JP2014007063A - 発光パネルの製造方法並びに発光パネル及び発光パネルの中間製品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 発光パネル用基板11における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層16用の機能性材料(発光塗布液16a)を塗布する機能性材料塗布工程と、発光パネル用基板11における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層21用の吸着性材料(吸着塗布液21a)を塗布する吸着性材料塗布工程とを有し、吸着性材料は、吸着層21における前記同じ材料の重量比が機能層16におけるドーパントの重量比よりも高くなるように、同じ材料を含む。
【選択図】図6
Description
本発明は、機能性材料又は機能層を真空装置内におく場合において、機能性材料への不純物質の付着を可能な限り抑制することを目的とする。
本発明の一形態に係る発光パネルの製造方法は、発光パネル用基板における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層用の機能性材料を塗布する機能性材料塗布工程と、前記発光パネル用基板における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層用の吸着性材料を塗布する吸着性材料塗布工程とを有し、前記吸着性材料は、前記吸着層における前記同じ材料の重量比が前記機能層における前記ドーパントの重量比よりも高くなるように、前記同じ材料を含む。
また、本発明の一形態に係る発光パネルの特定の局面では、前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する。あるいは、前記画素部が複数個あり、前記複数の画素部により発光領域が構成され、前記吸着層は、前記発光領域以外の領域に形成されている。さらに、前記画素部が複数個あり、前記画素部の発光層は、当該画素部に隣接する他の画素部の発光層と隔壁を介して区画されており、前記吸着層は、前記隔壁の上面に形成されている。
≪発明の一形態に至った経緯≫
発明者は、有機EL素子の発光特性について検討を行っている。この中で、有機発光層を成膜した後に真空工程を経て製造された有機EL素子は、真空工程を経ずに製造された有機EL素子よりも発光特性が悪くなることを見出した。
≪実施の形態1≫
本実施の形態1においては、発光パネルの一例として、有機EL表示パネルについて説明する。
1.有機EL表示パネルの全体構成
図1は、有機EL表示パネルの構成を示す平面図であり、図2は、図1に示すA部拡大図におけるB−B断面を矢印方向から見た断面図である。
EL基板2は、平面視矩形状の表示領域5と、表示領域5の外側に設けられた吸着領域6とを有する。なお、図1の拡大図は、EL基板2の画素部等を示しており、本来であれば破線で示すところを、便宜上、実線で示している。
封止基板3及び封止材料4は、有機EL表示パネル1がトップエミッション型であるため、封止基板3としてはガラス材料等の光透過性材料を、封止材料としては、樹脂材料等の光透過性材料をそれぞれ選択する必要がある。
2.表示領域の構成
表示領域5を構成する有機EL素子7は、基板11上に形成され、その主な構成として、陽極12、正孔注入層14、有機発光層16、電子輸送層17、陰極18を備える。なお、基板11は、発明の一形態における「発光パネル用基板」に相当し、有機発光層が、発明の一形態における「機能層」に相当する。また、画素部は上記の1つの有機EL素子7に相当し、後述する各有機EL素子7R,7B,7Gを区画するバンク15は画素部の構成に含まない。
(1)基板11
基板11はEL基板2のベースとなる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナ等の絶縁性材料で形成することができる。
(2)陽極12
陽極12は、例えば、ACL(アルミニウム、コバルト、ランタンの合金)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)等で形成することができる。
(3)ITO層13
ITO層13は、各層間(ここでは陽極12と正孔注入層14である。)の接合性を良好にする機能を有し、当該ITO層13の上面には正孔注入層14が形成されている。
(4)正孔注入層14
正孔注入層14は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)等の酸化物、あるいは、PEDOT−PSS(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)等の導電性ポリマー材料からなる層である。上記のうち、酸化金属からなる正孔注入層14は、正孔を安定的に、または正孔の生成を補助して、有機発光層16に対し正孔を注入する機能を有する。
(5)バンク15
バンク15は一定の台形断面を持つように形成されており、絶縁性の有機材料(例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等)からなる。
(6)有機発光層16
有機発光層16は、キャリアの再結合による発光を行う部位であり、R,G,Bのいずれかの色に対応する有機材料を含むように構成されている。
有機発光層16として用いることが可能な材料としては、例えば、後述の各実験で用いたF8−F6のほか、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)、ポリフルオレン、特許公開公報(特開平5−163488号公報)に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
有機発光層16Gにおけるドーパントの重量比は、0.4以下、例えば、0.4である。なお、ここでの重量比は、ドーパント量/(ドーパント量+ホスト量)である。
図4は、ドーパントの構造を示す図である。(a)はデンドリマーのイメージ図であり、(b)はデンドリマーの一例としてイリジウムデンドリマーを示し、(c)は、(b)における置換基Rの化学構造を示している。
ドーパントは、デンドリマー構造を備える材料、例えば高分子材料であり、図4に示すように、内部に隙間23を有するような構造を有するのが特徴である。なお、図4(a)に示すイメージ図は、特許文献3に開示されているものであり、(b)は非特許文献2に開示されているものである。
なお、有機発光層16は、真空装置を利用して形成(乾燥)されている。
(7)電子輸送層17
電子輸送層17は、陰極18から注入された電子を有機発光層16へ輸送する機能を有する。電子輸送層17は電子輸送性を有する材料(電子輸送性材料)で構成されており、このような材料としては、例えば、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体(いずれも特開平5−163488号公報に記載)等が挙げられる。
(8)陰極18
トップエミッション型の有機EL表示パネル1を実現するため、本実施の形態1において電子輸送層17の上に形成された陰極18は、例えば、ITO、IZO(酸化インジウム亜鉛)等の光透過性を有する導電性酸化物材料で形成されている。
(9)封止層19
陰極18の上に形成された封止層19は、有機EL表示パネル1内の有機発光層16や陰極18等に水分や酸素が浸入するのを防ぐために設けられている。有機EL表示パネル1はトップエミッション型であるため、封止層19には、例えば、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)等の光透過性材料が採用されている。
3.吸着領域
吸着領域6は、表示領域5の外周を囲繞にするように基板11に設けられている。吸着領域6は、有機発光層16の乾燥工程(減圧工程)中に真空装置に起因した不純物質が付着するのを抑制するものである。つまり、吸着領域6は、有機発光層16よりも不純物質に対して高い吸着性を有する吸着層21を有している。
ここでは、吸着層21は、表示領域5の外側に一重に設けられているが、多重に設けられても良い。また、吸着層21は、表示領域5を囲繞する領域のすべてに亘って設けられていたが、表示領域5を囲繞する領域の一部に吸着層を設けるようにしても良い。
ドーパントの構造としては、図4の(a)に示すように、デンドリマー構造を有するのが特徴であり、この隙間23に不純物質の一部または全部が嵌る。
4.有機EL表示パネルの製造方法
図5〜図6は、実施の形態1に係る有機EL表示パネル1の製造工程例を示す図である。これらの図を参照しながら、有機EL表示パネル1の製造方法について説明する。
(1)下層形成工程
図5の(a)に示すように基板11を準備し、図5の(b)に示すように、当該基板11における表示領域5に対応する領域(図5の(b)では「表示領域5」としている。)に、陽極12、ITO層13及び正孔注入層14を形成する。
(2)バンク形成工程
図5の(c)に示すようにバンク15,22を形成する。バンク材料として、例えば感光性のレジスト材料、好ましくはフッ素系材料を含有するフォトレジスト材料を用意する。このバンク材料を基板11上の表示領域5に対応する領域及び吸着領域6に対応する領域上に一様に塗布し、プリベークした後、開口部15a,15bを形成できるようなパターンを有するマスクを重ねる。そして、マスクの上から感光させた後、未硬化の余分なバンク材料を現像液で洗い出す。最後に純水で洗浄することでバンク15,22が完成する。
(3)機能層形成工程
(3−1)塗布液塗布工程
図5の(d)に示すように、バンク15の開口部15a(図5の(c))に対し、インクジェット法に基づき、有機発光層16を構成する発光性材料および溶媒を含んでなる発光塗布液16aを滴下(塗布)する(発光性材料塗布工程)。なお、発光性材料は、発明の一形態における「機能性材料」に相当する。
ここでの、吸着性材料塗布工程は、発光性材料塗布工程の後に行っても良いし、発光性材料塗布工程の前に行っても良いし、発光性材料塗布工程中に行っても良い。
(3−2)乾燥工程
基板11に対して滴下された塗布液16a,21aを乾燥させる。この乾燥工程では、真空装置を利用し、所定時間真空チャンバー内を減圧することで行われる。真空装置は、塗布液16a,21aが滴下された基板11を収容する真空チャンバーと、真空チャンバ−内を減圧させる真空ポンプとを備える。乾燥工程では、真空チャンバー内を減圧して行われるため減圧工程でもある。
このとき、主排気ポンプの性能限界まで減圧されると、主排気ポンプ側の不純物質31が真空チャンバー内に拡散し、有機発光層16や乾燥中の有機発光層中間体16aに付着しようとする。しかしながら、基板11には吸着層21や乾燥中の吸着層中間体21aが表示領域5に対応する領域の外側に存在しているので、図6の(a)や(b)に示すように、真空チャンバー内の不純物質31は、吸着層21や乾燥中の吸着層中間体21aに吸着される。そして、結果的に、不純物質31が有機発光層16に付着するのを抑制することができる。
(4)上層形成工程
機能層形成工程後、図6(c)に示すように、上層を形成する。
次に、陰極形成工程を行う。当該工程では、塗布膜としての有機発光層16や吸着層21の上方に、真空蒸着法、スパッタ法等の真空成膜法基づき、ITO、IZO等を成膜することにより陰極18を形成する。
以上の工程を経ることで、EL基板2が完成する。
(5)貼合せ工程
上記工程で完成したEL基板2の上方に封止基板3を対向配置させ、EL基板2と封止基板3とで形成される空間に封止材料4を充填する。
以上のように、吸着層21を、発光塗布液(発光性材料)が塗布された基板に設けることで、有機発光層16や乾燥中の発光層中間体16aへの不純物質31の付着を抑制することができる。また、吸着層21は有機発光層16(ここでは有機発光層16Gである。)のホストとドーパントと同じ材料(重量比は異なる。)を利用しているので、有機発光層16用の発光塗布液16aの塗布工程に関連させて(塗布工程よりも前にしてもよいし、塗布工程の後でもよい)行うことができるので、容易且つ効率的に吸着層21を設けることができる。
5.吸着層について
(1)真空工程の有無による発光特性の違い
本発明者は、発光層成膜後に真空工程を行うか否かで有機EL素子の発光特性に違いが現れるかを検証した。実験用の有機EL素子として、真空工程を経ない有機EL素子と、真空工程を経る有機EL素子の2種を準備した。ここで利用した真空装置は、真空チャンバーと真空ポンプとを備える。真空ポンプは、メカニカルブースターポンプを利用している。
(1−1)有機EL素子の準備について
真空工程を経ない有機EL素子は、以下のようにして形成した。まず、上述した製造方法に基づき、基板上に陽極、正孔注入層、正孔輸送層を順に積層した。次に、正孔輸送層の上面に発光塗布液を塗布した後、加熱を行い、有機発光層を成膜した。続いて、有機発光層が成膜された基板を、グローブボックスに20[min]載置した。そして、有機発光層の上に電子輸送層、陰極、封止層を順に積層することにより、真空工程を経ない有機EL素子が完成する。
真空工程を経ない有機EL素子、真空工程を経る有機EL素子ともに、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、陰極および封止層には、公知の材料を用いた。有機発光層は、ホストとしてF8−F6を、ドーパントとしてデンドリマー構造を有する金属錯体を用いた。
(1−2)発光特性
図8は、真空工程を経ない有機EL素子の発光特性と、真空工程を経た有機EL素子の発光特性を示す図である。
両実験用有機EL素子の違いは、有機発光層成膜後の基板が置かれる環境のみである。つまり、グローブボックス内に保管するか、真空ポンプに接続された真空チャンバー内に保管するかの違いにより、発光強度半減寿命に大きな差が生じたことになる。
(1−3)考察
本発明者は、図8に示す結果から、機械式の真空ポンプに用いられている潤滑剤の含有成分、もしくは、真空シール材等の含有成分が、不純物質として有機発光層に何らかの悪影響を与えているのではないかと考えた。以下、「機械式の真空ポンプに用いられている潤滑剤の含有成分、もしくは、真空シール材等の含有成分」を、単に「潤滑剤等の含有成分」と記載する。
(2)発光強度半減寿命低下のメカニズム
以下、ジフェニルアミン系化合物を主に取り上げて説明する。
まず、式(1)に示すように、有機EL素子駆動中においては、電子輸送層17を構成する電子輸送性材料Xは、ラジカルアニオン(ポーラロン)状態となることで電子の輸送を行う(図10における「ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料X」である。)。
このような反応が進行する理由として、ラジカルアニオン状態のDPAは、負電荷が2つのベンゼン環において非局在化するため安定に存在し得るからであると考えた。つまり、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Xよりも、ラジカルアニオン状態のDPAの方がさらに安定な構造となり得るからであると考えた。また、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Xは、DPAから放出された水素原子と結合する(図10における「XH」である。)。
次に、式(2)に示すように、界面領域128において、ラジカルアニオン状態のDPAは、有機発光層16を構成する材料Yと反応することも想定される。この反応により、有機発光層16を構成する材料Yとは異なる生成物Zを与える。これは、有機発光層16が劣化することに相当する。このように、DPAと有機発光層16を構成する材料Yが反応してしまうことも、発光強度の低下の一因であると考えられる。また、DPAとYが直接反応している場合に限定されず、残存溶媒や、作製途中に含まれる水分により生じうるラジカル物質を介して発光強度低下が起こっている場合も含まれる。
(3)真空工程を経た有機発光層表面の分析
次に、ガスクロマトグラフ質量分析計(GC−MS)を用い、真空工程を経た有機発光層の表面に付着している物質を分析した。真空工程を経た有機発光層をヘリウム雰囲気下で昇温加熱し、加熱された有機発光層から放出されるガス(アウトガス)を液体窒素で捕集し、GC−MSで分析した。GC−MS分析は、アジレント・テクノロジー社製の6890GCを用い、イオン化はEI法(電子イオン化法)により行った。カラムはアジレント・テクノロジー社製のDB5msを使用し、40度から300度まで昇温した。
そこで、有機発光塗布膜を形成した基板を真空チャンバー内に載置した上で、メカニカルブースターポンプで真空チャンバー内を減圧し、上述した方法に基づきGC−MS分析を行った。その結果、図11に示すスペクトルのように、不純物質のピークを検出することができた。
(4)真空ポンプから真空チャンバーへの不純物質飛散のメカニズム
図12は、真空ポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。横軸が排気時間であり、縦軸が真空チャンバー内の圧力である。また、縦軸において、下方にいくほど真空度が高いことを示している。
図13は、図12に示すグラフにおける時刻A、時刻B、時刻Cにおける真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を模式的に示す図である。
図13の(a)は真空ポンプ53の起動時点である。減圧を開始すると、図13の(b)において破線の矢印で示すように、真空チャンバー52内の気体は、排気管55から真空ポンプ53を介して外部へ排出される。このように、真空チャンバー52から排気管55、真空ポンプ53へと向かう気流が発生する。このため、減圧期間(時刻B)においては、不純物質31が真空チャンバー52へ飛散することはないと考えられる。
(5)吸着層
発明者は、有機発光層16に不純物質が付着する現象に注目し、有機発光層16を構成している発光性材料のうち、不純物質を吸引する(不純物質が付着する)材料を利用することで、不純物質を吸着する吸着層としての機能を果せると考えた。
図14は、ドーパント重量比と化合物の物質量との測定結果を示す図である。
図14においては、横軸のドーパント重量比「0」はホストのみで有機層を形成した場合であり、ドーパント重量比「1」はドーパントのみで有機層を形成した場合である。また、横軸において、右側に移るに従ってホストが減る一方でドーパントが増え、左側に移るに従ってドーパントが減る一方でホストが増える。
化合物1は、ドーパント重量比が増加するに従って、有機層への付着量が増加している。化合物2及び化合物3では、ドーパント重量比が0.8を超えると特に有機層への付着量が増える傾向にある。
図15は、他の有機層と一緒に形成した場合の有機層に付着する化合物の物質量と、他の有機層と一緒に形成しない場合の有機層に付着する化合物の物質量とを示す図である。
この実験は、ドーパント重量比が0.4の有機層を形成する際に、ドーパント重量比が0.4よりも高い他の有機層と一緒に形成した場合と、ドーパント重量比が0.4の有機層を形成する際に当該有機層のみを形成した場合の2種類について行った。
図15に示すように、すべての化合物において、他の有機層と一緒に形成した場合(図中の「有」である。)、他の有機層と一緒に形成していない場合(図中の「無」である。)に比べて、有機層に付着する化合物の物質量が減少している。
以上のことから、不純物質が有機発光層16や乾燥中の発光塗布液16aに付着するのを防止するには、有機発光層16を形成する基板上に、表示領域5の有機発光層16におけるドーパント重量比よりも高いドーパント重量比の有機層(吸着層)を設けるのが有効であることが推測できる。
≪実施の形態2≫
実施の形態1では、有機EL表示パネル1は、基板11上に吸着領域6を備えていたが、吸着領域は有機発光層16を真空装置内で乾燥して形成する際に表示領域5に対応する領域に近接して存在していれば良く、製造工程の最終段階で吸着領域が除去される形態を実施の形態2として説明する。
1.構造
図16は、実施の形態2に係る有機EL表示パネルの断面図を示す図である。
EL基板102は、平面視矩形状の表示領域104を有する。表示領域104を構成する有機EL素子は、基板105上に形成され、その主な構成として、陽極12、正孔注入層14、有機発光層16、電子輸送層17、陰極18を備え、各有機EL素子は、バンク15により区画されている。
2.有機EL表示パネルの製造方法
図17〜図18は、実施の形態2に係る有機EL表示パネル101の製造工程例を示す図である。これらの図を参照しながら、有機EL表示パネル101の製造方法について説明する。
(1)下層形成工程
図17の(a)に示すように基板111aを準備し、(b)に示すように、当該基板11に陽極12、ITO層13及び正孔注入層14を形成する。なお。これらの形成は実施の形態1と同じである。
(2)バンク形成工程
図17の(c)に示すようにバンク15,106を形成する。このときバンク106は、基板111aにおける周縁部に形成される。ここでの周縁部は、基板111aにおけるEL基板102よりも外側部分である。なお、バンク15,106は、そのバンク材料,バンクの形成方法等が実施の形態1と同じである。
(3)機能層形成工程
吸着層は、表示領域204の外側であって、当該表示領域204と間隔をおいて形成される。この間隔は、有機EL表示パネル201としたときに、吸着層が有機EL表示パネル201に含まれないように設定されている。
(3−1)塗布液塗布工程
図17の(d)に示すように、バンク15の開口部15a(図17の(c))に対し発光塗布液16aを滴下(塗布)する(発光性材料塗布工程)。また、バンク106間の開口部106a(図17の(c))に対し吸着塗布液108aを滴下(塗布)する(吸着性材料塗布工程)。なお、発光塗布液16aや吸着塗布液108aの滴下方法等は実施の形態1と同じである。
(3−2)乾燥工程
基板111aに対して塗布された塗布液16a,108aを乾燥させる。この乾燥工程では、真空装置を利用し、真空チャンバー内で所定時間だけ減圧することで行われる。乾燥方法等は実施の形態1と同じである。
(4)上層形成工程
乾燥工程後、図18の(c)に示すように、表示領域104に対応する領域に上層を形成する。なお、この上層の形成は実施の形態1と同じである。なお、ここでは、吸着領域に対応する領域(バンク106、吸着層108)上には上層を形成していないが、上層を形成しても良い。
(5)スクライブ工程
上層形成工程が終了すると、基板111aを所定の大きさにスクライブする。スクライブする位置は、例えば、表示領域104の最外周に位置するバンク15と、吸着領域における表示領域104側のバンク106との間である。
有機EL表示パネル101は、上記スクライブ工程を行う前に、基板111aと封止基板3用の基板とを封止材料103で貼り合わせた後、表示領域104の最外周に位置するバンク15と、吸着領域における表示領域104側のバンク106との間でスクライブしても良い。
≪実施の形態3≫
実施の形態1及び実施の形態2における吸着領域は、表示領域の外周側に設けられていたが、吸着領域は、表示領域内に設けても良い。表示領域内に吸着領域を設けた形態を実施の形態3として説明する。
有機EL表示パネル201は、EL基板202と封止基板3とが封止材料(樹脂材料)203を介して貼り付けられてなる。封止基板3及び封止材料203について、実施の形態1におけるこれらと同じ構成であるため、その説明は省略する。
バンク211の上面には溝211aが形成されており、この溝211aに吸着層213が形成されている。吸着層213は、図19に示すように、マトリクス状(縦横方向)に配置されている有機EL素子間を縦方向・横方向に延伸するように設けられている。
なお、実施の形態3では、吸着層213は、すべての有機EL素子間を延伸するように設けられていたが、すべての有機EL素子間に必ずしも設ける必要はない。
図21は、吸着層の配置領域の変形例を示す図である。
ここでは、赤、青、緑色の各発光層の内、1つの発光層、例えば、緑色の発光層でデンドリマー構造のドーパントを利用している。このため、吸着層235は緑色の発光層(G)を区画するバンク233aの上面に形成されている。
≪実施の形態4≫
図22は、有機EL表示装置等を示す斜視図であり、図23は、有機EL表示装置の全体構成を示す図である。
≪変形例≫
以上、実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限られない。例えば、以下のような変形例等が考えられる。
1.製造方法
実施の形態1〜3における製造方法では、発光層の形成された基板を加熱する加熱工程を含んでいなかったが、機能性材料を塗布し乾燥させた後に加熱工程を行っても良い。
図24は、図9に示す化合物1,2,3の有機発光層への吸収挙動を示すグラフである。このグラフは、次のようにして得た。
まず、本検証に用いる実験用素子を準備した。上記乾燥工程を経る実験用有機EL素子と同様に、基板上に陽極、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層を順に積層し、有機発光層は真空装置を用いて減圧することで形成している。
以上のことから、有機発光層を形成した後に加熱処理を行うことで、化合物1,2,3の有機発光層への付着量を低下させることができる。一方で、化合物1が有機発光層に付着すると、加熱処理を行っても完全に除去することができず、その除去が困難である。本実施に形態に係る吸着層は、図14に示すように、化合物1の吸着性が高く、有機発光層に化合物1が付着するのを抑制することができるため、除去が困難である化合物1の付着に対して特に効果的であると言える。
2.吸着層について
(1)材料
実施の形態では、有機発光層をホストとドーパントとを含む材料で構成し、吸着層を有機発光層と同じドーパントを用いて構成していた。
図25は、他のドーパントを示す模式図である。
他のドーパントとしては、図25の(a)に示すような、ジェネレーション3のデンドリマーでも良い。なお、ジェネレーション3のデンドリマーにおいても隙間401を有している。また、図25の(b)に示すような、ジェネレーション1のイリジウムデンドリマーであっても良い。
(2)吸着層の乾燥
実施の形態では、有機発光層と吸着層とを同時に乾燥していたが、不純物質は、乾燥前や乾燥中の吸着層(吸着塗布液中の吸着性材料)にだけ付着するのではなく、乾燥後の吸着層にも付着する。したがって、有機発光層の形成は、付着層の形成後に行っても良い。
(3)成膜後の真空環境
成膜後、真空環境に保管する場合において、本発明は有効である。成膜後のから次層形成までに真空環境を経由する場合に付着する不純物質はベーク等で除去できないため、発光部位への不純物質の付着を抑制可能な本手法は非常に有効である。
3.製品について
(1)実施の形態においては、発光パネルの製品の一例として有機EL表示パネルを取り上げて説明したが、本発明の一形態はこれに限定されない。例えば、有機EL素子を用いた有機EL照明パネルなどにも適用できる。
つまり、本発明の一形態は、製造過程において、基板上に有機材料を含んでなる機能層を形成する際に、機能層に不純物質が付着するような製品に適用することができる。このような場合に、前記機能層を構成する材料であって不純物質が付着しようする主材料を、機能層における主材料の重量比よりも高い重量比で含む吸着層を設けることで実施することができる。
(2)中間製品
実施の形態に係る吸着層は、機能層を形成する際に存在しておれば良い。例えば、実施の形態1で説明したように、製品として吸着層を備えていても良いし、実施の形態2で説明したように、製造過程の途中で吸着層を備えていて製品としては備えていなくても良い。要するに、吸着層は製造過程の途中である中間製品(最終製品が発光パネルの場合、本中間製品は、発光パネルの中間製品である。)に存在しておれば良い。
(3)機能層
実施の形態においては、機能層が有機発光層であるとして説明したが、本発明はこれに限定されない。EL表示パネルを構成する各層のうち、塗布成膜法により塗布膜が形成された後、減圧下に晒される層のすべてが、本発明の一形態の機能層の対象となり得る。
(4)有機EL素子、有機EL表示パネル
実施の形態2において、ITO層、正孔注入層、バンク、電子輸送層、及び封止層は必須の構成要件ではない。これらの構成を有しない有機EL表示パネルに対しても、本発明を適用することが可能である。
また、正孔注入層が基板の上方を覆うように全面に形成されている例を示したが、本発明はこれに限定されない。正孔注入層がITO層上のみに形成されていることとしてもよい。また、ITO層の側面および上面のみを覆うように形成されていることとしてもよい。
また、バンク材料として、有機材料が用いられていたが、無機材料も用いることができる。この場合、バンク材料層の形成は、有機材料を用いる場合と同様、例えば塗布成膜法等により行うことができる。
有機EL表示パネルをR,G,Bを発光色とするフルカラー表示のパネルであるとしたが、本発明はこれに限定されない。有機EL表示パネルを、R、G、B、白色およびその他単色の有機EL素子が複数配列されてなる表示パネルとしてもよい。さらに、いずれか1色のみの有機EL素子を有する単色表示の有機EL表示パネルとしてもよい
また、有機EL表示パネルでは、バンクを井桁状(格子状)に形成し、バンクによって各サブピクセルの周囲を囲繞する、いわゆるピクセルバンク方式を採用しているが、本発明はこれに限られない。例えば、複数のライン状のバンクを並設し、有機発光層をストライプ状に区画するラインバンク方式を採用しても良い。
2 EL基板
16 発光層
16a 発光塗布液
21 吸着層
21a 吸着塗布液
31 不純物質
Claims (14)
- 発光パネル用基板における各画素部領域に、ホストとドーパントとを含む機能層用の機能性材料を塗布する機能性材料塗布工程と、
前記発光パネル用基板における前記機能性材料が塗布された領域とは異なる領域に、前記ドーパントと同じ材料を含む吸着層用の吸着性材料を塗布する吸着性材料塗布工程と
を有し、
前記吸着性材料は、前記吸着層における前記ドーパントと同じ材料の重量比が前記機能層における前記ドーパントの重量比よりも高くなるように、前記同じ材料を含む
発光パネルの製造方法。 - 前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する
請求項1に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記機能層における前記ドーパントの重量比は0.4以下である
請求項1又は2に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記吸着層は、前記ホストと同じ材料と、前記ドーパントと同じ材料とからなり、
前記吸着層における前記ド―パントと同じ材料の重量比が、0.8以上 1.0未満である
請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記吸着層における前記同じ材料の重量比が、1.0である
請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記機能性材料と前記吸着性材料とが塗布された前記発光パネル用基板を真空装置の真空チャンバーに収容し、前記真空チャンバー内を真空ポンプにより減圧させる減圧工程を有する
請求項1〜5のいずれか1項に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記減圧工程では、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入するオイル成分又はシール材由来のアウトガス成分を前記吸着層又は前記吸着性材料に吸着させつつ、前記塗布された前記機能性材料を乾燥し、前記機能層を形成する
請求項6に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記減圧工程の後に、前記発光パネル用基板を加熱する加熱工程を有し、
前記加熱工程では、前記減圧工程中に前記機能層の表面に付着した、前記真空ポンプに含まれ且つ前記真空ポンプから前記真空チャンバーに侵入する前記オイル成分とは異なるオイル成分の一部を前記機能層から除去する
請求項7に記載の発光パネルの製造方法。 - 前記吸着性材料が塗布された領域は、前記機能層を区画する隔壁、または、前記画素部領域を含む発光領域とは異なる非発光領域である
請求項1〜8のいずれか1項に記載の発光パネルの製造方法。 - ホストとドーパントとを含む発光層を有する画素部と、
前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層とを有し、
前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む
発光パネル。 - 前記ドーパントは、デンドリマー構造を有する
請求項10に記載の発光パネル。 - 前記画素部が複数個あり、
前記複数の画素部により発光領域が構成され、
前記吸着層は、前記発光領域以外の領域に形成されている
請求項10又は11に記載の発光パネル。 - 前記画素部が複数個あり、
前記画素部の発光層は、当該画素部に隣接する他の画素部の発光層と隔壁を介して区画されており、
前記吸着層は、前記隔壁の上面に形成されている
請求項10又は11に記載の発光パネル。 - ホストとドーパントとを含む発光層を有する発光パネルの中間製品において、
前記発光層が存する領域と異なる領域に形成された吸着層を有し、
前記吸着層は、前記発光層における前記ドーパントの重量比よりも高い重量比で前記ドーパントと同じ材料を含む
発光パネルの中間製品。
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Citations (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0554970A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 直流型エレクトロルミネツセンス素子 |
JP2001107858A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-04-17 | Ebara Corp | トラップ装置 |
US6372154B1 (en) * | 1999-12-30 | 2002-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Luminescent ink for printing of organic luminescent devices |
JP2003231692A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-08-19 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 有機化合物、有機el素子およびディスプレイ |
JP2004139987A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Thomson Licensing Sa | 前方発光型有機発光ダイオードパネルのカプセル化 |
JP2004227994A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Victor Co Of Japan Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2004235014A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学表示装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2006228648A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 |
JP2007165110A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Hitachi Displays Ltd | 有機発光表示パネル |
JP2007184348A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP2008064072A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Kai Shoji Kk | 真空系用トラップ |
JP2008174499A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Sumitomo Chemical Co Ltd | デンドリマー錯体化合物およびそれを利用する別のデンドリマー錯体化合物の製造方法 |
JP2009093972A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Canon Inc | 有機発光素子の製造方法 |
JP2010169308A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Panasonic Corp | 乾燥装置 |
JP2011044380A (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | Panasonic Corp | 有機el素子の機能層の製造装置および製造方法 |
JP2011100980A (ja) * | 2009-10-05 | 2011-05-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
JP2012089398A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び該製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2013222535A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Panasonic Corp | 真空装置、有機膜の形成方法、有機el素子の製造方法、有機el表示パネル、有機el表示装置、有機el発光装置およびゲッター材を構成する材料の選択方法 |
JP2013255872A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Panasonic Corp | 酸化防止剤、酸化防止剤組成物、真空装置用酸化防止剤、有機el素子の製造方法、有機el表示パネル、有機el表示装置および有機el発光装置 |
-
2012
- 2012-06-25 JP JP2012142031A patent/JP6082934B2/ja active Active
Patent Citations (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0554970A (ja) * | 1991-08-26 | 1993-03-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 直流型エレクトロルミネツセンス素子 |
JP2001107858A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-04-17 | Ebara Corp | トラップ装置 |
US6372154B1 (en) * | 1999-12-30 | 2002-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Luminescent ink for printing of organic luminescent devices |
JP2003231692A (ja) * | 2001-12-04 | 2003-08-19 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 有機化合物、有機el素子およびディスプレイ |
JP2004139987A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Thomson Licensing Sa | 前方発光型有機発光ダイオードパネルのカプセル化 |
JP2004227994A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Victor Co Of Japan Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2004235014A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Seiko Epson Corp | 電気光学表示装置及びその製造方法並びに電子機器 |
JP2006228648A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-08-31 | Seiko Epson Corp | 有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、電子機器 |
JP2007165110A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Hitachi Displays Ltd | 有機発光表示パネル |
JP2007184348A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP2008064072A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Kai Shoji Kk | 真空系用トラップ |
JP2008174499A (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-31 | Sumitomo Chemical Co Ltd | デンドリマー錯体化合物およびそれを利用する別のデンドリマー錯体化合物の製造方法 |
JP2009093972A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Canon Inc | 有機発光素子の製造方法 |
JP2010169308A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Panasonic Corp | 乾燥装置 |
JP2011044380A (ja) * | 2009-08-24 | 2011-03-03 | Panasonic Corp | 有機el素子の機能層の製造装置および製造方法 |
JP2011100980A (ja) * | 2009-10-05 | 2011-05-19 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置及び半導体装置の作製方法 |
JP2012089398A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び該製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2013222535A (ja) * | 2012-04-13 | 2013-10-28 | Panasonic Corp | 真空装置、有機膜の形成方法、有機el素子の製造方法、有機el表示パネル、有機el表示装置、有機el発光装置およびゲッター材を構成する材料の選択方法 |
JP2013255872A (ja) * | 2012-06-11 | 2013-12-26 | Panasonic Corp | 酸化防止剤、酸化防止剤組成物、真空装置用酸化防止剤、有機el素子の製造方法、有機el表示パネル、有機el表示装置および有機el発光装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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