JP6111396B2 - 有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置における真空シール材、潤滑剤、および、有機ｅｌ素子の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置に用いられる酸化防止剤等に関する。

近年、固体蛍光性物質の電界発光現象を利用した発光素子である有機ＥＬ素子の研究・開発が進んでいる。有機ＥＬ素子は自発光デバイスであるため、応答速度が速い、視野角が広い、コントラストが高い等の特徴を有する。有機ＥＬ素子は陽極および陰極の電極対の間に、キャリア（正孔と電子）の再結合による電界発光現象を行う有機発光層を積層して構成される。

上記有機発光層の成膜方法として塗布成膜法（例えば、特許文献１）が存在し、量産化の点で好ましいとされている。塗布成膜法では、有機発光層を構成する材料と溶媒とを含む有機発光層材料をインクジェット法（液滴吐出法）等で基板に塗布し、有機発光層材料を、真空装置（例えば、特許文献２）を用いて乾燥させることにより有機発光層を形成する。真空装置は、主に真空チャンバーと真空ポンプを備えるものである。有機発光層材料の乾燥は、当該有機発光層材料が塗布された基板を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで行われる。このような真空装置は、有機発光層材料の乾燥のほか、有機発光層形成後から次工程を行うまでの保管等の際にも使用される。

通常、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所には、潤滑剤や真空シール材等が用いられている。また、潤滑剤や真空シール材等は、これらを構成する材料の酸化を防止するための酸化防止剤を含有している。

特開２００９−２６７２９９号公報 特開平１−２１９３６７号公報 特開２０１０−２２９１５５号公報

Ｉｎｇｏｌｄ ｅｔ ａｌ．，Ｃａｎａｄｉａｎ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ４７，２８７−２９４（１９６９）． Ｍａｒｋｈａｍ ｅｔ ａｌ．，Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｖｏｌ．８０， Ｎｏ．１５ ２６４５−２６４７（２００２）．

有機発光層材料等の有機膜材料を真空状態下に維持する際には、例えば、潤滑剤や真空シール材に用いられている酸化防止剤が、可能な限り不純物として有機膜材料に付着しないようにすることが望ましい。
本発明は、有機膜材料を真空状態下に維持する場合において、有機膜材料への不純物の付着を可能な限り抑制することを目的とする。

本発明の一態様である酸化防止剤は、有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置に用いられる酸化防止剤であって、真空ポンプとこれに接続された真空チャンバーを備える前記真空装置の、前記真空ポンプにおける前記真空チャンバーと連通する箇所に用いられ、下記一般式（１）

で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む。
但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（２）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。

（式（２）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）

有機膜材料を真空状態に維持する場合において、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いられる酸化防止剤として、本発明の一態様である酸化防止剤を用いることで、少なくとも当該酸化防止剤が有機膜材料に付着することを抑制できる。
したがって、有機膜材料を真空状態下に維持する場合において、有機膜材料への不純物の付着を可能な限り抑制することが可能である。

（ａ）本発明の一態様に係る酸化防止剤を用いた真空装置の構成を示す図と、（ｂ），（ｃ）被乾燥物５の模式的な部分拡大図である。 （ａ）本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を示す一般式と、（ｂ）置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つがとり得る化学構造を示す一般式と、（ｃ），（ｄ）図２（ｂ）に示す一般式中における鎖式構造Ａおよび環構造部分Ｒ¹¹の対応関係について説明するための図である。 実験用の有機ＥＬ素子の構造を示す模式断面図である。 実験用の有機ＥＬ素子の形成手順を説明するための模式断面図である。 実験に用いたメカニカルブースターポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。 減圧工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性と、減圧工程を経た有機ＥＬ素子の発光特性を示す図である。 ジフェニルアミン系化合物の連鎖停止剤としての機能を説明するための図である。 酸化防止剤として用いられるジフェニルアミン系化合物の一例を示す図である。 ジフェニルアミン系化合物を原因とする、有機ＥＬ素子における発光強度半減寿命低下のメカニズムの一例を説明するための図である。 減圧工程を経た有機発光層表面の付着物の分析結果を示す図である。 真空ポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。 図１１に示すグラフにおける時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃにおける真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を模式的に示す図である。 ホスト分子の構造を示す図である。 ドーパント分子の構造を示す図である。 有機発光層を構成する材料におけるホスト分子とドーパント分子の比率を変えた場合における、化合物Ａ，Ｂ，Ｃの付着挙動の違いを示すグラフである。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。 実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０の構成を示す部分断面図である。 実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１５の形状を示す模式平面図である。 実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程例を示す図である。 実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程例を示す図である。 実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程例を示す図である。 本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置等を示す斜視図である。 本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置１０００の全体構成を示す図である。 本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置２００を示す図である。

≪本発明の一態様の概要≫
本発明の一態様に係る酸化防止剤は、有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置に用いられる酸化防止剤であって、真空ポンプとこれに接続された真空チャンバーを備える前記真空装置の、前記真空ポンプにおける前記真空チャンバーと連通する箇所に用いられ、下記一般式（１）

で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む。但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（２）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。

（式（２）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）。
また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、前記有機膜材料は、アルキル鎖を有するホスト分子と、デンドリマー構造を有するドーパント分子と、を含有する。

また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とした場合、前記鎖式構造に含まれる原子の数ｍは、ｎ−６以下である。
また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とし、前記鎖式構造に含まれる原子の数をｍとした場合において、前記ｎと前記ｍの和は９以下である。

また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、前記真空ポンプの駆動部には、潤滑成分を含んでなる潤滑剤が塗布されており、前記酸化防止剤は前記潤滑剤に含有されている。
また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、前記真空ポンプと前記真空チャンバーとは接続部材により接続されているとともに、前記真空ポンプにおける前記接続部材との接合部分には、樹脂材料を含んでなる真空シール材が介挿されており、前記酸化防止剤は前記真空シール材に含有されている。

また、本発明の一態様に係る酸化防止剤の特定の局面では、ジフェニルアミンを含有しない。
本発明の一態様に係る酸化防止剤組成物は、下記一般式（３）

で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む。但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（４）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。

（式（４）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）
本発明の一態様に係る真空装置用酸化防止剤は、下記一般式（５）

で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む。但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（６）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。

（式（６）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、有機発光層材料が形成された基板を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで、前記有機発光層材料を真空状態下に維持する減圧工程を含む、有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記有機発光層材料は、アルキル鎖を有するホスト分子と、デンドリマー構造を有するドーパント分子と、を含有し、前記真空ポンプにおける前記真空チャンバーと連通する箇所には、下記一般式（７）

で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む酸化防止剤が用いられている。但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（８）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。

（式（８）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法の特定の局面では、前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とした場合、前記鎖式構造に含まれる原子の数ｍは、ｎ−６以下である。

また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法の特定の局面では、前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とし、前記鎖式構造に含まれる原子の数をｍとした場合において、前記ｎと前記ｍの和は９以下である。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法の特定の局面では、前記真空ポンプの駆動部には、潤滑成分を含んでなる潤滑剤が塗布されており、前記酸化防止剤は前記潤滑剤に含有されている。

また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法の特定の局面では、前記真空ポンプと前記真空チャンバーとは接続部材により接続されているとともに、前記真空ポンプにおける前記接続部材との接合部分には、樹脂材料を含んでなる真空シール材が介挿されており、前記酸化防止剤は前記真空シール材に含有されている。
また、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法の特定の局面では、前記酸化防止剤にジフェニルアミンが含有されていない。

本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法により製造された有機ＥＬ素子を用いる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置は、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法により製造された有機ＥＬ素子を用いる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置は、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法により製造された有機ＥＬ素子を用いる。

≪実施の態様１≫
［真空装置の構成］
本実施形態では、本発明の一態様に係る酸化防止剤を用いた真空装置について説明する。
図１（ａ）は、本発明の一態様に係る酸化防止剤を用いた真空装置の構成を示す図である。本実施の態様に係る真空装置は、真空チャンバー１、真空ポンプ２、接続部材３、酸化防止剤４を備える。本真空装置は、有機膜材料を真空状態下に維持するために用いられるものである。

＜真空チャンバー１＞
真空チャンバー１は被乾燥物５を収容するものであり、本実施形態における被乾燥物５は有機ＥＬ素子半製品である。真空チャンバー１は、その内部の大きさが例えば、５００［ｍｍ］×５００［ｍｍ］×１５０［ｍｍ］程度である。また、真空チャンバー１は真空ポンプ２による減圧に耐え得るような頑丈な材料で構成されており、このような材料としては、例えば、ステンレス等が挙げられる。

図１（ｂ）は被乾燥物５の模式的な部分拡大図であり、図１（ａ）において破線で示す部分の拡大図となっている。
被乾燥物５は、基板上に有機膜材料としての有機発光層材料が形成されてなる。有機発光層材料は有機発光層を構成する材料と溶媒とを含むインクであり、バンクは有機発光層の形成領域となる開口部を区画するためのものである。真空装置により有機発光層材料を真空状態下に維持することで有機発光層材料が減圧乾燥され、図１（ｃ）に示すように有機発光層が形成される。なお、有機ＥＬ素子の詳細な構造および製造方法については、ここでの説明を省略し、実施の態様２で述べることとする。

＜真空ポンプ２、接続部材３＞
真空ポンプ２は、真空チャンバー１の内部圧力を例えば約１［Ｐａ］以下に減圧するために用いられるものである。真空ポンプ２としては、例えば、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ、ダイアフラムポンプ等の機械式の真空ポンプを用いることができる。これらの中でも、特に、いわゆるポンプ油を使用しないドライポンプを用いることがより望ましい。ドライポンプは、例えば、有機ＥＬ素子や半導体薄膜製造等のように、真空チャンバー内をクリーンに保つ必要がある場合に使用される。

接続部材３は、真空チャンバー１と真空ポンプ２とを接続するものであり、この接続部材３により、真空チャンバー１の内部と真空ポンプ２とが連通される。接続部材３の内径は、例えば、１００［ｍｍ］程度である。
上記の真空ポンプを使用し、真空チャンバー１内を大気圧から減圧した場合、５［ｍｉｎ］程度で真空チャンバー１の内部圧力を１［Ｐａ］以下まで排気することが可能である。なお、この排気速度は、接続部材３の長さ（真空チャンバー１から真空ポンプ２までの距離）や接続部材３の屈曲具合によって変化し得る。

真空ポンプ２は、単一の真空ポンプで構成されていることとしてもよいし、直列接続または並列接続された複数の真空ポンプで構成されることとしてもよい。複数の真空ポンプを用いる場合とは、例えば、大気圧から中真空までの減圧（粗引き）をドライポンプで行い、中真空から高真空、または超高真空までの減圧（主排気）を、メカニカルブースターポンプを用いて行うような場合である。具体的には、まずドライポンプにより大気圧から１００［Ｐａ］程度まで減圧し、その後、メカニカルブースターポンプにより約１［Ｐａ］以下まで減圧する。

真空ポンプ２は真空チャンバー１内の減圧を行うときにのみ動作させても良いが、真空ポンプ２の動作および停止を頻繁に行うと、真空ポンプ２に負担がかかるおそれがある。真空ポンプ２に負担がかかる場合は、真空チャンバー１と真空ポンプ２とを連通させる開放状態と、真空チャンバー１と真空ポンプ２とを連通させない閉鎖状態とを切替可能にするバルブ（電磁弁）を接続部材３に設けることとしてもよい。

バルブを開状態とすることで接続部材３が開放状態となり、真空チャンバー１内の減圧が開始される。また、バルブを閉状態とすることで接続部材３が閉鎖状態となり、真空チャンバー１内の減圧は停止される。なお、バルブは通常、スロー排気用バルブとラフ排気用バルブからなる。真空チャンバー１の内部圧力が高い間はスロー排気用バルブを開状態、スロー排気用バルブ閉状態とする。真空チャンバー１の内部圧力が所定圧力以下になった場合には、スロー排気用バルブを閉状態、ラフ排気用バルブを開状態とする。このように、接続部材３にバルブを設けることで真空ポンプ２を動作状態のままとすることができるので、動作および停止を頻繁に行うことによる負荷が低減される。

＜酸化防止剤４＞
本発明の一態様に係る酸化防止剤４は、真空ポンプ２における真空チャンバー１と連通する箇所に用いられているものである。酸化防止剤４は、具体的には、例えば真空ポンプ２の駆動部に塗布されている潤滑剤や、真空ポンプ２における接続部材３との接合部分に介挿されている真空シール材の含有成分である。酸化防止剤４は、潤滑剤に含まれる潤滑成分（例えば、潤滑油である。）や、真空シール材を構成する樹脂材料の酸化を防止するために用いられている。なお、真空シール材を構成する樹脂材料の概念にはゴムも含まれる。

図２（ａ）は、本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を示す一般式である。本発明の一態様に係る酸化防止剤は、図２（ａ）に示す一般式で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む。すなわち、ジフェニルアミンを主骨格とする化学構造を有する。図２（ｂ）は、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つがとる化学構造を示す一般式である。置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは図２（ｂ）に示す一般式で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。ここでの「その他」は、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち、図２（ｂ）に示す一般式で表される化学構造をとらないものを指す。

図２（ｂ）に示す一般式において、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示しており、当該鎖式構造は、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。以下、Ａの部分を鎖式構造Ａと記載する。
Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有していてもよい。以下、Ｒ¹¹の部分を環構造部分Ｒ¹¹と記載する。環構造部分Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には、各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とする。また、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。以下、図２（ｂ）に示す一般式で表される置換基を、単に「環構造部分を有する置換基」と記載する。

鎖式構造Ａおよび環構造部分Ｒ¹¹について、具体例を挙げて説明する。図２（ｃ），（ｄ）は、図２（ｂ）に示す一般式中における鎖式構造Ａおよび環構造部分Ｒ¹¹の対応関係について説明するための図である。
図２（ｃ）では、図２（ａ）における置換基Ｒ¹〜Ｒ⁷，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素であり、置換基Ｒ⁸がシクロヘキシルメチル基である場合を示している。図２（ｃ）に示すように、シクロヘキサン部分が環構造部分Ｒ¹¹に相当し、環構造部分Ｒ¹¹とジフェニルアミン骨格の芳香環とを連結するメチレン基が鎖式構造Ａに相当する。鎖式構造Ａは原子の数が３以下であると述べたが、「鎖式構造の原子の数」とは、鎖式構造に含まれる原子のうち水素を除く原子の数をいう。図２（ｃ）の例の鎖式構造Ａはメチレン基（−ＣＨ₂−）であるが、この場合の鎖式構造Ａの原子の数は１である。なお、この鎖式構造Ａの原子の数は、図２（ｃ）にも記載している。

図２（ｄ）では、図２（ａ）における置換基Ｒ¹〜Ｒ⁷，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素であり、置換基Ｒ⁸がシクロヘキシル基である場合を示している。図２（ｃ）と同様に、シクロヘキサン部分が環構造部分Ｒ¹¹に相当する。しかしながら、環構造部分Ｒ¹¹とジフェニルアミン骨格の芳香環とは直接結合しているため、図２（ｄ）の場合における鎖式構造Ａの原子の数は０である。本明細書における「原子の数が３以下の鎖式構造」には、図２（ｄ）のように原子の数が０の鎖式構造も含まれるものとする。

酸化防止剤４を上述したような化学構造とすることで、酸化防止剤４が真空ポンプ２から真空チャンバー１内へ飛散した場合であっても、当該酸化防止剤４が有機発光層材料に付着することを抑制することが可能である。図２に示す酸化防止剤４の化学構造は、本発明者が鋭意検討の結果得た知見に基づいて決定されたものである。得た知見の詳細は後の［各種実験と考察］で述べる。

以上説明したように、本実施の態様に係る真空装置によれば、有機発光層膜材料を真空状態下に維持する場合において、少なくとも酸化防止剤４の有機発光層材料への付着を抑制することが可能である。有機発光層材料への酸化防止剤４の付着が防止できることで、結果として、有機発光層の特性劣化を防止することが可能である。
［各種実験と考察］
＜真空装置を用いた乾燥工程の有無による発光特性の違い＞
本発明者は、真空装置を用いた乾燥工程を行うか否かで、有機ＥＬ素子の発光特性に違いが現れるかを検証した。ここで、「真空装置を用いた乾燥工程」は、有機発光層材料が形成された基板を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで、有機発光層材料を真空状態下に維持する減圧工程の１種である。以下、「真空装置を用いた乾燥工程」を単に「減圧工程」と記載する。実験用の有機ＥＬ素子として、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子と、減圧工程を経る有機ＥＬ素子の２種を準備した。

図３は、実験用の有機ＥＬ素子の構造を示す模式断面図である。実験用の有機ＥＬ素子は、図３に示すように、基板１０１上に第１電極としての陽極１０２、正孔注入層１０３、正孔輸送層１０４、有機発光層１０５、電子輸送層１０６、第２電極としての陰極１０７および封止層１０８を順に積層されてなる。減圧工程を経ない有機ＥＬ素子および減圧工程を経る有機ＥＬ素子に構造的な差異はない。

図４は、実験用の有機ＥＬ素子の形成手順を説明するための模式断面図である。
減圧工程を経る有機ＥＬ素子について説明する。まず、図４（ａ）に示すように、基板１０１上に陽極１０２、正孔注入層１０３、正孔輸送層１０４を順に積層するとともに、正孔輸送層１０４の上面に有機発光層材料１０５ａを塗布する。次に、加熱を行って有機発光層材料１０５ａを乾燥させて有機発光層１０５を成膜することで、有機発光層１０５形成後の有機ＥＬ素子半製品を準備する（図４（ｂ））。

続いて、図４（ｃ）に示すように、有機発光層１０５形成後の有機ＥＬ素子半製品を、真空ポンプに接続された真空チャンバー内に載置した。そして、真空ポンプを起動させて真空チャンバー内を真空状態にし、２０［ｍｉｎ］放置した。真空ポンプとしては、メカニカルブースターポンプを用いた。また、本実験に用いた真空ポンプには、本発明の一態様に係る酸化防止剤とは異なる酸化防止剤が用いられている。

図５は、実験に用いたメカニカルブースターポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。本実験においては、図５に示すような排気プロファイルを有する真空ポンプを用いて実験を行った。横軸が真空ポンプによる排気時間を、縦軸が真空チャンバー内の圧力をそれぞれ示している。図５に示すように、メカニカルブースターポンプに接続された真空チャンバー内は約１０［Ｐａ］まで減圧した。

そして、真空チャンバーから有機ＥＬ素子半製品を取り出し、図４（ｄ）に示すように、有機発光層１０５の上に電子輸送層１０６、陰極１０７、封止層１０８を順に積層することにより、減圧工程を経る有機ＥＬ素子が完成する。
減圧工程を経ない有機ＥＬ素子について説明する。まず、図４（ａ），（ｂ）に示すように、減圧工程を経る有機ＥＬ素子と同様に、基板１０１上に陽極１０２、正孔注入層１０３、正孔輸送層１０４および有機発光層１０５を順に積層し、有機発光層１０５形成後の有機ＥＬ素子半製品を準備した。続いて、図４（ｃ）に示す減圧工程を行わずに、有機発光層１０５形成後の有機ＥＬ素子半製品を、グローブボックスに２０［ｍｉｎ］載置した。そして、図４（ｄ）に示すように、有機発光層１０５の上に電子輸送層１０６、陰極１０７、封止層１０８を順に積層することにより、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子が完成する。

減圧工程を経ない有機ＥＬ素子、減圧工程を経る有機ＥＬ素子ともに、陽極１０２、正孔注入層１０３、正孔輸送層１０４、電子輸送層１０６、陰極１０７および封止層１０８には、公知の材料を用いた。有機発光層１０５としてはＦ６−Ｆ８（Ｆ６（ポリジヘキシルフルオレン）とＦ８（ポリジオクチルフルオレン）との共重合体）を用いた。なお、各層の具体的な形成方法は本実験の本質ではないためここでの説明は省略し、実施の態様２で述べることとする。

なお、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子の製造においては、当然のことながら、有機発光層材料を乾燥させるための減圧工程を行うことができない。そこで、有機発光層を構成する材料を溶解させるための溶媒として、減圧工程による乾燥が不要な低沸点溶媒であるキシレンを用いた。ただし、キシレンを溶媒として用いた場合、インクジェット法による塗布を行うことができない。つまり、キシレンはあくまで実験用に用いたに過ぎないものである。そのため、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子の製造においては、有機発光層材料の乾燥は加熱により行った。また、減圧工程を経ないＥＬ素子との比較が行えるよう、減圧工程を経る有機ＥＬ素子についても同様とした。

図６は、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性と、減圧工程を経た有機ＥＬ素子の発光特性を示す図である。図６は、実験用の有機ＥＬ素子を発光させた場合の、発光時間と発光強度の関係を示すグラフであり、横軸は発光時間［ｈｒ］を、縦軸は発光強度をそれぞれ示している。発光強度は、発光開始直後を１としたときの相対値で示している。また、減圧工程を経ない有機ＥＬ素子の発光特性（図６において「減圧工程無」）を実線で、減圧工程を経る有機ＥＬ素子の発光特性（図６において「減圧工程有」）を二点鎖線でそれぞれ示している。

減圧工程を経ない有機ＥＬ素子と比較して、減圧工程を経る有機ＥＬ素子は、時間経過に伴う発光強度低下量が大きいことが見てとれる。換言すると、有機発光層材料塗布後に減圧工程を経ない有機ＥＬ素子よりも、減圧工程を経る有機ＥＬ素子の方が発光強度半減寿命（発光強度が半減するまでに要する時間）が短いことがわかる。
両実験用有機ＥＬ素子の違いは、有機発光層成膜後の基板が置かれる環境のみである。つまり、グローブボックス内に保管するか、真空ポンプに接続された真空チャンバー内に保管するかの違いにより、発光強度半減寿命に大きな差が生じたことになる。以上のことより、本発明者は、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いられている潤滑剤の含有成分、もしくは、真空シール材等の含有成分が、不純物として真空ポンプから真空チャンバーへ飛散するのではないかと考えた。そして、当該不純物が有機発光層の表面近傍に吸着することで、有機発光層に何らかの悪影響を与え、この結果、有機発光層の特性が劣化するのではないかと考えた。

なお、以上の結果は、デンドリマー構造を有するドーパント分子が含まれていない有機発光層１０５を用いた場合のものであるが、デンドリマー構造を有するドーパント分子が含まれており、より不純物が付着し易い有機発光層１０５を用いた場合も、同様の結果が得られた。
以下、機械式の真空ポンプに用いられている潤滑剤および真空シール材等を総称して、単に「潤滑剤等」と記載する。

減圧工程を経る実験用の有機ＥＬ素子における電子輸送層は、真空成膜法に基づき形成されている。この真空成膜工程を経てもなお発光特性に悪影響が生じていることからすると、不純物は真空成膜時の高真空下でも揮発しないような沸点のものであると推定された。そのため、本発明者は、潤滑剤等の含有成分が不純物ではないかと考えたのである。
上述したように、潤滑剤等は酸化防止剤を含んでいる。酸化防止剤は、潤滑成分の酸化または樹脂材料の酸化が原因の所謂スラッジやワニスの発生を抑制するものであり、例えば、連鎖停止剤、過酸化物分解剤、金属不活性化剤等の種類が知られている。この中でも、本発明者は、ジフェニルアミン系化合物等で構成される、潤滑成分の酸化の進行を停止させる連鎖停止剤に注目した。

図７は、ジフェニルアミン系化合物の連鎖停止剤としての機能を説明するための図である。図７（ａ）は、潤滑剤に含まれる潤滑成分または真空シール材に含まれる樹脂材料の酸化反応式を示す図である。まず、式（９）のように、Ｒ−Ｈで示す潤滑成分または樹脂材料が熱や光を受けることにより、ラジカル状態の潤滑成分または樹脂材料Ｒ・と水素ラジカルＨ・が生成され、連鎖反応が開始される。次に式（１０）のように、ラジカル状態の潤滑成分または樹脂材料Ｒ・と酸素分子が反応することで、反応性の高い過酸化物ＲＯＯ・が生成する。さらに、式（１１）のように、過酸化物ＲＯＯ・は潤滑成分または樹脂材料Ｒ−Ｈと反応することで、ラジカル状態の潤滑成分または樹脂材料Ｒ・を新たに生成する。このように、連鎖反応の伝播が進行する。

図７（ｂ）は、ジフェニルアミン系化合物による連鎖停止反応式を示す図である。連鎖停止反応においては、式（１２）のように、まず過酸化物ＲＯＯ・がジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂ＮＨと反応する。ここで、一般にラジカルは不安定である。しかしながら、ジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂ＮＨが水素ラジカルＨ・を失うことで形成されるラジカル状態のジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂Ｎ・は、そのラジカル部分に隣接する芳香環による共鳴安定化が起こるため、比較的安定であると考えられる。そのため、式（１２）のように、潤滑成分または樹脂材料Ｒ−Ｈの酸化により生じる反応性の高い過酸化物ＲＯＯ・へ水素ラジカルを供与して、ラジカル状態のジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂Ｎ・が生成するという反応が進行する。

ラジカル状態のジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂Ｎ・は比較的安定であり、自身が連鎖反応を進行はさせないものの、式（１３）および式（１４）のように、過酸化物ＲＯＯ・と反応する程度の反応性は有する。このように、ラジカル状態のジフェニルアミン系化合物Ｐｈ₂Ｎ・は、過酸化物ＲＯＯ・と反応することでラジカル反応を停止させる性質を有するため、潤滑成分または樹脂材料Ｒ−Ｈの酸化反応の進行を停止させる連鎖停止剤として用いられている。なお、図７に示す各反応は、非特許文献１にも詳細に記載されている。

＜発光強度半減寿命低下のメカニズム＞
図８は、酸化防止剤として用いられるジフェニルアミン系化合物の一例を示す図である。図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に、ジフェニルアミン系化合物の一例である化合物Ａ、化合物Ｂ、化合物Ｃの化学式をそれぞれ示している。図９において、化合物Ａ、化合物Ｂ、化合物Ｃを総じて図８（ｄ）で示す化学式で表すこととし、単に「ＤＰＡ」と記載する。

図９は、ジフェニルアミン系化合物を原因とする、有機ＥＬ素子における発光強度半減寿命低下のメカニズムの一例を説明するための図である。説明の都合上、有機発光層１０５と電子輸送層１０６との界面領域１０９を誇張して示している。
まず、式（１５）に示すように、有機ＥＬ素子駆動中においては、電子輸送層１０６を構成する電子輸送性材料Ｘは、ラジカルアニオン（ポーラロン）状態となることで電子の輸送を行う（図９における「ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘ」）。そのため、このラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘをキャリアと考えることができる。そして、界面領域１０９において、ＤＰＡはラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘに水素ラジカルを供与することで、自身がラジカルアニオン状態となる（図９における「ラジカルアニオン状態のＤＰＡ」）。このような反応が進行する理由として、ラジカルアニオン状態のＤＰＡは、負電荷が２つのベンゼン環において非局在化するため安定に存在し得るからであると考えた。つまり、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘよりも、ラジカルアニオン状態のＤＰＡの方がさらに安定な化学種となり得るからであると考えた。その場合、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘは、ＤＰＡから放出された水素ラジカルと結合するといった反応も進行し得る（図９における「ＸＨ」）。

式（１５）に基づいて説明したように、減圧工程を経ることで発光強度の低下が大きくなる要因の１つとして、キャリアであるラジカルアニオン状態の電子輸送性材料ＸがＤＰＡにより消失することにより、有機発光層１０５に注入される電子が減少することが考えられる。
次に、式（１６）に示すように、界面領域１０９において、ラジカルアニオン状態のＤＰＡは、有機発光層１０５を構成する材料Ｙと反応することも想定される。この反応により、有機発光層１０５を構成する材料Ｙとは異なる生成物Ｚを与える。これは、有機発光層１０５が劣化することに相当する。このように、ＤＰＡと有機発光層１０５を構成する材料Ｙが反応してしまうことも、発光強度の低下の一因であると考えられる。

以上説明したようなメカニズムが想定されることからも、潤滑剤等に含まれる酸化防止剤、特に連鎖停止剤が発光強度半減寿命低下に大きく影響していると考えた。
＜減圧工程を経た有機発光層表面の付着物の分析＞
次に、ガスクロマトグラフ質量分析計（ＧＣ−ＭＳ）を用い、減圧工程を経た有機発光層の表面に付着している物質を分析した。減圧工程を経た有機発光層をヘリウム雰囲気下で昇温加熱し、加熱された有機発光層から放出されるガス（アウトガス）を液体窒素で捕集し、ＧＣ−ＭＳで分析した。ＧＣ−ＭＳ分析は、アジレント・テクノロジー社製の６８９０ＧＣを用い、イオン化はＥＩ法（電子イオン化法）により行った。カラムはアジレント・テクノロジー社製のＤＢ５ｍｓを使用し、４０［℃］から３００［℃］まで昇温した。

図１０は、減圧工程を経た有機発光層表面の付着物の分析結果を示す図である。縦軸は検出強度（トータルイオンカレントであり、検出された分子数に相当する。）、横軸は保持時間［ｍｉｎ］をそれぞれ示しており、図１０では、保持時間１５〜２０［ｍｉｎ］におけるガスクロマトグラフを示している。保持時間１６〜１９［ｍｉｎ］付近に、化合物Ａ、化合物Ｂ、化合物Ｃのピークが検出された。純粋な化合物Ａ、化合物Ｂ、化合物ＣについてもＧＣ−ＭＳ分析を行い、保持時間およびマススペクトルが図１０に示す結果と一致していることを確認した。

ＧＣ−ＭＳ分析の結果より、本発明者は、真空ポンプに用いられている潤滑剤等に酸化防止剤として含まれているジフェニルアミン系化合物が、発光強度半減寿命低下の原因であることを突き止めた。そして、ジフェニルアミン系化合物が次項で説明するメカニズムにより、真空ポンプから真空チャンバーへ飛散するのではないかと考えた。
＜真空ポンプから真空チャンバーへの酸化防止剤飛散のメカニズム＞
図１１は、真空ポンプによる排気時間と真空チャンバー内の圧力との関係を示すグラフである。横軸が排気時間であり、縦軸が真空チャンバー内の圧力である。また、縦軸において、下方にいくほど真空度が高いことを示している。

時刻Ａは、真空ポンプの起動時点に相当する。また、時刻Ｂは、真空チャンバー内の減圧が進行している最中である。時刻Ｃにおいては、真空ポンプの性能限界まで真空チャンバー内が減圧されており、平衡状態に達している。時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃの各々における真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を、図１２を用いて説明する。
図１２は、図１１に示すグラフにおける時刻Ａ、時刻Ｂ、時刻Ｃにおける真空チャンバーと真空ポンプ内の様子を模式的に示す図である。

図１２に示すように、真空チャンバー２６は、排気管２８を介して真空ポンプ２７に接続されている。真空チャンバー２６内の気体は、真空ポンプ２７により、排気管２８、２９を通って外部へ排出される。また、各図において、真空ポンプ２７に用いられている酸化防止剤を符号３０で示している。
図１２（ａ）は真空ポンプ２７の起動時点である。減圧を開始すると、図１２（ｂ）において破線の矢印で示すように、真空チャンバー２６内の気体は、排気管２８から真空ポンプ２７および配管２９を介して外部へ排出される。このように、真空チャンバー２６から排気管２８、真空ポンプ２７および配管２９へと向かう気流が発生する。このため、減圧期間（時刻Ｂ）においては、酸化防止剤３０が真空チャンバー２６へ飛散することはないと考えられる。

しかしながら、時刻Ｃにおいては、真空ポンプ２７の性能限界まで真空チャンバー２６内が減圧されている。そのため、真空チャンバー２６と真空ポンプ２７との間の気流も平衡状態にある。また、真空チャンバー２６および真空ポンプ２７における真空度が高くなることで、酸化防止剤３０の平均自由行程が長くなる。このため、図１２（ｃ）に示すように、酸化防止剤３０の有機発光層材料への付着が起こると考えられる。また、酸化防止剤３０の平均自由行程が長くなると、有機発光層と酸化防止剤３０との衝突確率もより高くなると考えられる。さらに、真空チャンバー２６および真空ポンプ２７における真空度の上昇により、真空チャンバー２６および真空ポンプ２７内の圧力に占める酸化防止剤３０の蒸気圧の割合が上昇するが、このことによっても酸化防止剤３０の飛散が促進される。

＜有機発光層を構成する材料の混合比による化合物Ａ，Ｂ，Ｃの付着挙動の違い＞
まず、本検証に用いた有機発光層の構成について説明する。本検証に用いた有機発光層を構成する材料は、電荷輸送を担うホスト分子と、発光を担うドーパント分子を含むものとした。
図１３は、ホスト分子の構造を示す図である。本検証では、ホスト分子には上述したＦ６−Ｆ８を用いた。図１３（ａ）にＦ６の化学構造を、図１３（ｂ）にＦ８の化学構造をそれぞれ示している。Ｆ６およびＦ８の化学構造の特徴は、それぞれ、炭素数６のアルキル鎖６₆、炭素数８のアルキル鎖６₈を有している点である。

図１４は、ドーパント分子の構造を示す図である。本検証においてドーパント分子として用いたのはデンドリマーである。図１４（ａ）にはジェネレーション２のデンドリマーのイメージ図を、図１４（ｂ）にはジェネレーション３のデンドリマーのイメージ図をそれぞれ図示している。なお、図１４（ａ），（ｂ）に示すイメージ図は、特許文献３に開示されているものである。

有機発光層を構成する材料として用いられるデンドリマーの一例を図１４（ｃ），（ｄ）に示している。これらのイリジウムデンドリマーは、非特許文献２に開示されているものである。図１４（ｃ）に示すものはジェネレーション１のイリジウムデンドリマーであり、図１４（ｄ）に示すものはジェネレーション２のイリジウムデンドリマーである。図１４（ｅ）は、図１４（ｃ），（ｄ）における置換基Ｒの化学構造を示している。これらドーパント分子として用いたデンドリマーの化学構造は、間隙７を有する点が特徴である。なお、図１４（ａ），（ｂ）を比較すると分かるように、ジェネレーションが高くなるほどデンドロンの数が増えるため、間隙７の入口の幅は狭まる。そのため、ジェネレーションが高くなるほど、酸化防止剤の分子は取り込まれにくくなる。

本発明者は、実際に有機発光層を構成する材料の混合比、すなわち、ホスト分子とドーパント分子の混合比による付着性の違いについて検討する実験を行った。以下、その手順を説明する。
まず、図１３，図１４で説明した材料を用い、有機発光層を構成する材料におけるホスト分子とドーパント分子の比率を変えた有機発光層材料を準備した。次に、準備した各有機発光層材料を、乾燥後の膜厚が等しくなるように基板上に塗布した。続いて、有機発光層材料を真空状態下に維持する減圧工程を行うことにより、有機発光層を形成した。この減圧工程により、真空装置における真空ポンプに用いられている酸化防止剤が有機発光層材料に付着する。なお、言うまでもなく、本検証で用いた真空装置における真空ポンプには、本発明の一態様に係る酸化防止剤は用いられておらず、化合物Ａ，Ｂ，Ｃ（図８）を含む酸化防止剤が用いられている。

そして、減圧工程後の有機発光層をその上面積が等しくなるように切り出し、切り出した各有機発光層をヘリウム雰囲気下で昇温加熱した。次に、加熱された有機発光層からのアウトガスを液体窒素で捕集し、ＧＣ−ＭＳで分析した。使用機器および測定条件等は上記のＧＣ−ＭＳ分析と同様である。得られたスペクトルにおける化合物Ａ，Ｂ，Ｃのピーク強度、標準物質としてのトルエンのピーク強度、化合物Ａ，Ｂ，Ｃの分子量およびトルエンの分子量から、切り出した各有機発光層に含まれる化合物Ａ，Ｂ，Ｃの物質量を算出し、グラフ化した（図１５）。

図１５は、有機発光層を構成する材料におけるホスト分子とドーパント分子の比率を変えた場合における、化合物Ａ，Ｂ，Ｃの付着挙動の違いを示すグラフである。
横軸は有機発光層を構成する材料（ホスト分子とドーパント分子の総量に相当する。）に対するドーパント分子の比率を示している。横軸の右側へ行くほどドーパント分子の比率が高く、横軸の左側へ行くほどホスト分子の比率が高い。縦軸は切り出した有機発光層に付着している化合物Ａ，Ｂ，Ｃの物質量［ｐｍｏｌ／ｃｍ²］を示している。切り出した有機発光層に含まれる化合物Ａ，Ｂ，Ｃの物質量に関し、化合物Ａを菱形のプロットで、化合物Ｂを四角のプロットで、化合物Ｃを三角のプロットで示している。なお、本願では付着している化合物の物質量を単位面積あたりの量で評価しているが、実験に用いた有機発光層の膜厚は一定であるため、単位体積あたりの量で評価した場合も同様の結果が得られる。

図１５から分かるように、化合物Ａ，Ｂと化合物Ｃとで付着挙動に違いが見られた。すなわち、化合物Ａ，Ｂはドーパント分子の比率が高くなるほど付着量が増えるのに対し、化合物Ｃはホスト分子の比率が高くなるほど付着量が増える傾向が見られた。つまり、化合物Ａ，Ｂはドーパント分子には付着し易いが、ホスト分子には付着しにくいことが分かる。一方、化合物Ｃはホスト分子には付着し易いが、ドーパント分子には付着しにくい。

図８に示しているように、化合物Ａ，Ｂはジフェニルアミン骨格の芳香環に対して、嵩高い置換基や長い置換基が置換していない。つまり、化合物Ａ，Ｂは、大きさが比較的小さな分子であると言える。そのため、ドーパント分子として用いられているデンドリマーが有する間隙７（図７）に入り込み易くなる結果、化合物Ａ，Ｂはドーパント分子には付着し易い傾向が見られたのではないかと考えられる。また、このような長い置換基が置換していない分子は、ホスト分子が有する長いアルキル鎖と絡まりにくいため、ホスト分子に付着しにくかったものと考えられる。

一方、化合物Ｃはジフェニルアミン骨格の芳香環に対して、主鎖の長い置換基が置換されている。そのため、ホスト分子の長いアルキル鎖と絡まり易くなる結果、ホスト分子に付着しやすい傾向が見られたものと考えられる。また、化合物Ｃが有する置換基は側鎖を有しており、嵩高いものとなっている。そのため、化合物Ｃはドーパント分子の間隙７に入り込みにくい結果、ドーパント分子には付着しにくいのではないかと考えられる。

図１５に示した付着挙動の結果より、本発明者は、真空ポンプに用いる酸化防止剤の化学構造を、嵩高い置換基を有し、かつ、主鎖の長い置換基を有しないものとすることで、有機発光層材料への付着を抑制することができるという発明を考案するに至った。具体的には、酸化防止剤の化学構造を、５員環以上８員環以下の環構造を含む環構造部分（図２における環構造部分Ｒ¹¹に相当する。）を有し、かつ、原子の数が３を超える鎖式構造や主鎖の原子の数が３を超える置換基等を有しないものとすることで、有機発光層材料への当該酸化防止剤の付着を抑制することが可能であるとの考えに至った。この「原子の数を３以下とする」根拠については後述する。

以下、本発明者が得た知見を基に考案され、有機発光層材料への付着を抑制することが可能な酸化防止剤の化学構造について、図２，図１６〜図２２を参照しながら説明する。
図１６〜図２２は、本発明の一態様に係る酸化防止剤の化学構造を説明するための図である。なお、図１６〜図２１の各図において、「実施の態様」の枠内に示されているものは本発明の一態様に係る酸化防止剤であり、「比較例」の枠内に示されているものは本発明の一態様に係る酸化防止剤ではない。図２２に示すものは、全て本発明の一態様に係るものである。なお、図１６〜図２２に示す各芳香族第２級アミン誘導体はいずれも、Ｇｒｉｇｎａｒｄ反応等の公知の合成方法を用いて合成することが可能である。

図１６は、嵩高い置換基としての環構造部分Ｒ¹¹の化学構造例を示す図である。図１６では、図２（ａ）に示す一般式における置換基Ｒ¹〜Ｒ⁷，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素であり、置換基Ｒ⁸に環構造部分Ｒ¹¹が含まれる化学構造を示している。また、図１６で示した酸化防止剤における鎖式構造Ａ（図２（ｂ）参照）は、いずれも原子の数が０である。
ドーパント分子としてのデンドリマーの間隙７（図１４）への酸化防止剤の取り込みを抑制する観点から、環構造部分Ｒ¹¹が有する環構造の大きさは、５員環以上８員環以下が望ましい。図１６（ａ）では、環構造部分Ｒ¹¹が６員環である例を示している。環構造を５員環未満の３員環とした場合（図１６（ａ）’）、３員環の環構造はそれほど嵩高いものではないため、ドーパント分子としてのデンドリマーの間隙７（図１４）に取り込まれてしまうおそれがあり、望ましくない。また、３員環は非常に歪みが大きく、構造的に不安定である点でも望ましいとは言えない。また、環構造を４員環とした場合も、３員環とした場合と同様であると考えられる。一方、図１６（ｂ）’に示すように、環構造を８員環よりも大きい１０員環とした場合、ホスト分子（図１３）が有する長いアルキル鎖６₆，６₈と絡まってしまうおそれがあるため望ましくない。

環構造部分Ｒ¹¹は飽和炭化水素である必要ななく、図１６（ｂ），（ｃ）に示すように、芳香環であってもよい。図１６（ｃ）における環構造部分Ｒ¹¹はナフタレン構造であるが、ナフタレン構造に含まれる１つの芳香環が環構造部分Ｒ¹¹に相当するのではなく、ナフタレン全体が環構造部分Ｒ¹¹に相当する。また、図１６（ｃ）における環構造部分Ｒ¹¹は、その右側に括弧書きで図示しているように環構造を２個有しているが、いずれの環構造も６員環であるため、５員環以上８員環以下の範囲に収まっている。

環構造部分Ｒ¹¹は、図１６（ｄ）に示すようにアダマンタン構造であってもよい。図１６（ｄ）に係る環構造部分Ｒ¹¹は、その右側に括弧書きで図示しているように環構造を４個有しており、各々の環構造は６員環である。図１６（ｃ），（ｄ）のように、環構造部分Ｒ¹¹の有する環構造が連続的に連なっていることとしてもよい。
図１７は、鎖式構造Ａの化学構造例を示す図である。図１７では、図２（ａ）に示す一般式における置換基Ｒ¹〜Ｒ⁷，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素であり、置換基Ｒ⁸が環構造部分を有する置換基である場合の化学構造を示している。

図１７（ａ）には鎖式構造Ａの原子の数が１のものを、図１７（ｂ）には鎖式構造Ａの原子の数が３のものを図示している。このように、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とすることで、ホスト分子が有するアルキル鎖６₆，６₈（図１３）への酸化防止剤への絡まりを抑制することが可能である。一方、図１７（ａ）’に示すように鎖式構造Ａの原子の数が４と大きくなると、ホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まるおそれが生じるので望ましくない。

ここで、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とする根拠について説明する。図１５で説明したように、化合物Ｂはホスト分子には付着しにくいことが分かっている。図８に示したように、化合物Ｂにおけるジフェニルアミン骨格にはｔ−ブチル基が置換されている。すなわち、ジフェニルアミン骨格が有する置換基がｔ−ブチル基程度の長さであれば、ホスト分子が有するアルキル鎖には絡まりにくいと言える。図８に示しているように、このｔ−ブチル基は主鎖の原子の数が３以下の置換基である。ｔ−ブチル基自体は、主鎖の原子の数が３の置換基である。

「主鎖の原子の数が３以下の置換基」とは、当該置換基に含まれる最長の原子鎖を構成している原子のうち、水素を除く原子の数が３以下である置換基をいう。例えば、ｎ−ブチル基（−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₃）における主鎖の原子の数は４である。また、イソプロピル基（−ＣＨ（ＣＨ₃）₂）やｔ−ブチル基（−Ｃ（ＣＨ₃）₃、化合物Ｂに置換されているものである。）における主鎖の原子の数は３である。

このように、主鎖の原子の数が３以下の置換基であれば、ホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まりにくいと言える。主鎖の原子の数が３以下の置換基における当該主鎖の部分は、原子の数が３以下の原子鎖と換言することができる。したがって、原子の数が３以下の原子鎖に相当するところの「原子の数が３以下の鎖式構造Ａ」も同様に、ホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まりにくいと言うことができる。

また、鎖式構造Ａは直鎖である必要はなく、図１７（ｃ）のように、鎖式構造Ａが置換基Ｂを有していることとしてもよい。以下、鎖式構造Ａにおける置換基Ｂを、単に「置換基Ｂ」と記載する。ただし、図１７（ｃ）に示しているように、置換基Ｂにおける主鎖の原子の数は３以下であることが望ましく、図１７（ｃ）’のように主鎖の原子の数は３を超えるものは望ましくない。置換基Ｂにおける主鎖の原子の数を３以下とする理由は、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とする根拠と同様である。

主鎖の原子の数を３以下とすることで、置換基Ｂがホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まることも抑制することは可能である。さらに、主鎖の原子の数を３以下であるという要件を満たしていれば、図１７（ｄ）に示すように、鎖式構造Ａに置換基Ｂが複数個置換されていることとしてもよい。
図１８は、環構造部分Ｒ¹¹に複数の環構造が含まれている場合における、各環構造を結ぶ結合鎖Ｃの化学構造例を示す図である。図１８においても図１７と同様に、図２（ａ）における置換基Ｒ¹〜Ｒ⁷，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素であり、置換基Ｒ⁸が環構造部分を有する置換基である場合の化学構造を示している。環構造部分Ｒ¹¹に複数の環構造が含まれるようにすることで、酸化防止剤の化学構造をより嵩高いものとすることができるため、ドーパント分子としてのデンドリマーへの取り込みをより抑制することが可能である。

図１６（ｃ），（ｄ）で説明したように、環構造部分Ｒ¹¹には複数の環構造が含まれることとしてもよい。図１８（ａ） には、環構造部分Ｒ¹¹に２個の環構造が含まれ、原子の数が１である結合鎖Ｃで各環構造が結ばれている場合を示している。ここで、「原子の数が３以下の結合鎖」とは、当該結合鎖における環構造部分側の末端原子から、当該結合鎖におけるジフェニルアミン骨格側の末端原子を結ぶ原子鎖を構成している原子（両末端の原子を含む。）のうち、水素を除く原子の数が３以下である結合鎖をいう。

図１８（ａ）’のように、原子の数が３を超える結合鎖の場合には、当該結合鎖がホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈に絡まるおそれが生じる。そのため、環構造部分Ｒ¹¹に複数の環構造が含まれる場合には、図１８（ａ）のように、各環構造を結ぶ結合鎖Ｃにおける原子の数は３以下とすることが望ましい。このようにすることで、結合鎖Ｃがホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈に絡まることを抑制することができる。結合鎖Ｃにおける原子の数を３以下とする理由も、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とする根拠と同様である。

なお、図１６（ｃ），（ｄ）で説明した化学構造においても、環構造部分Ｒ¹¹に複数の環構造が含まれている。図１６（ｃ），（ｄ）の場合のように、各環構造が連続的に連なっている場合には、各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は０である。本明細書における「原子の数が３以下の結合鎖」には、図１６（ｃ），（ｄ）のように原子の数が０である結合鎖も含まれるものとする。

また、図１８（ｂ）のように、１つの環構造を起点に複数の環構造が結合されている、すなわち、結合鎖Ｃを複数有することとしてもよい。ただし、各結合鎖Ｃにおいて、原子の数を３以下とする。
図１６〜図１８では、ジフェニルアミン骨格の芳香環が有する置換基が１個である例を示したが、本発明の一態様に係る酸化防止剤は、これに限定されない。図１９は、ジフェニルアミン骨格の芳香環に２以上の置換基が置換されている場合の化学構造例を示す図である。図１９では、図２（ａ）における置換基Ｒ⁸が環構造部分を有する置換基である場合の化学構造を示している。

図１９（ａ）には、環構造部分を有する置換基とは異なる置換基が置換基Ｒ³に置換されている場合の化学構造を示している。上述したように、本発明の一態様に係る酸化防止剤では、環構造部分を有する置換基とは異なる置換基は、主鎖の原子の数が３以下の置換基である。以下、「図２（ｂ）の一般式で表される置換基とは異なる置換基」を、単に「環構造を有さない置換基」と記載する。図１９（ａ）における置換基Ｒ³に置換されている、環構造を有さない置換基は、具体的にはｎ−プロピル基である。ジフェニルアミン骨格の芳香環に環構造を有さない置換基が置換されている場合も、当該環構造を有さない置換基がホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まるのを抑制する必要がある。そのため、環構造を有さない置換基は、主鎖の原子の数が３以下であることが望ましい。この理由も、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とする根拠と同様である。図１９（ａ）’のように、主鎖の原子の数が３を超えるような環構造を有さない置換基が置換されている場合には、ホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈と絡まるおそれがあるため望ましくない。

また、主鎖の原子の数が３以下であるという条件を満たしているならば、図１９（ｂ）に示すように、ジフェニルアミン骨格における一の芳香環に、複数の環構造を有さない置換基が置換されていることとしてもよい。図１９（ｂ）の例ではさらに、置換基Ｒ⁵がエチル基となっている。
図１９（ａ），（ｂ）においては、ジフェニルアミン骨格の芳香環のうち、環構造部分を有する置換基が置換されていない芳香環に、環構造を有さない置換基が置換されている例を示したが、これに限定されるものではない。図１９（ｃ）に示すように、環構造部分を有する置換基が置換されている芳香環に、環構造を有さない置換基が置換されていることとしてもよい。図１９（ｃ）では、置換基Ｒ⁶，Ｒ¹⁰がメチル基である例を図示している。

図１６〜図１９においては、ジフェニルアミン骨格の芳香環に、環構造部分を有する置換基が１個置換されている化学構造例について説明したが、本発明の一態様に係る酸化防止剤はこれに限定されない。図２０は、ジフェニルアミン骨格の芳香環に、環構造部分を有する置換基が複数個置換されている場合の化学構造例を示している。図２０（ａ）では、置換基Ｒ³，Ｒ⁸が環構造部分を有する置換基である場合を示している。このような化学構造とすることで、酸化防止剤の化学構造をより嵩高いものとすることができる。この結果、ドーパント分子としてのデンドリマーの間隙７により一層取り込まれにくくすることができるので、有機発光層材料への付着をより抑制することが可能である。また、分子量を大きくすることにより、蒸気圧自体の低減も見込めるというメリットもある。

ただし、図２０（ａ）’に示すように、各置換基における環構造部分Ｒ¹¹が、原子の数が３を超える原子鎖で結ばれるような化学構造は望ましくない。しかしながら、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち、環構造部分を有する置換基であるものが近接しており、これらの置換基における環構造部分Ｒ¹¹が、原子の数が３以下の原子鎖で結ばれているような場合は、本発明の一態様に含まれるものとする。

図２１は、環構造部分Ｒ¹¹に含まれる環構造が置換基Ｄを有する場合の化学構造例を示している。以下、環構造部分Ｒ¹¹に含まれる環構造が有する置換基Ｄを、単に「置換基Ｄ」と記載する。
図２１（ａ）においては、環構造における置換基Ｄがｎ−プロピル基である場合を図示している。このような場合であっても、酸化防止剤の化学構造をより嵩高いものとすることができるので、有機発光層材料への付着をより抑制することが可能となる。しかし、図２１（ａ）’に示すように、主鎖の原子の数が３を超える置換基が環構造に置換されている場合には、ホスト分子のアルキル鎖６₆，６₈に絡まるおそれが生じる。そのため、置換基Ｄにおける主鎖の原子の数は３以下であることが望ましい。置換基Ｄにおける主鎖の原子の数を３以下とする理由は、鎖式構造Ａの原子の数を３以下とする根拠と同様である。

また、図２１（ｂ）に示すように、環構造に複数の置換基Ｄが置換されていることとしてもよい。さらに、置換基Ｄは直鎖構造である必要はなく、図２１（ｃ）に示すように分岐を有するような構造であってもよい。
図１６〜図２１においては、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰が炭化水素または水素である場合について例示したが、本発明の一態様に係る酸化防止剤はこれに限定されない。図２２は、環構造部分Ｒ¹¹、鎖式構造Ａ、置換基Ｂ、結合鎖Ｃまたは置換基Ｄに、炭素と水素以外の原子が含まれる場合の化学構造例を示している。

図２２（ａ）〜（ｆ）に示すように、環構造部分Ｒ¹¹、鎖式構造Ａ、置換基Ｂ、結合鎖Ｃまたは置換基Ｄに炭素と水素以外の原子が含まれていることとしてもよい。すなわち、「原子の数が３以下の鎖式構造」や「主鎖の原子の数が３以下の置換基」等での「原子の数」における「原子」には、炭素原子以外のものも含まれる。このような化学構造であっても、上記の環構造部分Ｒ¹¹等が炭化水素で構成されている場合と原子鎖の長さが同じであれば、有機発光層材料への付着挙動にさほど差は見られないと考えられる。したがって、環構造部分Ｒ¹¹等が炭化水素で構成されている場合と同様に、有機発光層材料への付着を抑制することが可能である。

［その他］
（１）本発明の一態様に係る酸化防止剤においては、当該酸化防止剤中に複数種の酸化防止剤組成物が含まれていることとしてもよい。すなわち、「図２（ａ）に示す一般式で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む酸化防止剤」とは、酸化防止剤組成物として、少なくとも図２（ａ）に示す一般式で表される芳香族第２級アミン誘導体を含んでいる酸化防止剤を指し、当該酸化防止剤中に図２（ａ）の一般式で示す化学構造とは異なる酸化防止剤組成物を含んでいてもよい。本発明の一態様に係る酸化防止剤としての必須の要件ではないが、酸化防止剤に複数種の酸化防止剤組成物を含む場合、複数の酸化防止剤組成物の全てについての化学構造が図２で説明した条件を満たしたものであればより望ましい。

但し、図８で図示した化合物Ａ，Ｂは、それらのジフェニルアミン骨格の芳香環が嵩高い置換基を有していないため、ドーパント分子としてのデンドリマーの隙間７に取り込まれ易い。また、化合物Ｃはそのジフェニルアミン骨格の芳香環に、主鎖の原子が３を超える置換基があるため、ホスト分子が有するアルキル鎖と絡まり易い。したがって、本発明の一態様に係る酸化防止剤における酸化防止剤組成物としては、化合物Ａ，Ｂ，Ｃは含まれないものとする。

（２）本発明の一態様に係る酸化防止剤は、図１３に示した化学構造を有するホスト分子を含む有機発光層材料に対してのみ、付着抑制効果が得られるのではない。すなわち、ホスト分子が有するアルキル鎖の炭素数が６および８である例を示したが、これに限定されるものではなく、炭素数がおおよそ６〜９であれば付着抑制効果が得られる。ホスト分子が有するアルキル鎖の炭素数が６〜９である場合、つまり、ホスト分子が有するアルキル鎖の炭素数をｎとした場合に、ｎが６≦ｎ≦９の範囲にある場合には、鎖式構造Ａに含まれる原子の数ｍはｎ−６以下とすることが望ましい。もしくは、アルキル鎖の炭素数ｎと鎖式構造Ａに含まれる原子の数ｍの和は９以下とすることが望ましい。このようにすることで、ホスト分子のアルキル鎖と酸化防止剤に含まれる原子鎖との絡まりを防ぐことができる結果、有機発光層材料への酸化防止剤の付着を抑制することが可能である。

なお、アルキル鎖の炭素数ｎが６である場合、鎖式構造Ａに含まれる原子の数ｍが０となる場合があるが、これは図１６で示したような化学構造の場合に相当する。上述したように鎖式構造Ａに含まれる原子の数ｍが０である場合も、本発明の一態様に含まれるものとする。
（３）置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち、環構造部分を有する置換基に置換されているものは少なくとも１つ以上であればよく、個数は特に限定されるものではない。置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰の全てが環構造部分を有する置換基である場合、環構造を有さない置換基、すなわち主鎖の原子の数が３以下の置換基を有しないことになる。このような場合も、本発明の一態様に係る酸化防止剤に含まれることとする。すなわち、「置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは図２（ｂ）の一般式で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする」は、置換基Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは図２（ｂ）の一般式で表されるものであり、図２（ｂ）の一般式で表されないものが存在する場合には、原子の数が３以下の置換基とする、の意味である。

（４）図１７で示しているように、「鎖式構造Ａ」は、ジフェニルアミン骨格の芳香環と環構造部分Ｒ¹¹を結ぶ原子鎖を指しており、鎖式構造Ａに置換されている置換基Ｂは鎖式構造Ａに含まれないものとする。また、「結合鎖Ｃ」も同様に、環構造部分Ｒ¹¹に含まれる環構造同士を結ぶ原子鎖を指すものとし、結合鎖Ｃに置換基が置換されている場合であっても、当該置換基は結合鎖Ｃに含まれないものとする。一方、置換基Ｂおよび置換基Ｄについては、主鎖と側鎖を有するような分岐構造であっても、主鎖と側鎖からなる置換基全体を指すものとする。

［まとめ］
以上説明したように、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いる酸化防止剤として、５員環以上８員環以下の環構造を有し、かつ、原子の数が３を超える鎖式構造や主鎖の原子の数が３を超える置換基および原子の数が３を超える結合鎖を有さないような化学構造を有する酸化防止剤を採用することで、当該酸化防止剤の有機発光層材料への付着を抑制することが可能である。したがって、有機発光層材料を真空状態下に維持する場合において、有機発光層材料への不純物の付着を可能な限り抑制することが可能である。

≪実施の態様２≫
本実施の態様においては、実施の態様１に係る真空装置を用いた有機ＥＬ素子の製造方法、当該製造方法により製造された有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬ表示パネル、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ発光装置について説明する。
［有機ＥＬ表示パネルの構成］
図２３は、有機ＥＬ表示パネル１０の構成を示す部分断面図である。有機ＥＬ表示パネル１０は、同図上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、その主な構成として、陽極１２、有機発光層１６、電子輸送層１７、陰極１８を備える。有機ＥＬ表示パネル１０は、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）の何れかの発光色に対応する有機発光層１６を有する有機ＥＬ素子を１つのサブピクセル１００とし、サブピクセル１００がマトリクス状に配設されている。

＜基板１１、陽極１２、ＩＴＯ層１３＞
基板１１は有機ＥＬ表示パネル１０の基材となる部分であり、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、またはアルミナ等の絶縁性材料で形成することができる。

図示していないが、基板１１の表面には有機ＥＬ素子を駆動するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が形成されており、その上方に陽極１２が形成されている。陽極１２は、例えば、ＡＣＬ（アルミニウム、コバルト、ランタンの合金）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等で形成することができる。

ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）層１３は、陽極１２と正孔注入層１４の間に介在し、各層間の接合性を良好にする機能を有する。
＜正孔注入層１４＞
正孔注入層１４は、例えば、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、イリジウム（Ｉｒ）等の酸化物、あるいは、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）等の導電性ポリマー材料からなる層である。上記のうち、酸化金属からなる正孔注入層１４は、正孔を安定的に、または正孔の生成を補助して、有機発光層１６に対し正孔を注入する機能を有する。

＜バンク１５＞
正孔注入層１４の表面には、有機発光層１６の形成領域となる開口部１５ａを区画するためのバンク１５が設けられている。バンク１５は一定の台形断面を持つように形成されており、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等）からなる。

図２４は、有機ＥＬ表示パネル１０におけるバンク１５を示す模式平面図である。本実施の態様に係る有機ＥＬ表示パネル１０では、一例としてラインバンク（ライン状のバンク）１５を採用している。具体的には、バンク１５は、各々がＹ軸方向に延伸形成され、Ｘ軸方向において隣接する各サブピクセル１００間を区画している。そして、サブピクセル１００は、バンク１５により区画された領域ごとに、発光色が異なるように形成されており、例えば、Ｒのサブピクセル１００（Ｒ），Ｇのサブピクセル１００（Ｇ），Ｂのサブピクセル１００（Ｂ）の３つのサブピクセルの組み合わせで１画素（１ピクセル）を構成する。

なお、図２３に示す部分断面図は、図２４におけるＡ−Ａ’断面図に相当する。
＜有機発光層１６＞
図２３に戻り、バンク１５の開口部１５ａにより区画された正孔注入層１４の表面には、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかの発光色に対応する、有機膜としての有機発光層１６が形成されている。有機発光層１６は、キャリアの再結合による発光を行う部位であり、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかの色に対応する有機材料を含むように構成されている。

有機発光層１６として用いることが可能な材料としては、例えば、実施の態様１における実験で用いたＦ６−Ｆ８のほか、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）、ポリフルオレン、特許公開公報（特開平５−１６３４８８号公報）に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。

本実施の態様に係る有機発光層１６は、後述するように、実施の態様１に係る真空装置を用いた減圧工程に基づいて形成されている。そのため、有機発光層１６とその上に形成されている電子輸送層１７との間において、少なくとも真空ポンプに用いられている酸化防止剤の存在量を抑制することができる。したがって、後述する製造方法を経ない場合と比較して、酸化防止剤を原因とする有機発光層１６の劣化が少なく、設定値に近いより特性が得られるようになっている。これとともに、酸化防止剤による、有機発光層１６の上に形成されている電子輸送層１７へ与える影響も低減することができる。その結果、本実施の態様に係る有機発光層１６は発光特性が良好である。

＜電子輸送層１７＞
電子輸送層１７は、陰極１８から注入された電子を有機発光層１６へ輸送する機能を有する。電子輸送層１７は電子輸送性を有する材料（電子輸送性材料）で構成されており、このような材料としては、例えば、ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）等が挙げられる。

＜陰極１８＞
トップエミッション型有機ＥＬ表示パネルを実現するため、本実施の態様において電子輸送層１７の上に形成された陰極１８は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の光透過性を有する導電性酸化物材料で形成されている。
＜封止層１９＞
陰極１８の上に形成された封止層１９は、有機ＥＬ表示パネル１０内に浸入した水分又は酸素から有機発光層１６および陰極１８を保護するために設けられている。有機ＥＬ表示パネル１０はトップエミッション型であるため、封止層１９には、例えば、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の光透過性材料が採用されている。

＜その他＞
特に図示していないが、封止層１９の上方には、基板１１と対向する封止基板が設けられる。さらに、封止層１９と封止基板とでできる空間に、絶縁性材料を充填することとしてもよい。このようにすることで、有機ＥＬ表示パネル１０内に水分又は酸素が浸入するのを防ぐことができる。有機ＥＬ表示パネル１０はトップエミッション型であるため、絶縁性材料としては、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ等の光透過性材料を選択する必要がある。

また、正孔注入層１４と有機発光層１６との間に、正孔注入層１４から有機発光層１６への正孔の輸送を促進させる機能を有する正孔輸送層を、さらに形成することとしてもよい。正孔輸送層として用いることが可能な材料としては、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体が挙げられる（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）。

さらに、電子輸送層１７と陰極１８の間に、陰極１８から電子輸送層１７への電子注入を促進させる機能を有する電子注入層を形成することとしてもよい。電子注入層として用いることが可能な材料としては、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム等が挙げられる。
［有機ＥＬ表示パネルの製造方法］
図２５〜図２７は、実施の態様２に係る有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程例を示す図である。これらの図を参照しながら、有機ＥＬ表示パネル１０の製造方法について説明する。

＜基板準備工程、真空装置準備工程＞
はじめに、有機発光層材料が形成された基板を準備する基板準備工程を行う。図２５（ａ）〜図２６（ａ）は基板準備工程に相当する。
まず、図２５（ａ）に示すように、基板１１をスパッタ成膜装置の成膜容器内に載置する。そして成膜容器内に所定のスパッタガスを導入し、反応性スパッタ法、真空蒸着法等に基づき陽極１２を成膜する。

引き続き上記の成膜容器内で、図２５（ｂ）に示すようにスパッタ法に基づき陽極１２上にＩＴＯ層１３を形成する。次に、ＩＴＯ層１３の各表面を含む基板１１の表面に対し、スパッタリング法等を用い金属膜を製膜する。その後、形成された金属膜を酸化することにより、正孔注入層１４が形成される。
次に、図２５（ｃ）に示すようにバンク１５を形成する。バンク材料として、例えば感光性のレジスト材料、好ましくはフッ素系材料を含有するフォトレジスト材料を用意する。このバンク材料を正孔注入層１４上に一様に塗布し、プリベークした後、開口部１５ａを形成できるようなパターンを有するマスクを重ねる。そして、マスクの上から感光させた後、未硬化の余分なバンク材料を現像液で洗い出す。最後に純水で洗浄することでバンク１５が完成する。

なお、バンク１５を形成する工程の後であって有機発光層１６を形成する工程の前に、必要に応じて正孔輸送層を形成する。正孔輸送層は、例えば、この後に述べる有機発光層１６と同様に、塗布成膜法により形成することができる。
そして、図２６（ａ）に示すように、バンク１５の開口部１５ａ（図２５（ｃ））に対し、インクジェット法に基づき有機発光層材料１６ａを滴下する。以上で、有機発光層材料１６ａが形成された基板１１を準備できた。なお、有機発光層材料１６ａの滴下方法はインクジェット法に限定されず、例えば、グラビア印刷法、ディスペンサー法、ノズルコート法、凹版印刷、凸版印刷等であってもよい。

ここで、「有機発光層材料が形成された基板」には、基板の上に直接的に有機発光層材料が塗布されている基板だけでなく、基板の上に間接的に有機発光層材料が塗布されている基板も含むこととする。すなわち、基板と塗布された有機発光層材料の間に他の層を含んでいることとしてもよい。本実施の態様の基板準備工程において準備した基板は、基板１１と有機発光層材料１６ａと間に、陽極１２、ＩＴＯ層１３および正孔注入層１４を含んでいる。

次に、真空ポンプと、これに接続された真空チャンバーとを備え、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に本発明の一態様に係る酸化防止剤が用いられている真空装置を準備する真空装置準備工程を行う。具体的には、実施の態様１に係る真空装置（図１）を準備する。なお、ここでは基板準備工程を行った後に真空装置準備工程を行うこととしたが、先に真空装置準備工程を行い、この後に基板準備工程を行うこととしてもよいし、並行してこれらの工程を行うこととしてもよい。

＜乾燥工程＞
減圧工程としての乾燥工程（図２６（ｂ））では、実施の態様１に係る真空装置を用いて、有機発光層材料１６ａを乾燥させる。具体的には、有機発光層材料１６ａが形成された基板１１を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで、有機発光層材料１６ａを真空状態下に維持する。

この乾燥工程により、基板１１上方に形成されている有機発光層材料１６ａを乾燥させると、有機発光層１６が形成される（図２６（ｂ））。このとき、本実施の態様においては実施の態様１に係る真空装置を用いているため、有機発光層１６の表面には少なくとも真空ポンプ２から飛散した酸化防止剤の付着量は抑制される。
なお、有機発光層１６については、その表面に酸化防止剤が付着したとしても、通電が行われない限りは有機発光層１６に悪影響は非常に小さいと考えられる。この理由として、有機発光層１６の表面近傍では、単に酸化防止剤が物理的に吸着しているだけで、有機発光層１６を構成する材料と酸化防止剤との反応は起こっていないと考えられること等が挙げられる。

＜電子輸送層形成工程、陰極形成工程、その他＞
乾燥工程後、図２６（ｃ）に示すように、有機発光層１６の上に真空成膜法に基づき電子輸送層１７を形成する。具体的には、例えば真空蒸着法やスパッタ法等の真空成膜法に基づき、有機発光層１６の上面に電子輸送層１７を構成する材料を成膜することにより、電子輸送層１７を形成する。なお、電子輸送層形成工程での減圧処理においても、実施の態様１に係る真空装置を用いることしてもよい。

また、電子輸送層１７を形成する工程の後であって陰極１８を形成する工程の前に、必要に応じて電子注入層を形成する。電子注入層は、例えば、真空蒸着法やスパッタ法等の真空成膜法に基づき、電子注入性を有する材料を成膜することにより形成可能である。
次に、陰極形成工程を行う（図２７（ａ））。当該工程では、減圧工程を経た有機発光層材料１６ａである有機発光層１６の上方に、真空蒸着法、スパッタ法等の真空成膜法基づき、ＩＴＯ、ＩＺＯ等を成膜することにより陰極１８を形成する。

ここで、「減圧工程を経た有機発光層材料の上方に陰極を形成する」には、減圧工程を経た有機発光層材料である有機発光層の上に直接的に陰極を形成する場合だけでなく、有機発光層の上に間接的に陰極を形成する場合も含むこととする。すなわち、減圧工程後から陰極形成工程の間に別の層を形成する工程を含んでいてもよい。減圧工程後から陰極形成工程の間に別の層を形成する工程を含む場合には、陰極形成後の有機ＥＬ素子半製品において、有機発光層（減圧工程を経た有機発光層材料）と陰極との間に他の層を含むことになる。本実施の態様における有機ＥＬ素子半製品においては、有機発光層１６と陰極１８との間に電子輸送層１７を含んでいる。そのため、電子輸送層１７の上面に陰極１８を形成することとしている。

陰極形成工程を終えたら、図２７（ｂ）に示すように、蒸着法、スパッタ法等に基づき、陰極１８の上に封止層１９を形成する。そして、封止層１９の上方に封止基板を対向配置させ、必要に応じて封止層１９と封止基板とで形成される空間に絶縁性材料を充填する。
以上の工程を経ることで、有機ＥＬ表示パネル１０が完成する。

［有機ＥＬ表示装置］
図２８は、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置等を示す斜視図である。図２８に示すように、有機ＥＬ表示装置１０００は有機ＥＬディスプレイであり、上述した有機ＥＬ表示パネル１０を備える。
図２９は、本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置１０００の全体構成を示す図である。図２９に示すように、有機ＥＬ表示装置１０００は、有機ＥＬ表示パネル１０と、これに接続された駆動制御部２０とを備える。駆動制御部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とから構成されている。なお、実際の有機ＥＬ表示装置１０００では、有機ＥＬ表示パネル１０に対する駆動制御部２０の配置や接続関係については、これに限られない。

有機ＥＬ表示装置１０００が備える有機ＥＬ表示パネル１０を構成する有機ＥＬ素子においては、上述した減圧工程を経て形成された有機発光層を備えている。したがって、有機発光層の発光特性が良好であるため、有機ＥＬ表示装置１０００は画質に優れる。
［有機ＥＬ発光装置］
図３０は、本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置２００を示す図であって、図３０（ａ）は縦断面図、図３０（ｂ）は横断面図である。図３０に示すように、有機ＥＬ発光装置２００は、本発明の一態様に係る製造方法により形成された複数の有機ＥＬ素子２１０と、有機ＥＬ素子２１０が上面に実装されたベース２２０と、ベース２２０にそれら有機ＥＬ素子２１０を挟むようにして取り付けられた一対の反射部材２３０と、から構成されている。各有機ＥＬ素子２１０は、ベース２２０上に形成された導電パターン（不図示）に電気的に接続されており、前記導電パターンにより供給された駆動電力によって発光する。各有機ＥＬ素子２１０から出射された光の一部は、反射部材２３０によって配光が制御される。

有機ＥＬ発光装置２００が備える有機ＥＬ素子２１０においては、上述した減圧工程を経て形成された有機発光層を備えている。したがって、有機ＥＬ発光装置２００は発光特性が良好である。
［変形例・その他］
以上、実施の態様１および２について説明したが、本発明は上記の実施の態様に限られない。例えば、以下のような変形例等が考えられる。

（１）図１に示す真空装置は単なる一例であり、この例に限定されるものではない。例えば、図１に示した構成以外の構成を含むこととしてもよい。
（２）上記の実施の態様において、有機発光層については、その表面に酸化防止剤が付着したままで放置されたとしても、通電が行われない限りは有機発光層に悪影響は小さいと考えられると述べた。しかしながら、このことはあくまで有機発光層に関してのことである。有機発光層以外の他の有機膜においては、通電が行われなくても、酸化防止剤が付着しただけで有機膜が劣化するということはあり得る。このような有機膜の場合、有機膜と酸化防止剤とが反応する前に酸化防止剤の除去を行うことは困難である。しかしながら、本発明を適用した場合には、酸化防止剤が有機膜に付着することを抑制することができ、非常に有用である。

（３）実施の態様２において説明した有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、単なる一例である。例えば、真空成膜法を用いて成膜すると説明した層を、塗布成膜法によって形成することとしてもよいし、逆に、塗布成膜法を用いて成膜すると説明した層を、真空成膜法によって形成することとしてもよい。
（４）実施の態様２において、ＩＴＯ層、正孔注入層、正孔輸送層、バンクおよび封止層は必須の構成要件ではない。これらの構成を有しない有機ＥＬ素子に対しても、本発明を適用することが可能である。逆に、他の構成要素、例えば、正孔阻止層等をさらに含むこととしてもよい。これに対応して、準備工程で準備する基板においても、必ずしもＩＴＯ層、正孔注入層、正孔輸送層、バンクが形成されている必要はない。さらに、封止層を有しない有機ＥＬ素子を形成する場合には勿論、封止層を形成する工程を省略できる。

（５）実施の態様２においては、有機膜が有機発光層であるとして説明したが、本発明はこれに限定されない。有機ＥＬ素子を構成する各層のうち、塗布成膜法により形成される層は全て本発明における有機膜に相当する。塗布成膜法により形成される各層について上記の減圧工程を行うことで、有機ＥＬ素子の半減期寿命を長くし、発光特性を向上させることが可能である。

（６）上記の実施の態様においては、有機ＥＬ素子における有機発光層を主に取り上げて説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、有機ＴＦＴや太陽電池等、塗布成膜法により成膜される有機膜にも適用することも可能である。すなわち、本発明は、有機材料を含んでなる有機膜を形成する場合に広く適用することが可能である。以下、有機材料を含んでなる有機膜を形成する場合について、簡単に説明する。

まず、真空ポンプと、これに接続された真空チャンバーを備え、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に本発明の一態様に係る酸化防止剤が用いられている真空装置を準備する真空装置準備工程を行う。次に、有機膜材料を乾燥させるために、有機膜材料を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで、有機膜材料を真空状態下に維持する減圧工程を行う。

このようにすることで実施の態様１および２で説明したものと同様の効果を、有機膜全般においても得ることができる。
（７）実施の態様２においては、有機発光層材料を乾燥させるための乾燥工程が減圧工程であるとして説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、有機発光層完成後から次の工程を行うまでの間、有機ＥＬ素子半製品を真空状態で保管する場合には、この保管工程も減圧工程に相当し、酸化防止剤による汚染が起こり得る。すなわち、「有機発光層材料」には、有機発光層材料が完全に乾燥するまでの状態のものほか、乾燥が終了し有機発光層が完成した状態のものも含まれる。有機膜材料についても同様である。つまり、保管工程における減圧工程においても、実施の態様１に係る真空装置を用いることが可能である。

なお、乾燥工程における真空チャンバー内には、「有機発光層材料が完全に乾燥するまでの状態のもの」が収容される。一方、保管工程における真空チャンバー内には、「乾燥が終了し有機発光層が完成した状態のもの」が収容される。
さらに、乾燥工程および保管工程に限られず、有機発光層材料形成後から有機発光層の上面に位置する層を形成する工程の前に行われる工程であって、有機発光層材料が真空状態に置かれる工程が減圧工程となる。

（８）有機発光層材料の乾燥は、減圧工程のみで完了させることとよいし、焼成のみで完了させることとしてもよいし、減圧工程に加えて焼成を行うことで完了させることとしてもよい。焼成のみで完了させる場合は、有機発光層形成後から次工程を行うまでの保管工程が減圧工程に相当する。
（９）図９に示した発光強度半減寿命低下のメカニズムは、電子輸送層と陰極の間に、電子注入層が介挿されていない場合に想定されるメカニズムである。ここでは、電子注入層が介挿されている場合のメカニズムについて簡単に述べる。

電子注入層が存在しない場合には、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘに水素ラジカルを供与するのは、ジフェニルアミン系化合物であった。一方、電子注入層が存在しない場合に、ラジカルアニオン状態の電子輸送性材料Ｘに水素ラジカルを供与するのは、電子注入層から電子を供与された有機発光層を構成する材料Ｙ、もしくは、製造工程中において有機ＥＬ素子に混入した微量の水分や残留溶媒等であると考えられる。水素ラジカルの供与の結果、電子注入層から電子を供与された有機発光層を構成する材料Ｙ、水分および残留溶媒等がラジカルアニオン状態になると考えられる。

（１０）図９に示した発光強度半減寿命低下のメカニズムは単なる一例である。これらの図に示したものとは異なるメカニズムで発光強度半減寿命低下が起こっている可能性もある。
（１１）上記の実施の態様においては、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いられている酸化防止剤として、潤滑剤および真空シール材に含有されている酸化防止剤を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されない。潤滑剤および真空シール材以外のものであっても、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いらるものであれば、逆拡散は起こり得る。すなわち、本発明は、潤滑剤および真空シール材に限らず、真空ポンプにおける真空チャンバーと連通する箇所に用いられる酸化防止剤に広く適用できるものである。

（１２）本発明における「有機発光層材料が形成された基板を準備する」には、減圧工程を行う事業者自身が、基板の上方に有機発光層材料を形成するような場合のほか、例えば、減圧工程を行う事業者が、基板の上方に有機発光層材料が形成された基板を他の事業者から購入するような場合も含まれる。
（１３）実施の態様２においては、正孔注入層が基板の上方を覆うように全面に形成されている例を示したが、本発明はこれに限定されない。正孔注入層がＩＴＯ層上のみに形成されていることとしてもよい。また、ＩＴＯ層の側面および上面のみを覆うように形成されていることとしてもよい。

（１４）陽極を銀（Ａｇ）系材料で形成する場合には、上記の実施の態様のようにＩＴＯ層をその上に形成することが望ましい。陽極をアルミニウム系材料で形成する場合には、ＩＴＯ層を無くして陽極を単層構造にすることも可能である。
（１５）上記の実施の態様においては、複数の有機ＥＬ素子をサブピクセルとして基板上に集積する構成の有機ＥＬ表示パネルについて説明したが、この例に限定されず、有機ＥＬ素子を単一で用いることも可能である。有機ＥＬ素子を単一で用いるものとしては、例えば、照明装置等が挙げられる。

（１６）上記の実施の態様においては、有機ＥＬ表示パネルをＲ，Ｇ，Ｂを発光色とするフルカラー表示のパネルであるとしたが、本発明はこれに限定されない。有機ＥＬ表示パネルを、Ｒ、Ｇ、Ｂ、白色およびその他単色の有機ＥＬ素子が複数配列されてなる表示パネルとしてもよい。さらに、いずれか１色のみの有機ＥＬ素子を有する単色表示の有機ＥＬ表示パネルとしてもよい。

（１７）上記の実施の態様では、バンク材料として、有機材料が用いられていたが、無機材料も用いることができる。この場合、バンク材料層の形成は、有機材料を用いる場合と同様、例えば塗布成膜法等により行うことができる。さらに、上記の有機ＥＬ表示パネルでは、複数のライン状のバンクを並設し、有機発光層をストライプ状に区画するラインバンク方式を採用しているが、本発明はこれに限られない。例えば、バンクを井桁状（格子状）に形成し、バンクによって各サブピクセルの周囲を囲繞する、いわゆるピクセルバンク方式であってもよい。

（１８）上記の実施の態様においては、トップエミッション型有機ＥＬ表示パネルの製造方法を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されない。基板１１（図１６）側を表示面とするいわゆるボトムエミッション型有機ＥＬ表示パネルの製造方法においても、本発明を適用することが可能である。さらに、陽極の材料を陰極と同じく透明導電性材料とすることで、陽極側および陰極側の両方から光を取り出す両面発光方式の有機ＥＬ表示パネルの製造方法にも適用することが可能である。

（１９）上記の実施の態様においては、第１電極が陽極、第２電極が陰極である有機ＥＬ素子について説明したが、本発明はこれに限定されない。第１電極が陰極、第２電極が陽極である有機ＥＬ素子であってもよい。
（２０）上記の実施の態様で使用している、材料、数値等は好ましい例を例示しているだけであり、この態様に限定されることはない。また、本発明の技術的思想の範囲を逸脱しない範囲で、適宜変更は可能である。さらに、各図面における部材の縮尺は実際のものとは異なる。なお、数値範囲を示す際に用いる符号「〜」は、その両端の数値を含む。

本発明は、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種ディスプレイ、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等に用いられる有機ＥＬ素子の製造や、各種薄膜形成工程、エッチング工程等に好適に利用可能である。

１、２６ 真空チャンバー
２、２７ 真空ポンプ
３ 接続部材
４、３０ 酸化防止剤
５ 被乾燥物
６₆、６₈ アルキル鎖
７ 間隙
１０ 有機ＥＬ表示パネル
１１、１０１ 基板
１２、１０２ 陽極
１３ ＩＴＯ層
１４、１０３ 正孔注入層
１５ バンク
１５ａ 開口部
１６、１０５ 有機発光層
１６ａ、１０５ａ 有機発光層材料
１７、１０６ 電子輸送層
１８、１０７ 陰極
１９、１０８ 封止層
２０ 駆動制御部
２１〜２４ 駆動回路
２５ 制御回路
２８、２９ 排気管
１００ サブピクセル
１０４ 正孔輸送層
１０９ 界面領域
２００ 有機ＥＬ発光装置
２１０ 有機ＥＬ素子
２２０ ベース
２３０ 反射部材
１０００ 有機ＥＬ表示装置

Claims (13)

1. 有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置において、接続部材により真空ポンプに接続された真空チャンバーを備える前記真空装置の、前記真空ポンプにおける前記接続部材との接合部分に介挿される真空シール材であって、
   樹脂材料を含んでなり、
   下記一般式（１）
   

   

   で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む、
   真空シール材。
   但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（２）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。
   

   

   （式（２）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）
2. 前記有機膜材料は、アルキル鎖を有するホスト分子と、デンドリマー構造を有するドーパント分子と、を含有する
   請求項１に記載の真空シール材。
3. 前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とした場合、前記鎖式構造に含まれる原子の数ｍは、ｎ−６以下である、
   請求項２に記載の真空シール材。
4. 前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とし、前記鎖式構造に含まれる原子の数をｍとした場合において、前記ｎと前記ｍの和は９以下である、
   請求項２に記載の真空シール材。
5. ジフェニルアミンを含有しない、
   請求項１に記載の真空シール材。
6. 有機膜材料を真空状態下に維持するための真空装置において、接続部材により真空ポンプに接続された真空チャンバーを備える前記真空装置の、前記真空ポンプにおける駆動部に塗布される潤滑剤であって、
   潤滑成分を含み、
   下記一般式（３）
   

   

   で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む、
   潤滑剤。
   但し、Ｒ ¹ 〜Ｒ ¹⁰ のうち少なくとも１つは下記一般式（４）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。
   

   

   （式（４）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ ¹¹ は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ ¹¹ が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）
7. ジフェニルアミンを含有しない、
   請求項６に記載の潤滑剤。
8. 有機発光層材料が形成された基板を真空ポンプにより減圧された真空チャンバー内に載置することで、前記有機発光層材料を真空状態下に維持する減圧工程を含む、有機ＥＬ素子の製造方法であって、
   前記有機発光層材料は、アルキル鎖を有するホスト分子と、デンドリマー構造を有するドーパント分子と、を含有し、
   前記真空ポンプにおける前記真空チャンバーと連通する箇所には、
   下記一般式（７）
   

   

   で表される芳香族第２級アミン誘導体を含む酸化防止剤が用いられている、
   有機ＥＬ素子の製造方法。
   但し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つは下記一般式（８）で表され、その他は主鎖の原子の数が３以下の置換基とする。
   

   

   （式（８）中、Ａは原子の数が３以下の鎖式構造を示し、主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。Ｒ¹¹は５員環以上８員環以下の環構造を有し、Ｒ¹¹が複数の環構造を有する場合には各環構造を結ぶ結合鎖における原子の数は３以下とし、各環構造は主鎖の原子の数が３以下の置換基を有していてもよい。）
9. 前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とした場合、前記鎖式構造に含まれる原子の数ｍは、ｎ−６以下である、
   請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
10. 前記アルキル鎖の炭素数をｎ（但し、６≦ｎ≦９）とし、前記鎖式構造に含まれる原子の数をｍとした場合において、前記ｎと前記ｍの和は９以下である、
    請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
11. 前記真空ポンプの駆動部には、潤滑成分を含んでなる潤滑剤が塗布されており、
    前記酸化防止剤は前記潤滑剤に含有されている、
    請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
12. 前記真空ポンプと前記真空チャンバーとは接続部材により接続されているとともに、前記真空ポンプにおける前記接続部材との接合部分には、樹脂材料を含んでなる真空シール材が介挿されており、
    前記酸化防止剤は前記真空シール材に含有されている、
    請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
13. 前記酸化防止剤にジフェニルアミンが含有されていない、
    請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。

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