JP2014045144A - ダイシング方法及びダイシング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一軸に対して湾曲する形状の基板保持面1aを有する基板固定部1を用いて、基板保持面1a上に当該基板保持面1aの形状に対応するように基板10を強制的に固定保持し、切削刃2を用いて、一軸と平行に基板10をダイシングする。
【選択図】図5
Description
先ず、図10(a)に示すように、フレーム(ウェーハリング)101にダイシングテープ102を貼付し、シリコンウェーハ100をダイシングテープ102に設置する。この状態でシリコンウェーハ100をダイシング装置のチャックテーブル111上に真空吸着して固定保持する。これにより、シリコンウェーハ100の反りが矯正され、平坦状態となる。
本実施形態では、ダイシング装置及びこれを用いた好適なダイシング方法について開示する。
図1は、第1の実施形態によるダイシング装置を示す模式図である。概略平面図と、概略平面図の下側に、X軸に沿った概略断面図と、概略平面図の右側に、Y軸に沿った概略断面図とを示す。
このダイシング装置は、基板、ここではシリコンウェーハが固定保持される基板固定部であるチャックテーブル1と、シリコンウェーハを切削して個片分離するための切削刃であるダイシングブレード2とを備えている。
基板保持面1aは、反りが生じたシリコンウェーハに対応して、一軸、ここではY軸に対して湾曲する形状とされている。即ち基板保持面1aでは、Y軸が左右の湾曲の対称軸となる。シリコンウェーハは、そのバックグラインド後の厚みや保護膜の厚み等により、10mm〜20mm程度の反り量(ウェーハ中心を基準としたウェーハ端部の反り量)となる。この場合、基板保持面1aは、当該反り量に対応して、例えば20mmの湾曲量(基板保持面1aの中心を基準とした基板保持面1aの端部の湾曲量)とされる。
上記のダイシング装置を用いたダイシング方法について説明する。
図2は、第1の実施形態によるダイシング方法を説明するためのフロー図である。各工程ごとに、工程完了の状態を示す概略断面図と、工程途中の状態を示す概略斜視図とを示す。なお図2では、シリコンウェーハの保護膜等の図示を省略する。
シリコンウェーハ10の表面、即ち半導体チップ12の形成された面を保護するため、ローラー21を用いて、シリコンウェーハ10の表面全体を覆うようにBGテープ13を貼り付ける。
シリコンウェーハ10の裏面をグラインダー22を用いてバックグラインドし、シリコンウェーハ10を所期の厚み、例えば0.1mm程度に調節する。このとき、図4に示すように、薄くなったシリコンウェーハ10には、保護膜12の収縮により発生する応力で、下に凸となる反りが発生する。
図2のステップS4に示すように、シリコンウェーハ10の表面からBGテープ13を剥離する。シリコンウェーハ10がダイシングテープ15に接着された状態で、ダイシング装置のチャックテーブル1に設置する。
ダイシングテープ15に接着されたシリコンウェーハ10は、チャックテーブル1の基板保持面1a上に載置される。シリコンウェーハ10は、基板保持面1a上で真空吸着され、当該シリコンウェーハ10に生じた反りに見合った状態で強制的に基板保持面1aの湾曲形状に保持固定される。
先ず、図6(a)に示すように、シリコンウェーハ10の表面で一端に存する、基板保持面1aのY軸に平行なスクライブライン11に沿ってダイシングブレード2を移動させ、ダイシングテープ15に達するまでシリコンウェーハ10を切削する。シリコンウェーハ10がY軸に沿って平坦であるため、ダイシング時にはダイシングブレード2を直線状に移動させることで、ダイシング対象のスクライブライン11の全体に亘り均一に切削することができる。
以上により、シリコンウェーハ10から個々の半導体チップ12aが分離される。
本実施形態では、第1の実施形態と同様に、ダイシング装置及びこれを用いた好適なダイシング方法について開示するが、当該装置構成及び方法が若干異なる点で第1の実施形態と相違する。なお、第1の実施形態で説明した構成部材と同じものについては、同符号を付して詳しい説明を省略する。
図7は、第2の実施形態によるダイシング装置を示す概略断面図である。
このダイシング装置は、基板、ここではシリコンウェーハが固定保持されるチャックテーブル31と、シリコンウェーハを切削して個片分離するためのダイシングブレード32と、チャックテーブル1が移動自在に載置されるテーブル台33とを備えている。
基板保持面31aは、反りが生じたシリコンウェーハに対応して、一軸、ここでは図7の紙面に垂直な方向(軸Aと記す)に対して湾曲する形状とされている。即ち基板保持面31aでは、軸Aが左右の湾曲の対称軸となる。シリコンウェーハは、そのバックグラインド後の厚みや保護膜の厚み等により、10mm〜20mm程度の反り量(ウェーハ中心を基準としたウェーハ端部の反り量)となる。この場合、基板保持面31aは、当該反り量に対応して、例えば20mmの湾曲量(基板保持面31aの中心を基準とした基板保持面31aの端部の湾曲量)とされる。
テーブル台33は、接触面31bの湾曲に対応して湾曲する形状の表面33aが形成されており、表面33a上にチャックテーブル31が曲面に沿って移動自在に載置される。
上記のダイシング装置を用いたダイシング方法について説明する。ダイシング方法のフローについては第1の実施形態の図2と同様であるため、図2の各ステップを引用する。
続く図2のステップS4において、シリコンウェーハ10が設置されたチャックテーブル31がテーブル台33上に載置された様子を図8に示す。図8では、シリコンウェーハ10の表面に形成された保護膜12aについては図示を省略する。
ダイシングテープ15に接着されたシリコンウェーハ10は、チャックテーブル31の基板保持面31a上に載置される。シリコンウェーハ10は、基板保持面31a上で真空吸着され、当該シリコンウェーハ10に生じた反りに見合った状態で強制的に基板保持面31aの湾曲形状に保持固定される。このようにシリコンウェーハ10が設置されたチャックテーブル31がテーブル台33上に載置される。
先ず、図9(a)に示すように、チャックテーブル31をテーブル台33上で移動させる。チャックテーブル31を、ダイシングブレード32が、シリコンウェーハ10の表面で一端に存する、基板保持面31aのA軸に平行なスクライブライン11に位置する状態でテーブル台33上に固定する。この状態で、スクライブライン11に沿ってダイシングブレード32を移動させ、ダイシングテープ15に達するまでシリコンウェーハ10を切削する。シリコンウェーハ10が軸Aに沿って平坦であるため、ダイシング時にはダイシングブレード32を直線状に移動させることで、ダイシング対象のスクライブライン11の全体に亘り均一に切削することができる。
以上により、シリコンウェーハ10から個々の半導体チップ12aが分離される。
切削刃を用いて、前記一軸と平行に前記基板をダイシングする工程とを有することを特徴とするダイシング方法。
前記底面の湾曲に対応して湾曲する形状の表面を有し、前記表面上に前記基板固定部が移動自在に載置される基板固定部載置台を用いて、前記基板を保持固定する前記基板固定部を前記表面上に載置する工程と、
前記基板をダイシングする工程と
を有することを特徴とする付記1又は2に記載のダイシング方法。
前記切削刃を、前記基板固定部載置台の前記一軸に沿って駆動させて、前記基板をダイシングする工程とを更に有することを特徴とする付記3に記載のダイシング方法。
切削刃と
を備え、
前記基板固定部は、前記基板保持面上に当該基板保持面の形状に対応するように基板を強制的に固定保持し、
前記切削刃は、前記一軸と平行に前記基板をダイシングすることを特徴とするダイシング装置。
前記底面の湾曲に対応して湾曲する形状の表面を有し、前記表面上に前記基板固定部が移動自在に載置される基板固定部載置台を更に備えたことを特徴とする付記5又は6に記載のダイシング装置。
前記切削刃は、前記基板固定部載置台の前記一軸に沿って前記基板をダイシングすることを特徴とする付記7に記載のダイシング装置。
1a,31a 基板保持面
2,32,112 ダイシングブレード
10,100 シリコンウェーハ
11 スクライブライン
12,100a 半導体チップ
12a 保護膜
13 バックグラインドテープ
14,101 フレーム
15,102 ダイシングテープ
21 ローラー
22 グラインダー
23 紫外線ランプ
24 エンボスキャリアテープ
31b 接触面
33 テーブル台
33a 表面
Claims (6)
- 一軸に対して湾曲する形状の基板保持面を有する基板固定部を用いて、前記基板保持面上に前記基板保持面の形状に対応するように基板を固定保持する工程と、
切削刃を用いて、前記一軸と平行に前記基板をダイシングする工程とを有することを特徴とするダイシング方法。 - 前記基板固定部は、前記基板保持面の湾曲に対応して湾曲する形状の底面を有しており、
前記底面の湾曲に対応して湾曲する形状の表面を有し、前記表面上に前記基板固定部が移動自在に載置される基板固定部載置台を用いて、前記基板を保持固定する前記基板固定部を前記表面上に載置する工程と、
前記基板をダイシングする工程と
を有することを特徴とする請求項1に記載のダイシング方法。 - 前記基板固定部を、前記基板固定部載置台の前記表面上を前記表面の湾曲に沿って移動させる工程と、
前記切削刃を、前記基板固定部載置台の前記一軸に沿って駆動させて、前記基板をダイシングする工程と
を更に有することを特徴とする請求項2に記載のダイシング方法。 - 一軸に対して湾曲する形状の基板保持面を有する基板固定部と、
切削刃と
を備え、
前記基板固定部は、前記基板保持面上に当該基板保持面の形状に対応するように基板を強制的に固定保持し、
前記切削刃は、前記一軸と平行に前記基板をダイシングすることを特徴とするダイシング装置。 - 前記基板固定部は、前記基板保持面が前記基板の湾曲量よりも大きい湾曲量とされていることを特徴とする請求項4に記載のダイシング装置。
- 前記基板固定部は、前記基板保持面の湾曲に対応して湾曲する形状の底面を有しており、
前記底面の湾曲に対応して湾曲する形状の表面を有し、前記表面上に前記基板固定部が移動自在に載置される基板固定部載置台を更に備えたことを特徴とする請求項4又は5に記載のダイシング装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2016054192A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 | 半導体ウエハのダイシング方法 |
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-
2012
- 2012-08-28 JP JP2012187948A patent/JP2014045144A/ja active Pending
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