP、PS、及びポリジメチルシロキサン(PDMS)等の各種樹脂材料からなる基板により形成される。基板への流路2aの形成は、例えば、エッチング、射出成形、ナノインプリント、及び機械加工等によって行うことができる。
なお、流路は、水晶製、石英製又はセラミック製の略角柱状又は略円柱状等に形成されたフローセルによって構成されていてもよい。
本技術に係る微小粒子分析装置1のFS検出系は、図1に示すように、光源3と、光源3からの光L1を照射された微小粒子Pから発生する前方散乱光L2を検出するための光検出部4と、を備えて構成されている。この光検出部4は、前方散乱光L2を検出するものであることから、以下、前方散乱光用検出部4(以下、「FS検出部4」とも記す。)という。
また、本実施形態では、FS検出系が、光源3と流路2a(微小粒子P)との間の光学経路上に、光源3からの光L1を流路2a(微小粒子P)へ集光する集光レンズ5を備えた構成を例示する。さらに、本実施形態では、FS検出系が、流路2a(微小粒子P)とFS検出部4との間の光学経路上に、0次光除去部6を備えた構成を例示する。
また、本実施形態では、FS検出系が、光源3と流路2a(微小粒子P)との間の光学経路上に、光源3からの光L1を流路2a(微小粒子P)へ集光する集光レンズ5を備えた構成を例示する。さらに、本実施形態では、FS検出系が、流路2a(微小粒子P)とFS検出部4との間の光学経路上に、0次光除去部6を備えた構成を例示する。
光源3は、励起光を出射することが可能なものであり、流路2a内を通過するサンプル液中の微小粒子Pに対して光(励起光)L1を照射するものである。
光源3としては、レーザダイオード(以下、「LD」と記すことがある。)が好適に用いられる。LD以外にも、光源として、SHG(Second Harmonic Generation)レーザ、固体レーザ、ガスレーザ、及び高輝度LED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等も用いられ得る。また、光源3には、波長の異なる複数の光が用いられてもよい。
光源3としては、レーザダイオード(以下、「LD」と記すことがある。)が好適に用いられる。LD以外にも、光源として、SHG(Second Harmonic Generation)レーザ、固体レーザ、ガスレーザ、及び高輝度LED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等も用いられ得る。また、光源3には、波長の異なる複数の光が用いられてもよい。
光源3より出射された光(励起光)L1は、集光レンズ5を介して、流路2a内を図1中の矢印A方向に通流する微小粒子Pに照射される。このとき、微小粒子Pから蛍光や、前方散乱光L2及び後方散乱光等の必要な散乱光等が発せられる。
ここで、蛍光及び必要な散乱光成分は、微小粒子Pの光学的情報(特性)を得る上で重要な光成分である。光成分のうち前方散乱光L1からは、分析対象となる細胞等の大きさや形状等が主に分析され得る。
ここで、蛍光及び必要な散乱光成分は、微小粒子Pの光学的情報(特性)を得る上で重要な光成分である。光成分のうち前方散乱光L1からは、分析対象となる細胞等の大きさや形状等が主に分析され得る。
FS検出部4は、励起光L1を照射された微小粒子Pから発生する前方散乱光L2を検出するものである。前方散乱光L2は、光源3からの光L1の光軸に対して、一般的に1°〜19°程度の角度で、励起光L1を照射された微小粒子Pから散乱する光であり、主に微小粒子(細胞等)の大きさに関する情報が得られるものである。
FS検出部4は、例えば、フォトダイオード(PD;Photodiode)等の光検出器によって構成される。また、FS検出部4は、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2が入射されると、前方散乱光L2を電気的な信号(電圧パルス)に変換するものである。
FS検出部4は、例えば、フォトダイオード(PD;Photodiode)等の光検出器によって構成される。また、FS検出部4は、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2が入射されると、前方散乱光L2を電気的な信号(電圧パルス)に変換するものである。
流路2a(微小粒子P)とFS検出部4との間に配置されている0次光除去部6は、光源3から出射された光L1が微小粒子Pに照射されずに透過して、FS検出部4に入射する光(0次光)を遮断するためのものである。この0次光除去部6は、流路2a(微小粒子P)とFS検出部4との間の光学経路上であって、光源3から出射される光L1の光軸中心に配置されている。
0次光除去部6は、光源3から出射される光L1の波長に応じて、その波長の光を遮断可能な部材で構成されていればよく、例えば、遮光膜、遮光板、及び光学マスク等によって構成される。
0次光除去部6は、光源3から出射される光L1の波長に応じて、その波長の光を遮断可能な部材で構成されていればよく、例えば、遮光膜、遮光板、及び光学マスク等によって構成される。
0次光除去部6によっても、微小粒子Pに照射されずに透過した光源3からの光L1を完全に除去することができず、当該光L1のうちの一部の光が、漏れ光L3として、FS検出部4に入射される場合がある。
FS検出部4に入射される漏れ光L3には、装置の構造上の機械的振動に起因して発生する低周波ノイズが含まれていることがある。この漏れ光L3は、FS検出部4に直接入射されることから、前方散乱光L2に対して大きいと、FS検出系のSN比の悪化につながり易くなる。
すなわち、分析対象となる微小粒子Pの径が小さく、前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいとき(図2B参照)、漏れ光L3が前方散乱光L2に対して相対的に大きくなり、FS検出系のSN比が悪化するおそれがある。
なお、図2は、微小粒子Pが光源(LD)からのレーザビームを通過するときに検出される前方散乱光L2の信号出力レベルを模式的に表した図である。図2Aは、微小粒子Pの径が大きく、信号出力レベルが大きい様子を示し、図2Bは、微小粒子Pの径が小さく、信号出力レベルが小さい様子を示したものである。
すなわち、分析対象となる微小粒子Pの径が小さく、前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいとき(図2B参照)、漏れ光L3が前方散乱光L2に対して相対的に大きくなり、FS検出系のSN比が悪化するおそれがある。
なお、図2は、微小粒子Pが光源(LD)からのレーザビームを通過するときに検出される前方散乱光L2の信号出力レベルを模式的に表した図である。図2Aは、微小粒子Pの径が大きく、信号出力レベルが大きい様子を示し、図2Bは、微小粒子Pの径が小さく、信号出力レベルが小さい様子を示したものである。
本発明者は、分析対象となる微小粒子Pの径が装置の分析能力の限界に近いほど小さく、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいとき(図2B参照)、その前方散乱光L2の周波数が高いことに着目した。そこで、SN比の悪化の問題に対して、後述するように、FS検出部4に前方散乱光L2の周波数に応じて切り替わるハイパスフィルタを備えることとしている。
なお、一般的に、微小粒子分析装置の分析能力は、分析対象となる微小粒子の径が0.5μm〜40μmの範囲であるが、従来の微小粒子分析装置では、微小粒子の径が例えば2μm未満程度と小さいとき、前方散乱光の検出精度は低いものであった。本実施形態に係る微小粒子分析装置は、微小粒子Pの径が装置の分析能力の限界に近いほど小さい場合にも、前方散乱光L2を精度よく検出することを可能にするものである。
なお、一般的に、微小粒子分析装置の分析能力は、分析対象となる微小粒子の径が0.5μm〜40μmの範囲であるが、従来の微小粒子分析装置では、微小粒子の径が例えば2μm未満程度と小さいとき、前方散乱光の検出精度は低いものであった。本実施形態に係る微小粒子分析装置は、微小粒子Pの径が装置の分析能力の限界に近いほど小さい場合にも、前方散乱光L2を精度よく検出することを可能にするものである。
FS検出部4は、例えば、図3に示すように、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41を有する回路40を備えており、前方散乱光L2の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタ41に切り替わる構成となっている。
具体的には、FS検出部4は、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上、より好ましくは250kHz以上、さらに好ましくは300kHz以上のときに、ハイパスフィルタ41に切り替わるのが好適である。
前方散乱光L2の周波数が200kHz以上のとき、分析対象の微小粒子Pの径が小さく、その前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいことから、低周波ノイズが存在するとSN比が悪化するおそれがあるためである。このSN比向上の観点からは、ハイパスフィルタ41に切り替わる際の前方散乱光L2の周波数の上限値は特に限定されるものではない。しかしながら、当該上限値は、例えば、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の周波数として考えられる最も高い場合を考慮して、3MHz以下に設定されてもよい。
具体的には、FS検出部4は、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上、より好ましくは250kHz以上、さらに好ましくは300kHz以上のときに、ハイパスフィルタ41に切り替わるのが好適である。
前方散乱光L2の周波数が200kHz以上のとき、分析対象の微小粒子Pの径が小さく、その前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいことから、低周波ノイズが存在するとSN比が悪化するおそれがあるためである。このSN比向上の観点からは、ハイパスフィルタ41に切り替わる際の前方散乱光L2の周波数の上限値は特に限定されるものではない。しかしながら、当該上限値は、例えば、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の周波数として考えられる最も高い場合を考慮して、3MHz以下に設定されてもよい。
上述の通り、流路2a(微小粒子P)とFS検出部(光検出部)4との間に配置される0次光除去部6を回避してFS検出部4に入射される漏れ光L3が存在する。そして、この漏れ光L3に、微小粒子分析装置1の構造上の機械的振動に起因して発生する低周波ノイズが含まれている。
本実施形態に係る微小粒子分析装置1は、FS検出部4に備えられているハイパスフィルタ41にて、漏れ光L3に含まれる低周波ノイズの除去を可能とするものである。
本実施形態に係る微小粒子分析装置1は、FS検出部4に備えられているハイパスフィルタ41にて、漏れ光L3に含まれる低周波ノイズの除去を可能とするものである。
機械的振動起因による低周波ノイズの周波数は、例えば、数kHz(2kHz程度)までである。また、ハイパスフィルタ41が除去する周波数が大き過ぎると前方散乱光L2の波形に影響を与えるおそれがある。
機械的振動起因による低周波ノイズの周波数帯域(数kHz)、及び検出すべき前方散乱光L2の検出波形への影響の観点から、ハイパスフィルタ41は、2kHz未満の周波数のノイズを除去するのが好適である。
機械的振動起因による低周波ノイズの周波数帯域(数kHz)、及び検出すべき前方散乱光L2の検出波形への影響の観点から、ハイパスフィルタ41は、2kHz未満の周波数のノイズを除去するのが好適である。
ハイパスフィルタ41の周波数特性の観点からいえば、発生している低周波ノイズと信号出力レベルの比を考慮した上でのノイズに必要な減衰率より、回路の定数を設定することが好適である。例えば、ハイパスフィルタ41の周波数200Hzにおける減衰率は、好ましくは−12dB以下、より好ましくは−15dB以下、さらに好ましくは−18dB以下とするのが好適である。
なお、ハイパスフィルタ41は、遮断周波数より低い周波数を通さない(又は減衰させる)という性質上、ハイパスフィルタ41が除去(遮断)する周波数の下限値は限定されるものではない。
なお、ハイパスフィルタ41は、遮断周波数より低い周波数を通さない(又は減衰させる)という性質上、ハイパスフィルタ41が除去(遮断)する周波数の下限値は限定されるものではない。
ハイパスフィルタ41を有する回路40の一例を表す図3に示すように、FS検出部4における回路40は、入力側から出力側へ直通する経路の第1チャネルCh1と、ハイパスフィルタ41を有する第2チャネルCh2と、を備えている。そして、第1チャネルCh1と第2チャネルCh2とは、並列に接続されている。
また、当該回路40には、入力側から出力側へ直通の経路である場合と、抵抗器やコンデンサの定数載せ替えによりハイパスフィルタとして機能する場合と、で対応可能な第3チャネルCh3が設けられている。この第3チャネルCh3は、第1チャネルCh1及び第2チャネルCh2に並列に設けられている。
また、当該回路40には、入力側から出力側へ直通の経路である場合と、抵抗器やコンデンサの定数載せ替えによりハイパスフィルタとして機能する場合と、で対応可能な第3チャネルCh3が設けられている。この第3チャネルCh3は、第1チャネルCh1及び第2チャネルCh2に並列に設けられている。
分析対象となる微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の周波数が低く、当該前方散乱光L2の信号出力レベルが、上記漏れ光L3に低周波ノイズを含んでいてもSN比が問題とならないほどに大きい場合、直通の第1チャネルCh1が選択される。
具体的には、上述の通り、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz未満のとき、より好ましくは80kHz未満のとき、さらに好ましくは100kHz未満のとき、第1チャネルCh1が選択されるように設定するのが好適である。
具体的には、上述の通り、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz未満のとき、より好ましくは80kHz未満のとき、さらに好ましくは100kHz未満のとき、第1チャネルCh1が選択されるように設定するのが好適である。
一方、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の周波数が高く、前方散乱光L2の信号出力レベルが、上記漏れ光L3に低周波ノイズを含んでいる場合にSN比が悪化するほど小さい場合、第2チャネルCh2(ハイパスフィルタ41)が選択される。
具体的には、上述の通り、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上のとき、より好ましくは250kHz以上のとき、さらに好ましくは300kHz以上のとき、第2チャネルCh2が選択されるように設定するのが好適である。
具体的には、上述の通り、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上のとき、より好ましくは250kHz以上のとき、さらに好ましくは300kHz以上のとき、第2チャネルCh2が選択されるように設定するのが好適である。
分析対象となる微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の周波数が、第1チャネルCh1の設定値以上で、第2チャネルCh2の設定値未満の場合、第3チャネルCh3が選択される。
具体的には、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz以上200kHz未満、より好ましくは80kHz以上250kHz未満、さらに好ましくは100kHz以上300kHz未満のときに、第3チャネルCh3が選択されるように設定するのが好適である。
また、第3チャネルCh3は、抵抗器やコンデンサが実装されていない状態(N.M)とすることも可能で、抵抗器やコンデンサの定数をユーザーが適宜設定して(載せ替えて)、ハイパスフィルタの機能を持たせることもできるように構成される。
具体的には、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz以上200kHz未満、より好ましくは80kHz以上250kHz未満、さらに好ましくは100kHz以上300kHz未満のときに、第3チャネルCh3が選択されるように設定するのが好適である。
また、第3チャネルCh3は、抵抗器やコンデンサが実装されていない状態(N.M)とすることも可能で、抵抗器やコンデンサの定数をユーザーが適宜設定して(載せ替えて)、ハイパスフィルタの機能を持たせることもできるように構成される。
図3に示すように、本実施形態では、ハイパスフィルタ41は、入力信号に直列する2つのコンデンサC1、C2と、入力信号に並列する2つの抵抗器R1、R2と、を含んで構成されている。
ハイパスフィルタ41における抵抗器の抵抗値をr[Ω]、コンデンサの容量値をc[F]とした場合、遮断周波数f[Hz]は次式(1)で表される。
f=1/2πrc ・・・式(1)
本実施形態のように、ハイパスフィルタ41が抵抗器及びコンデンサを複数有する場合、上記式(1)で示されるr及びcは、それぞれ合成抵抗値r及び合成容量値cを表す。ここで、「合成抵抗値」とは、ハイパスフィルタ41において、複数の抵抗を等価な1つの抵抗に置き換えた場合の抵抗値をいう。また、「合成容量値」とは、ハイパスフィルタ41において、複数のコンデンサを等価な1つのコンデンサに置き換えた場合の容量値をいう。
ハイパスフィルタ41における抵抗器の抵抗値をr[Ω]、コンデンサの容量値をc[F]とした場合、遮断周波数f[Hz]は次式(1)で表される。
f=1/2πrc ・・・式(1)
本実施形態のように、ハイパスフィルタ41が抵抗器及びコンデンサを複数有する場合、上記式(1)で示されるr及びcは、それぞれ合成抵抗値r及び合成容量値cを表す。ここで、「合成抵抗値」とは、ハイパスフィルタ41において、複数の抵抗を等価な1つの抵抗に置き換えた場合の抵抗値をいう。また、「合成容量値」とは、ハイパスフィルタ41において、複数のコンデンサを等価な1つのコンデンサに置き換えた場合の容量値をいう。
ハイパスフィルタ41が除去(遮断)する周波数(遮断周波数f)が上述した好ましい数値となるように、適切な抵抗値rを有する抵抗器、及び適切な容量値cを有するコンデンサを設けるのが好適である。なお、ハイパスフィルタ41における抵抗器及びコンデンサの個数は特に限定されない。また、ハイパスフィルタ41には、抵抗器及びコンデンサ以外の他の素子が設けられていてもよい。
上記ハイパスフィルタ41を有する回路40における各チャネルCh1〜3の切り替えは、例えば、スイッチ素子にて行うことができる。
本実施形態では、上記回路40には、第2チャネルCh2と第3チャネルCh3との切り替えを可能にするスイッチ素子Sw1が設けられている。また、上記回路40には、第1チャネルCh1と、第2チャネルCh2及び第3チャネルCh3の何れかのチャネルとの切り替えを可能にするスイッチ素子Sw2が設けられている。
上記回路40において、上記前方散乱光L2の周波数に応じて選択される各チャネルCh1、Ch2及びCh3の切り替えが、スイッチ素子Sw1及びSw2にて行われる。
本実施形態では、上記回路40には、第2チャネルCh2と第3チャネルCh3との切り替えを可能にするスイッチ素子Sw1が設けられている。また、上記回路40には、第1チャネルCh1と、第2チャネルCh2及び第3チャネルCh3の何れかのチャネルとの切り替えを可能にするスイッチ素子Sw2が設けられている。
上記回路40において、上記前方散乱光L2の周波数に応じて選択される各チャネルCh1、Ch2及びCh3の切り替えが、スイッチ素子Sw1及びSw2にて行われる。
ハイパスフィルタ41を有する回路40は、上記前方散乱光L2の検出信号を増幅する増幅器を備えていてもよい。
本実施形態では、図3に示すように、ハイパスフィルタ41を有する回路40は、2つの増幅器Am1、Am2を備えている。
本実施形態では、図3に示すように、ハイパスフィルタ41を有する回路40は、2つの増幅器Am1、Am2を備えている。
本実施形態では、上記前方散乱光L2の周波数に応じて、直通の第1チャネルCh1が選択された場合、第1チャネルCh1と増幅器Am2とがスイッチ素子Sw2にて接続される。
第1チャネルCh1を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。この際、前方散乱光L2の信号レベルは大きいため、第1チャネルCh1が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第2チャネルCh2が選択される場合の増幅器Am2のゲインに比べて低く設定するのが好適である。
第1チャネルCh1を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。この際、前方散乱光L2の信号レベルは大きいため、第1チャネルCh1が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第2チャネルCh2が選択される場合の増幅器Am2のゲインに比べて低く設定するのが好適である。
また、本実施形態では、上記前方散乱光L2の周波数に応じて、ハイパスフィルタ41の第2チャネルCh2が選択された場合、第2チャネルCh2と増幅器Am2とがスイッチ素子Sw1及びSw2にて接続される。
第2チャネルCh2を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。この際、前方散乱光L2の信号レベルが小さいため、第2チャネルCh2が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第1チャネルCh1が選択される場合の増幅器Am2のゲインに比べて高く設定するのが好適である。第2チャネルCh2が選択される場合、ハイパスフィルタ41により低周波ノイズが除去されるため、低周波ノイズをほとんど拾わずに、前方散乱光L2の小さな信号を増幅器Am2で増幅して、検出精度を高めることができる。
第2チャネルCh2を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。この際、前方散乱光L2の信号レベルが小さいため、第2チャネルCh2が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第1チャネルCh1が選択される場合の増幅器Am2のゲインに比べて高く設定するのが好適である。第2チャネルCh2が選択される場合、ハイパスフィルタ41により低周波ノイズが除去されるため、低周波ノイズをほとんど拾わずに、前方散乱光L2の小さな信号を増幅器Am2で増幅して、検出精度を高めることができる。
さらに、本実施形態では、上記前方散乱光L2の周波数に応じて、ハイパスフィルタ41の第3チャネルCh3が選択された場合、第3チャネルCh3と増幅器Am2とがスイッチ素子Sw1及びSw2にて接続される。
第3チャネルCh2を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。第3チャネルCh3が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第1チャネルCh1が選択される場合のゲインと、第2チャネルCh2が選択される場合のゲインとの間に設定するのが好適である。
第3チャネルCh2を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2により所定のゲインで増幅されてもよい。第3チャネルCh3が選択される場合の増幅器Am2のゲインは、第1チャネルCh1が選択される場合のゲインと、第2チャネルCh2が選択される場合のゲインとの間に設定するのが好適である。
図3に示す本実施形態における回路40では、増幅器Am1のゲインの切り替えと、第1〜第3チャネル(Ch1〜Ch3)の切り替えは、連動しているのが好適である。増幅器Am1の切り替えと、第1〜第3チャネル(Ch1〜Ch3)の切り替えとが連動することで制御信号を共通化することができる。また、この場合、増幅器Am1は、3段階のゲインを有して設計されているのが好適である。
なお、FS検出部4に備えられるハイパスフィルタ41を有する回路40は、2つのチャネルから構成してもよい。例えば、図4に示すように、直通の第1チャネルCh1Aと、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41Aを有する第2チャネルCh2Aとから構成され、それらのチャネルが互いに並列な回路40Aとしてもよい。
回路40Aでは、チャネル数を2つと少なくし、ハイパスフィルタを有する回路を簡素化することができる。
なお、FS検出部4に備えられるハイパスフィルタ41を有する回路40は、2つのチャネルから構成してもよい。例えば、図4に示すように、直通の第1チャネルCh1Aと、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41Aを有する第2チャネルCh2Aとから構成され、それらのチャネルが互いに並列な回路40Aとしてもよい。
回路40Aでは、チャネル数を2つと少なくし、ハイパスフィルタを有する回路を簡素化することができる。
微小粒子分析装置1は、FS検出系以外にも、例えば、以下に述べる構成をとることができる。
本技術に係る微小粒子分析装置は、蛍光(FL)を検出する蛍光検出系(FL検出系)や後方散乱光(BS)を検出する後方散乱光検出系(BS検出系)を備えていてもよい。
FL検出系やBS検出系は、必要に応じて、光学レンズ、ダイクロイックミラー、光学フィルタ等を備えて構成されていてもよい。
FL検出系は、蛍光用検出部(FL検出部)を備え、そのFL検出部により蛍光の検出が行われる。BS検出系では、後方散乱光用検出部(BS検出部)を備え、そのBS検出部により後方散乱光の検出が行われる。
FL検出部やBS検出部は、例えば、光電子倍増管(PMT;Photo Multiplier Tube)、CCD及びCMOS素子等のエリア撮像素子等によって構成される。
本技術に係る微小粒子分析装置は、蛍光(FL)を検出する蛍光検出系(FL検出系)や後方散乱光(BS)を検出する後方散乱光検出系(BS検出系)を備えていてもよい。
FL検出系やBS検出系は、必要に応じて、光学レンズ、ダイクロイックミラー、光学フィルタ等を備えて構成されていてもよい。
FL検出系は、蛍光用検出部(FL検出部)を備え、そのFL検出部により蛍光の検出が行われる。BS検出系では、後方散乱光用検出部(BS検出部)を備え、そのBS検出部により後方散乱光の検出が行われる。
FL検出部やBS検出部は、例えば、光電子倍増管(PMT;Photo Multiplier Tube)、CCD及びCMOS素子等のエリア撮像素子等によって構成される。
本技術に係る微小粒子分析装置は、上述の構成に加え、分析対象となる微小粒子を分別して回収する分取系の構成を備えていてもよい。
分取系の構成は、従来の微小粒子分析装置と同様に構成することができる。例えば、分取系は、マイクロチップから吐出された微小粒子を含む液滴に電荷を付与する荷電部と、液滴の移動方向に沿って液滴を挟むように対向して配置される一対の偏向板と、微小粒子を含む液滴を収容する容器と、を備えて構成される。
分取系の構成は、従来の微小粒子分析装置と同様に構成することができる。例えば、分取系は、マイクロチップから吐出された微小粒子を含む液滴に電荷を付与する荷電部と、液滴の移動方向に沿って液滴を挟むように対向して配置される一対の偏向板と、微小粒子を含む液滴を収容する容器と、を備えて構成される。
本技術に係る微小粒子分析装置は、上述の構成に加え、従来の微小粒子分析装置と同様に、微小粒子の光学特性判定のためのデータ解析部、サンプル液等を貯留するタンク部並びにこれらの各構成を制御するための制御部等を備えてもよい。
制御部は、CPU、メモリ及びハードディスク等を備える汎用のコンピュータによって構成でき、ハードディスク内にはOSと後述する微小粒子分析方法(微小粒子分析装置の動作)を実行するプログラム等が格納されている。
例えば、ハイパスフィルタ41を有する回路40において、各チャネルCh1〜3がそれぞれ利用される際の前方散乱光L2の周波数の記憶及び設定を制御部にて行うことができる。また、当該回路40における各チャネルCh1〜3の切り替え(スイッチ素子Sw1及びSw2の切り替え)を制御部にて行うこともできる。
制御部は、CPU、メモリ及びハードディスク等を備える汎用のコンピュータによって構成でき、ハードディスク内にはOSと後述する微小粒子分析方法(微小粒子分析装置の動作)を実行するプログラム等が格納されている。
例えば、ハイパスフィルタ41を有する回路40において、各チャネルCh1〜3がそれぞれ利用される際の前方散乱光L2の周波数の記憶及び設定を制御部にて行うことができる。また、当該回路40における各チャネルCh1〜3の切り替え(スイッチ素子Sw1及びSw2の切り替え)を制御部にて行うこともできる。
次に本実施形態に係る微小粒子分析装置1が奏する作用効果を説明する。
本実施形態に係る微小粒子分析装置1によれば、上記FS検出部4の構成により、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の所定周波数に応じて低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41にて前方散乱光L2の検出が行われる。そのため、装置の構造上の機械的振動起因による低周波ノイズを含む漏れ光L3が、FS検出部4に入射された場合にも、低周波ノイズをハイパスフィルタ41にて除去することが可能である。そのため、前方散乱光L2の検出に関するSN比を向上することができ、分析精度を高めることができる。
低周波ノイズの存在は、微小粒子Pの径が小さく、前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいとき(図2B参照)、すなわち、前方散乱光L2の周波数が高いときにSN比の悪化をもたらす。そのため、本実施形態の微小粒子分析装置1では、前方散乱光L2の周波数が200kHz以上のときに、FS検出部4はハイパスフィルタ41に切り替わって前方散乱光L2の検出を行うように構成されている。よって、低周波ノイズによるSN比の悪化を防止することができ、前方散乱光L2の検出精度が高まり、分析精度を向上することができる。
本実施形態に係る微小粒子分析装置1によれば、上記FS検出部4の構成により、微小粒子Pから発生する前方散乱光L2の所定周波数に応じて低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41にて前方散乱光L2の検出が行われる。そのため、装置の構造上の機械的振動起因による低周波ノイズを含む漏れ光L3が、FS検出部4に入射された場合にも、低周波ノイズをハイパスフィルタ41にて除去することが可能である。そのため、前方散乱光L2の検出に関するSN比を向上することができ、分析精度を高めることができる。
低周波ノイズの存在は、微小粒子Pの径が小さく、前方散乱光L2の信号出力レベルが小さいとき(図2B参照)、すなわち、前方散乱光L2の周波数が高いときにSN比の悪化をもたらす。そのため、本実施形態の微小粒子分析装置1では、前方散乱光L2の周波数が200kHz以上のときに、FS検出部4はハイパスフィルタ41に切り替わって前方散乱光L2の検出を行うように構成されている。よって、低周波ノイズによるSN比の悪化を防止することができ、前方散乱光L2の検出精度が高まり、分析精度を向上することができる。
<2.微小粒子分析装置の動作>
次に、上述の微小粒子分析装置1の動作について、説明する。
まず、光源3からの光(励起光)L1が、集光レンズ5によって集光され、流路2a内を流れる微小粒子Pに照射される。また、光源3から発せられた光L1の一部は、0次光除去部6を回避して、漏れ光L3としてFS検出部4に入射される。
励起光L1が照射された微小粒子Pからは、蛍光及び散乱光成分(前方散乱光L2、後方散乱光等)が発せられる。このとき、微小粒子Pから発生した前方散乱光L2は、FS検出部4に入射される。
次に、上述の微小粒子分析装置1の動作について、説明する。
まず、光源3からの光(励起光)L1が、集光レンズ5によって集光され、流路2a内を流れる微小粒子Pに照射される。また、光源3から発せられた光L1の一部は、0次光除去部6を回避して、漏れ光L3としてFS検出部4に入射される。
励起光L1が照射された微小粒子Pからは、蛍光及び散乱光成分(前方散乱光L2、後方散乱光等)が発せられる。このとき、微小粒子Pから発生した前方散乱光L2は、FS検出部4に入射される。
FS検出部4に入射された前方散乱光L2は、FS検出部4にて電気的信号に変換されて検出される。この際、FS検出部4に備えられている、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタ41を有する回路40が用いられ(図3参照)、前方散乱光L2の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタ41にて前方散乱光L2の検出が行われる。
FS検出部4に備えられているハイパスフィルタ41を有する回路40としては、上述の通り、例えば、図3に示される回路が用いられる。
図3に示す回路40の場合、例えば、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上(より好ましくは250kHz以上、さらに好ましくは300kHz以上)のときに、ハイパスフィルタを有する第2チャネルCh2にて前方散乱光L2の検出が行われる。
また、例えば、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz未満(より好ましくは80kHz未満、さらに好ましくは100kHz未満)のときに、ハイパスフィルタ41を有さない直通の第1チャネルCh1にて前方散乱光L2の検出が行われる。
さらに、前方散乱光L2の周波数が、60kHz以上200kHz未満(より好ましくは80kHz以上250kHz未満、さらに好ましくは100kHz以上300kHz未満)のときに、第3チャネルCh3にて前方散乱光L2の検出が行われる。
図3に示す回路40の場合、例えば、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは200kHz以上(より好ましくは250kHz以上、さらに好ましくは300kHz以上)のときに、ハイパスフィルタを有する第2チャネルCh2にて前方散乱光L2の検出が行われる。
また、例えば、前方散乱光L2の周波数が、好ましくは60kHz未満(より好ましくは80kHz未満、さらに好ましくは100kHz未満)のときに、ハイパスフィルタ41を有さない直通の第1チャネルCh1にて前方散乱光L2の検出が行われる。
さらに、前方散乱光L2の周波数が、60kHz以上200kHz未満(より好ましくは80kHz以上250kHz未満、さらに好ましくは100kHz以上300kHz未満)のときに、第3チャネルCh3にて前方散乱光L2の検出が行われる。
ハイパスフィルタ41(第2チャネルCh2)にて前方散乱光L2の検出が行われる場合、ハイパスフィルタ41により、上述の低周波ノイズが除去される。その結果、前方散乱光L2の検出のSN比が向上し、前方散乱光L2の信号レベルが小さいときにも検出精度が向上する。
また、各チャネルCh1〜3を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2にて増幅される。ハイパスフィルタにて検出が行われる場合、上述の低周波ノイズが除去されるため、低周波ノイズがほとんど拾われずに、前方散乱光L2の小さな信号が増幅され、検出精度がさらに高まる。
また、各チャネルCh1〜3を通過した前方散乱光L2の検出信号は、増幅器Am2にて増幅される。ハイパスフィルタにて検出が行われる場合、上述の低周波ノイズが除去されるため、低周波ノイズがほとんど拾われずに、前方散乱光L2の小さな信号が増幅され、検出精度がさらに高まる。
なお、本技術に係る微小粒子分析装置の動作を、上述の制御部、及び記録媒体(不揮発性メモリ(USBメモリ等)、HDD、CD等)等を備えるハードウェア資源にプログラムとして格納し、制御部によって実現させることも可能である。
本技術は以下のような構成をとることもできる。
(1)分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置。
(2)前記光検出部は、前記所定周波数が200kHz以上のときに、前記ハイパスフィルタに切り替わる上記(1)に記載の微小粒子分析装置。
(3)前記ハイパスフィルタは、前記微小粒子と前記光検出部との間に配置される0次光除去部を回避して光検出部に入射される漏れ光に含まれる低周波ノイズを除去する上記(1)又は(2)に記載の微小粒子分析装置。
(4)前記ハイパスフィルタは、2kHz未満の周波数のノイズを除去する上記(1)〜(3)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(5)前記回路は、入力側から出力側へ直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルと、を備え、前記直通のチャネルと前記ハイパスフィルタを有するチャネルとは、並列に接続されている上記(1)〜(5)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(6)前記回路は、前記直通のチャネル及び前記ハイパスフィルタを有するチャネルのうちの何れかのチャネルに切り替えるスイッチ素子を備える上記(5)に記載の微小粒子分析装置。
(7)前記回路は、前記前方散乱光の検出信号を増幅させる増幅器を備える上記(1)〜(6)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(8)分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタを有する回路にて、光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去し、前記微小粒子を分析する微小粒子分析方法。
(1)分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置。
(2)前記光検出部は、前記所定周波数が200kHz以上のときに、前記ハイパスフィルタに切り替わる上記(1)に記載の微小粒子分析装置。
(3)前記ハイパスフィルタは、前記微小粒子と前記光検出部との間に配置される0次光除去部を回避して光検出部に入射される漏れ光に含まれる低周波ノイズを除去する上記(1)又は(2)に記載の微小粒子分析装置。
(4)前記ハイパスフィルタは、2kHz未満の周波数のノイズを除去する上記(1)〜(3)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(5)前記回路は、入力側から出力側へ直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルと、を備え、前記直通のチャネルと前記ハイパスフィルタを有するチャネルとは、並列に接続されている上記(1)〜(5)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(6)前記回路は、前記直通のチャネル及び前記ハイパスフィルタを有するチャネルのうちの何れかのチャネルに切り替えるスイッチ素子を備える上記(5)に記載の微小粒子分析装置。
(7)前記回路は、前記前方散乱光の検出信号を増幅させる増幅器を備える上記(1)〜(6)の何れか1つに記載の微小粒子分析装置。
(8)分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタを有する回路にて、光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去し、前記微小粒子を分析する微小粒子分析方法。
以下の実施例により、本技術の効果について説明する。
本実施例は、上述の図1に表されるような前方散乱光検出系を備えたフローサイトメータ(微小粒子分析装置)を用いて、本技術の効果確認実験を行ったものである。
また、このフローサイトメータにおける前方散乱光用検出部としては、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路が設けられたフォトダイオードを用いた。
本実施例は、上述の図1に表されるような前方散乱光検出系を備えたフローサイトメータ(微小粒子分析装置)を用いて、本技術の効果確認実験を行ったものである。
また、このフローサイトメータにおける前方散乱光用検出部としては、低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路が設けられたフォトダイオードを用いた。
フォトダイオードに備えられているハイパスフィルタを有する回路としては、上述の図3に表されるような回路を用いた。
本実施例で用いた当該回路は、図3において、抵抗器R1及びR2に相当する抵抗器の抵抗値をそれぞれ2.2kΩ及び4.7kΩとし、コンデンサC1及びC2に相当するコンデンサの容量値をともに0.1μFとしたものである。
また、当該回路のハイパスフィルタの遮断周波数f(−3dBでの周波数)は1.23kHzであり、200Hzにおける減衰率は−19dBであった。
本実施例で用いた当該回路は、図3において、抵抗器R1及びR2に相当する抵抗器の抵抗値をそれぞれ2.2kΩ及び4.7kΩとし、コンデンサC1及びC2に相当するコンデンサの容量値をともに0.1μFとしたものである。
また、当該回路のハイパスフィルタの遮断周波数f(−3dBでの周波数)は1.23kHzであり、200Hzにおける減衰率は−19dBであった。
光源には、600nmの光を出射するLEDとパルスジェネレータを用い、マージンを考慮に入れ3.0μmの粒子径が散乱するときに生じる光波形(4μ秒幅の半波整流された125kHzの正弦波)を作り出し、フォトダイオードに入射した。
マイクロビーズから発生した前方散乱光の検出は、ハイパスフィルタを有さない直通の第1チャネル(Ch1)と、ハイパスフィルタを有する第2チャネル(Ch2)とで行った(図3参照)。これらの実証結果を図5に示した。
図5に示すように、第1チャネルでの検出は、ノイズが大きいことが確認された(図5A参照)。これに対して、ハイパスフィルタ(第2チャネル)での検出は、ノイズが大幅に低減されたことが確認された(図5B参照)。
図5に示すように、第1チャネルでの検出は、ノイズが大きいことが確認された(図5A参照)。これに対して、ハイパスフィルタ(第2チャネル)での検出は、ノイズが大幅に低減されたことが確認された(図5B参照)。
また、第1チャネル及びハイパスフィルタ(第2チャネル)とで検出された前方散乱光の波形をそれぞれ図6に示した。図6Aは、第1チャネル及びハイパスフィルタ(第2チャネル)で検出された前方散乱光の波形を併せて示したものである。また、図6Bは、ハイパスフィルタ(第2チャネル)で検出された前方散乱光の波形を示したものであり、図6Cは、第1チャネルで検出された前方散乱光の波形を示したものである。
図6Aに示すように、ハイパスフィルタを有さない第1チャネルによる波形(図6C「Defaoult」)と、ハイパスフィルタを有する第2チャネルによる波形(図6B「HPF」)とが一致し、両波形に歪がないことが確認された。
図6Aに示すように、ハイパスフィルタを有さない第1チャネルによる波形(図6C「Defaoult」)と、ハイパスフィルタを有する第2チャネルによる波形(図6B「HPF」)とが一致し、両波形に歪がないことが確認された。
以上から、3.0μmの微小粒子に対して、ハイパスフィルタによって、検出すべき前方散乱光の検出波形に影響を与えずに、低周波ノイズを除去することができたことが確認された。
よって、本技術の微小粒子分析装置によれば、微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力が小さい場合でも、SN比を向上させ、前方散乱光についての検出精度(分析精度)を高めることができる。
よって、本技術の微小粒子分析装置によれば、微小粒子の径が小さく、前方散乱光の信号出力が小さい場合でも、SN比を向上させ、前方散乱光についての検出精度(分析精度)を高めることができる。
1 微小粒子分析装置
2 マイクロチップ
2a 流路
3 光源
4 FS検出部
5 集光レンズ
6 0次光除去部
L1 励起光
L2 前方散乱光
L3 漏れ光
P 微小粒子
40 ハイパスフィルタを有する回路
41 ハイパスフィルタ
R1〜R4 抵抗器
C1〜C4 コンデンサ
Sw1,Sw2 スイッチ素子
Am1,Am2 増幅器
2 マイクロチップ
2a 流路
3 光源
4 FS検出部
5 集光レンズ
6 0次光除去部
L1 励起光
L2 前方散乱光
L3 漏れ光
P 微小粒子
40 ハイパスフィルタを有する回路
41 ハイパスフィルタ
R1〜R4 抵抗器
C1〜C4 コンデンサ
Sw1,Sw2 スイッチ素子
Am1,Am2 増幅器
Claims (8)
- 分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光を検出する光検出部を備え、
該光検出部は、該光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去するハイパスフィルタを有する回路を備え、前記前方散乱光の所定周波数に応じて、前記ハイパスフィルタに切り替わる、微小粒子分析装置。 - 前記光検出部は、前記所定周波数が200kHz以上のときに、前記ハイパスフィルタに切り替わる請求項1記載の微小粒子分析装置。
- 前記ハイパスフィルタは、前記微小粒子と前記光検出部との間に配置される0次光除去部を回避して光検出部に入射される漏れ光に含まれる低周波ノイズを除去する請求項2記載の微小粒子分析装置。
- 前記ハイパスフィルタは、2kHz未満の周波数のノイズを除去する請求項3記載の微小粒子分析装置。
- 前記回路は、入力側から出力側へ直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルと、を備え、
前記直通のチャネルと、前記ハイパスフィルタを有するチャネルとは、並列に接続されている請求項4記載の微小粒子分析装置。 - 前記回路は、前記直通のチャネル及び前記ハイパスフィルタを有するチャネルのうちの何れかのチャネルに切り替えるスイッチ素子を備える請求項5記載の微小粒子分析装置。
- 前記回路は、前記前方散乱光の検出信号を増幅させる増幅器を備える請求項6記載の微小粒子分析装置。
- 分析対象となる微小粒子から発生する前方散乱光の所定周波数に応じて、ハイパスフィルタを有する回路にて、光検出部に入射された光中に含まれる低周波ノイズを除去し、前記微小粒子を分析する微小粒子分析方法。
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