JP2014038034A - X線分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】X線ビームで試料Sを走査するX線分析装置は、X線ビームの照射側から見て試料台(試料保持部)3の背後に配置した二次元X線検出器4を備える。X線分析装置は、試料Sが載置されていない状態で、X線ビームを二次元X線検出器4へ入射し、二次元X線検出器4でX線ビームのスポット内の二次元強度分布を検出する。更に、X線分析装置は、X線ビームで試料Sを走査して蛍光X線の強度分布を取得し、X線ビームの二次元強度分布を利用して、蛍光X線の強度分布のデコンボリューションを行う。デコンボリューションに必要なX線ビームの二次元強度分布が測定の度に取得されるので、正確な分析が可能になる。
【選択図】図1
Description
図1は、X線分析装置の構成を示すブロック図である。X線分析装置は、X線を放射するX線管11、X線レンズ12、X線導管13、蛍光X線を検出するX線検出器21、試料Sが載置される試料台(試料保持部)3を備えている。図中には、X線を矢印で示している。試料台3は、水平面上に試料Sを載置することが可能であり、試料Sを載置した状態で水平面方向に移動することが可能なXYステージである。
F[f(x,y)]=F[h(x,y)]F[g(x,y)] …(2)
12 X線レンズ
13 X線導管
14 切り替え部
21 X線検出器
22 信号処理部
3 試料台(試料保持部)
31 孔
32 駆動部
4 二次元X線検出器
5 分析部
51 出力部
S 試料
Claims (5)
- X線ビームで試料を走査する手段と、X線ビームでの走査によって試料から発生する蛍光X線の試料上の強度分布を取得する蛍光X線強度取得手段と、該蛍光X線強度取得手段が取得した前記強度分布に対するデコンボリューションを実行する分析手段とを備えるX線分析装置において、
X線ビームのスポット内の二次元強度分布を取得するX線ビーム強度取得手段を備え、
前記分析手段は、前記蛍光X線強度取得手段が取得した強度分布に対して、前記X線ビーム強度手段が取得した二次元強度分布を用いたデコンボリューションを行うように構成してあること
を特徴とするX線分析装置。 - 試料を保持することが可能であり、試料を保持していないときにはX線ビームを通過させる試料保持部を更に備え、
前記X線ビーム強度取得手段は、
前記試料保持部が通過させたX線ビームが入射する位置に配置されており、入射したX線ビームのスポット内の二次元強度分布を検出する二次元X線検出器を有すること
を特徴とする請求項1に記載のX線分析装置。 - 前記分析手段は、
第1の二次元座標系上で、前記蛍光X線強度取得手段が取得した強度分布に対するデコンボリューションの計算を行い、前記第1の二次元座標系と同一平面上にあって軸が交差する第2の二次元座標系上で、前記強度分布に対するデコンボリューションの計算を行う手段と、
該手段による二種類のデコンボリューションの計算結果に基づいて、前記強度分布に含まれるエッジを検出する手段と、
該手段で検出したエッジを強調した前記強度分布を表す画像を生成する手段と
を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のX線分析装置。 - 試料を走査するためのX線ビームよりも拡散したX線を試料へ照射する手段と、
X線を照射された試料を透過した透過X線を検出して、前記試料の透過X線像を取得する手段と、
前記透過X線像に含まれるエッジを検出する手段と、
該手段で検出したエッジに対応するエッジを、前記蛍光X線強度取得手段が取得した強度分布中で検出する手段と、
該手段で検出したエッジを強調した前記強度分布を表す画像を生成する手段と
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一つに記載のX線分析装置。 - 試料の光学顕微鏡像を生成する手段と、
該手段が生成した前記光学顕微鏡像に含まれるエッジを検出する手段と、
該手段で検出したエッジに対応するエッジを、前記蛍光X線強度取得手段が取得した強度分布中で検出する手段と、
該手段で検出したエッジを強調した前記強度分布を表す画像を生成する手段と
を更に有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか一つに記載のX線分析装置。
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