JP2014006443A - 反射防止膜付基材の製造方法および光電気セル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とからなる反射防止膜付基材の製造方法であって、下記の工程(a)〜(e)からなる。(a)基材上に、塩基性窒素化合物を1〜1000ppm含む、屈折率が1.50〜2.40の範囲にある高屈折率金属酸化物粒子の分散液を塗布し、(b)塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で分散媒を除去し、(c)低屈折率層形成成分分散液を塗布し、(d)分散媒を除去し、ついで、(e)120〜700℃で加熱処理する。
【選択図】なし
Description
[1]基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とからなる反射防止膜付基材の製造方法であって、下記の工程(a)〜(e)からなることを特徴とする反射防止膜付基材の製造方法。
(a)基材上に、塩基性窒素化合物を1〜1000ppm含む、屈折率が1.50〜2.40の範囲にある高屈折率金属酸化物粒子の分散液を塗布し、
(b)塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で分散媒を除去し、
(c)低屈折率層形成成分分散液を塗布し、
(d)分散媒を除去し、ついで、(e)120〜700℃で加熱処理する。
[2]前記低屈折率層形成成分がシリカ前駆体または、シリカ前駆体およびシリカゾルである[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[3]前記シリカ前駆体が有機ケイ素化合物の部分加水分解物、加水分解物、加水分解縮重合物、ポリシラザン、ポリシラン、酸性珪酸液から撰ばれる少なくとも1種である[2]の反射防止膜付基材の製造方法。
[4]前記低屈折率層形成成分分散液の濃度が、固形分として0.5〜10重量%の範囲にある[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[5]前記塩基性窒素化合物の沸点が40〜250℃の範囲にある[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[6]前記金属酸化物微粒子がTiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、SnO2、Sb2O5、In2O3、Nb2O5から撰ばれる1種以上の金属酸化物、これらの混合物、複合酸化物からなる[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[7]前記金属酸化物粒子の平均粒子径が5〜100nmの範囲にある[6]の反射防止膜付基材の製造方法。
[8]前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液中の金属酸化物微粒子の濃度が固形分として0.5〜20重量%の範囲にある[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[9]前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液がさらにマトリックス形成成分を含み、マトリックス形成成分の濃度が固形分として0.1〜4重量%の範囲にある[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
る[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[10]前記基材が表面に凹凸を有し、表面粗さ(RaA)が30nm〜1μmの範囲にある[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[11]前記基材がガラス基材である[1]の反射防止膜付基材の製造方法。
[12]前記製造方法によって得られてなり、基材と、高屈折率層とが積層されてなる反射防止膜付基材。
[13]前記高屈折率層の平均厚みが50〜200nmの範囲にある[12]の反射防止膜付基材。
[14]前記低屈折率層の平均厚みが30〜200nmの範囲にある[12]の反射防止膜付基材。
[15]反射防止膜付基材の鉛筆硬度が7H以上である[12]の反射防止膜付基材。
[16]前記高屈折率層の表面粗さ(RaB)が30nm〜1μmの範囲にある[12]の反射防止膜付基材。
[17]前記低屈折率層の表面粗さ(RaC)が30nm以下である[12]の反射防止膜付基材。
[18]前記低屈折率層の表面粗さ(RaC)が30nm〜1μmの範囲にある[12]の反射防止膜付基材。
[19]前記反射防止膜付基材を前面に備えた光電気セル。
本発明は、下記の工程(a)〜(e)からなることを特徴とする。
(a)高屈折金属酸化物粒子分散液の塗布工程
(b)分散液の乾燥工程
(c)低屈折率層形成成分分散液の塗布工程
(d)溶媒の除去、(e)加熱工程
基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂、PET、TAC等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等を用いることができるが、なかでもガラス基材は硬度に優れた反射防止膜付基材が得られるので好ましい。
この範囲の凹凸を有すると、防眩性が高く、映り込みも抑制される。さらに、光電気セルに用いた場合は、反射を抑制して光透過率を向上させ、光利用率の向上による光電変換効率向上の効果が高い。
表面粗さ(RaA)が概ね100nm以下の場合はAFMで,測定し、100nmを超えるとレーザー顕微鏡によって測定する。
光学用途で屈折率が前記範囲の下限未満の汎用ガラス基材は得ることが困難であり、基材の屈折率が高すぎると、基材と基材上に設ける高屈折率層との屈折率差が小さく、透過率向上効果が充分得られない場合がある。
・工程(a)
前記基材上に、高屈折率金属酸化物粒子と、塩基性窒素化合物を1〜1,000ppmとを含む分散液を塗布する。
金属酸化物粒子の屈折率が小さいと、基材の屈折率によっても異なるが、基材との屈折率差が小さく、透過率の向上効果が不十分となる場合がある。金属酸化物粒子の屈折率が高すぎても、金属酸化物粒子による散乱が起こり、透過率の向上効果が不十分となる場合がある。
金属酸化物粒子としてはTiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、SnO2、Sb2O5、In2O3、Nb2O5等の金属酸化物粒子、これらの混合物粒子、複合酸化物粒子が挙げられる。
金属酸化物粒子の平均粒子径が小さいものは、容易に凝集し、分散液の安定性が不十分となり、このような金属酸化物粒子の分散液を用いて形成される高屈折層は緻密化が不十分となり、最終的に得られる反射防止膜の硬度、耐擦傷性が不十分となる場合がある。金属酸化物粒子の平均粒子径が大きすぎると、ミー散乱が起こるようになり、光透過率が不十分となり、光電気セルに用いた場合に光電変換効率の向上効果が不十分となる場合がある。
金属酸化物粒子分散液中の金属酸化物粒子の濃度は固形分として0.5〜20重量%、さらには1〜10重量%の範囲にあることが好ましい。金属酸化物粒子の濃度が固形分として前記範囲にない場合、後述する平均膜厚の高屈折率層の形成が困難となる場合がある。
これらの塩基性窒素化合物を用いると、後述する工程(d)で乾燥する際に、塩基性窒素化合物が、高屈折率層から脱離し、上層に塗布された低屈折率層形成用分散液の低屈折率層形成成分の緻密化を促進し、ついで、工程(e)で加熱処理することにより、硬度、耐擦傷性等に優れた反射防止膜を形成することができる。
金属酸化物粒子分散液中の塩基性窒素化合物が少ないと、該化合物の効果が低く、前記した工程(d)における低屈折率層の緻密化が不十分となり、最終的に得られる反射防止膜の硬度、耐擦傷性の向上効果が充分得られない場合がある。金属酸化物粒子分散液中の塩基性窒素化合物が多すぎても、金属酸化物粒子分散液中の粒子に影響するためか分散液が不安定化し、最終的に得られる反射防止膜の硬度、耐擦傷性が不十分となる場合がある。
マトリックス形成成分としては、後述する低屈折率層形成成分と同様のものを用いることができ、具体的にはシリカ前駆体であることが好ましい。
マトリックスを含むと緻密な高屈折率層を形成できるとともに、低屈折率層や基材との密着性が向上する。
・工程(b)
ついで、塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で分散媒を除去し、塗膜を乾燥させる。具体的には、50〜120℃、好ましくは60〜100℃(ただし溶媒の沸点以上)で乾燥する。
なお、光電気セルに使用される場合、基材上に形成された高屈折率層の表面粗さ(RaB)が30nm〜1μm、さらには50nm〜0.8μmの範囲にあることが望ましい。高屈折率層の表面粗さ(RaB)が30nm未満の場合は、充分な光透過率の向上が得られない場合がある。
高屈折率層の平均厚みは50〜200nm、さらには80〜120nmの範囲にあることが好ましい。
・工程(c)
次に、前記高屈折率層の上に低屈折率層形成成分分散液を塗布して、低屈折率層を形成する。
Rn−SiX4-n (1)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:0〜3の整数)
なかでも、n=0の4官能の有機ケイ素化合物が好ましく、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン等の加水分解物、加水分解重縮合物を好適に用いることができる。
上記式[2]でR1、R2およびR3がすべて水素原子であり、1分子中にケイ素原子が55〜65重量%、窒素原子が20〜30重量%、水素原子が10〜15重量%であるような量で存在している無機ポリシラザンが特に好ましい。このようなポリシラザンを用いると、低屈折率層中にカーボンなどの不純分が残存せず、緻密でな低屈折率層を形成することができる。
これらのポリシラザンのポリスチレンに換算した数平均分子量は500〜10000、好ましくは1000〜4000であることが望ましい。数平均分子量が500未満の場合は低誘電率シリカ系被膜を形成する場合に、後述する工程(b)あるいは工程(c)で低分子量のポリシラザンが揮発したり、シリカ系被膜が大きく収縮する場合がある。また、10000を越える場合は、塗布液の流動性が低下することから塗布性が低下し、平坦性、均一な膜厚の低誘電率のシリカ系被膜が得られない場合がある。
R4Si(X1)3 ・・・(3)
(式(3)中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を表し、X1はハロゲン原子を表す。)
R5Si(X2)3 ・・・(4)
(式(4)中、R5は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、X2はハロゲン原子を表す。
(式(5)中、R6は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R7は置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表し、X3はハロゲン原子を表す。)
ポリシランの製造方法は、メチルフェニルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン及びフェニルトリクロロシラン等を、金属ナトリウム存在下に縮重合させる方法(特開2007−145879号公報)などの公知の方法に従って製造することができる。
シリカ粒子とシリカ前駆体は混合使用することもできる。混合使用する場合、形成される低屈折率層中のシリカ粒子の含有量がSiO2として0.1〜40重量%、さらには0.5〜30重量%の範囲にあることが好ましい。シリカ粒子の含有量がこの範囲にあると、より緻密で硬度、耐擦傷性等に優れた低屈折率層を形成することができる。
低屈折率層形成成分分散液の濃度は固形分として0.1〜10重量%、さらには0.5〜5重量%の範囲にあることが好ましい。
・工程(d)および(e)
ついで(d)分散媒を除去し、ついで、(e)120〜700℃、好ましくは150〜500℃で加熱処理する。
乾燥時間は、乾燥温度によっても異なるが、この場合も概ね20分以下、好ましくは30秒〜10分間である。
加熱処理温度が低いと、高屈折率層および低屈折率層の硬化が不十分となり、最終的に得られる反射防止膜の硬度、耐擦傷性が不十分となる場合がある。なお、前記範囲を超えて加熱しても、基材の種類によっては変形、変質等する場合がある。
たとえば、表面粗さ(RaC)を30nm以下、さらには10nm以下としてもよい。この範囲のものでは平滑性が高く、光透過率が高いものの、硬度、耐擦傷性が若干低下することもある。
反射防止膜の硬度(鉛筆硬度)が6H以下の場合は、電子デバイス、太陽電池として長期に使用した際に傷が入り、光透過率が不十分となる場合がある。このため、太陽電池に使用した場合は、光電変換効率が徐々に低下する場合がある。
[反射防止膜付基材]
本発明の反射防止膜付基材は、前記製造方法によって得られてなり、前記基材と、高屈折率層とが、積層されてなる。
また、低屈折率層では、表面粗さ(RaC)を30nm以下、さらには10nm以下としてもよい。この範囲のものでは平滑性が高く、耐擦傷性は良好であるが、防眩性がやや劣ることもある。
本発明に係る光電気セルは、前記反射防止膜付基材を前面備えたことを特徴としている。
電解質層には、従来公知の溶媒を用いることができる。具体的には水、アルコール類、オリゴエーテル類、プロピオンカーボネート等のカーボネート類、燐酸エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、N-ビニルピロリドン、スルホラン66の硫黄化合物、炭酸エチレン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)の調製
酸化チタンコロイドメタノール分散液(日揮触媒化成(株)製:オプトレイク1120Z、平均粒子径12nm、TiO2濃度20.5重量%、分散媒:メタノール、TiO2粒子屈折率2.30)100gに正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度20.5重量%の表面処理酸化チタン粒子メタノール分散液を調製した。
ソルミックスA−11(日本アルコール販売(株)製)72.5gに水10.0gと濃度61重量%の硝酸0.1gを添加し、ついで、25℃で10分撹拌した後、正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)17.4gを添加し、30℃で30分間撹拌して固形分濃度5.0重量%の正珪酸エチル加水分解物分散液100gを調製した。正珪酸エチル加水分解物のポリエチレン換算分子量は1000であった。
ガラス基板(浜新(株)製:FL硝子、厚さ:3mm、屈折率:1.51)をサンドブラスト処理し、表面粗さ(RaA)が500nmのガラス基板(1)を作成した。
1)鉛筆硬度の測定
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
2)耐擦傷性の測定
#0000スチールウールを用い、荷重2kg/cm2で10回摺動し、膜の表面を目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表1に示す。
筋条の傷が認められない :◎
筋条に傷が僅かに認められる:○
筋条に傷が多数認められる :△
面が全体的に削られている :×
反射防止膜付基材(1)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(1-1)を作成した。
5gの水素化チタンを1Lの純水に懸濁し、濃度5%過酸化水素液400gを30分かけて添加し、ついで80℃に加熱して溶解してペルオキソチタン酸の溶液を調製した。これに濃アンモニア水を添加してpH9に調整し、オートクレーブに入れ、250℃で5時間、飽和蒸気圧下で水熱処理を行ってチタニアコロイド粒子(A)を調製した。X線回折により結晶性の高いアナターゼ型酸化チタンであった。平均粒子径は表40nmであった。
次に、上記で得られたチタニアコロイド粒子(A)を濃度10%まで濃縮し、これに前記ペルオキソチタン酸溶液を混合し、この混合物中のチタンをTiO2に換算したときの重量の30重量%となるように、膜形成助剤であるヒドロキシプロピルセルロースを添加して半導体膜形成用塗布液を調製した。
次いで、電極付反射防止膜付基材(1)の電極面上に半導体膜形成用塗布液を塗布し、自然乾燥し、引き続き低圧水銀ランプを用いて6000mJ/cm2 の紫外線を照射してペルオキソチタン酸を分解(加水分解・重縮合)させ、半導体膜を硬化させた。さらに、300℃で30分間加熱してヒドロキシプロピルセルロースの分解およびアニーリングを行って酸化チタン半導体膜(A)を形成した。
得られた酸化チタン半導体膜(A)の膜厚は20μm、窒素吸着法によって求めた細孔容積は0.60ml/g、平均細孔径は22nmであった。
分光増感色素としてシス-(SCN- )-ビス(2,2'-ビピリジル-4,4'-ジカルボキシレート)ルテニウム(II)で表されるルテニウム錯体の濃度3×10-4 モル/リットルのエタノール溶液を調製した。この分光増感色素溶液を、rpm100スピナーを用いて、酸化チタン半導体膜(A)上へ塗布して乾燥した。この塗布および乾燥工程を5回行った。得られた酸化チタン半導体膜の分光増感色素の吸着量は150μg/cm2であった。このとき、酸化チタン膜(A)の比表面積1cm2あたりの吸着量として示す。なお、塗布乾燥後の半導体膜の重量増分を吸着量とした。
性能評価(1)(初期性能評価)
光電気セル(1)は、ソーラーシュミレーターで100W/m2の強度の光を照射して、Voc(開回路状態の電圧)、Joc(回路を短絡したときに流れる電流の密度)、FF(曲線因子)およびη(変換効率)を測定し結果を表に示した。
耐擦傷性を測定した反射防止膜付基材(1)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(1-2)を作成し、これを用いた以外は同様にして光電気セル(1-2)を作製し、同様に性能を評価し、結果を表に示す。
ガラス基板(2)の作成
表面粗さ形成用塗布液(1)の調製
変性アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11:エタノール85.5重量%、イソプロピルアルコール9.8重量%、メタノール4.7重量%)72.5gに水10.0gと濃度61重量%の硝酸0.1gを添加し、ついで、25℃で10分撹拌した後、正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)17.4gを添加し、30℃で30分間撹拌して固形分濃度5.0重量%の正珪酸エチル加水分解物分散液
100gを調製した。正珪酸エチル加水分解物のポリエチレン換算分子量は1000であった。
ついで、実施例1と同様にして調製した高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(2)にバーコーター法(#5)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した。このとき、高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(2)について、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(2)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(2)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
ガラス基板(3)の作成
表面粗さ形成用塗布液(2)の調製
シリカ微粒子分散液(1)(日揮触媒化成(株)製:CATALOID SS−300;平均粒子径300nm、SiO2濃度18.00重量%、分散媒:水)1000gに純水を333g添加して固形分濃度を20重量%に調整し、ついで、陽イオン交換樹脂(三菱化学(株)製:ダイヤイオンSK1B)336gを用い、80℃で3時間イオン交換して洗浄を行い、固形分濃度20重量%のシリカ微粒子分散液を得た。
シリカ微粒子メタノール分散液100gに正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)1.88gを混合し、ついで、超純水を3.1g添加し、50℃で6時間攪拌して固形分濃度20.5重量%の表面処理シリカ微粒子メタノール分散液を調製した。
実施例1と同様にして調製した高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(3)にバーコーター法(#5)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した。このとき、高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(3)について、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(3)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(3)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(2)の調製
実施例1において、塩基性窒素化合物としてトリエチルアミンが塗布液中に5ppmとなるように0.05gを添加した以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(2)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(2)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(4)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(4)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(4)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(3)の調製
実施例1において、塩基性窒素化合物としてトリエチルアミンが塗布液中に200ppmとなるように2gを添加した以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(3)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(3)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(5)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(5)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(5)を作成した。
得られた光電気セル(5-1)および光電気セル(5-2)について、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(4)の調製
実施例1において、トリエチルアミンに代えて塩基性窒素化合物としてトリプロピルアミン(沸点:155℃)が塗布液中に50ppmとなるように0.5gを添加した以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(4)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(4)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(6)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(6)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(6)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(5)の調製
実施例1において、トリエチルアミンに代えて塩基性窒素化合物としてトリエタノールアミン(沸点:208℃)が塗布液中に50ppmとなるように0.5gを添加した以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(5)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(5)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(7)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(7)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(7)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(8)の製造
実施例1において、低屈折率層形成成分分散液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で2分間乾燥した後、300℃で30分間加熱して硬化させた以外は同様にして反射防止膜付基材(8)を製造した。このとき、低屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaC)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(8)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(8)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(8)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(9)の製造
実施例1において、低屈折率層形成成分分散液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で2分間乾燥した後、650℃で30分間加熱して硬化させた以外は同様にして反射防止膜付基材(9)を製造した。このとき、低屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaC)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(9)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(9)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(9)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(6)の調製
実施例1と同様にして調製した固形分濃度20.5重量%の表面処理酸化チタン粒子メタノール分散液10.24gと、実施例1と同様にして調製した固形分濃度5.0重量%の正珪酸エチル加水分解物分散液 (1)18.0gと、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGME)20.00gと、メタノールとエタノールとイソプロピルアルコールの変性アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11:エタノール85.5重量%、イソプロピルアルコール9.8重量%、メタノール4.7重量%)51.76gと、塩基性窒素化合物としてトリエチルアミン(沸点:90℃)が塗布液中に50ppmとなるように2gとを混合し、ついで、25℃で30分間撹拌して固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(6)を調製した。
実施例1と同様にして高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(6)を、ガラス基板(2)にバーコーター法(#5)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した。このとき、高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。ついで、実施例1と同様にして調製した低屈折率層形成成分分散液(1)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で2分間乾燥した後、500℃で30分間加熱して硬化させて低屈折率層を形成して反射防止膜付基材(10)を製造した。このとき、低屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaC)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(10)について、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(10)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(10)を作成した。次いで、実施例1と同様にして電極付反射防止膜付基材(10)の電極面上に半導体膜を形成し、分光増感色素を吸着させ、電極付反射防止膜付基材(10)を一方の電極とし、他方の電極としてフッ素ドープした酸化スズを電極として形成し、その上に白金を担持した透明ガラス基板を対向して配置し、側面を樹脂にてシールし、電極間に上記の電解質溶液を封入し、さらに電極間をリード線で接続して光電気セル(10-1)を作製した。また、実施例1と同様にして、耐擦傷性を測定した反射防止膜付基材(10)を用いて光電気セル(10-2)を作製した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
低屈折率層形成成分分散液(2)の調製
変性アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11:エタノール85.5重量%、イソプロピルアルコール9.8重量%、メタノール4.7重量%)72.5gに水10.0gと濃度61重量%の硝酸0.1gを添加し、ついで、25℃で10分撹拌した後、正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)17.4gを添加し、30℃で30分間撹拌して固形分濃度5.0重量%の正珪酸エチル加水分解物分散液100gを調製した。正珪酸エチル加水分解物のポリエチレン換算分子量は1000であった。
実施例1と同様にして高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(1)にバーコーター法(#5)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、低屈折率層形成成分分散液(2)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で2分間乾燥した後、500℃で30分間加熱して硬化させて低屈折率層を形成して反射防止膜付基材(11)を製造した。このとき、低屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaC)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(11)について、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(11)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(11)を作成した。次いで、実施例1と同様にして電極付反射防止膜付基材(11)の電極面上に半導体膜を形成し、分光増感色素を吸着させ、電極付反射防止膜付基材(11)を一方の電極とし、他方の電極としてフッ素ドープした酸化スズを電極として形成し、その上に白金を担持した透明ガラス基板を対向して配置し、側面を樹脂にてシールし、電極間に上記の電解質溶液を封入し、さらに電極間をリード線で接続して光電気セル(11-1)を作製した。また、実施例1と同様にして、耐擦傷性を測定した反射防止膜付基材(11)を用いて光電気セル(11-2)を作製した。
得られた光電気セル(11)について、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
低屈折率層形成成分分散液(3)の調製
変性アルコール(日本アルコール販売(株)製:ソルミックスAP−11:エタノール85.5重量%、イソプロピルアルコール9.8重量%、メタノール4.7重量%)72.5gに水10.0gと濃度61重量%の硝酸0.1gを添加し、ついで、25℃で10分撹拌した後、正珪酸エチル(多摩化学工業(株)製:正珪酸エチル‐A、SiO2濃度28.8重量%)17.4gを添加し、30℃で30分間撹拌して固形分濃度5.0重量%の正珪酸エチル加水分解物分散液100gを調製した。正珪酸エチル加水分解物のポリエチレン換算分子量は1000であった。
実施例2と同様にして高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(1)にバーコーター法(#5)で塗布し、80℃で120秒間乾燥した後、低屈折率層形成成分分散液(3)をバーコーター法(#4)で塗布し、80℃で2分間乾燥した後、500℃で30分間加熱して硬化させて低屈折率層を形成して反射防止膜付基材(12)を製造した。このとき、低屈折率層の平均厚みは100nmであった。
反射防止膜付基材(12)について、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(12)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(12)を作成した。
得られた光電気セル(12-1)および光電気セル(12-2)について、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R1)の調製
実施例1において、テトラエチルアミンを添加しなかった以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R1)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R1)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R1)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R1)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(R1)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R2)の調製
実施例1において、塩基性窒素化合物としてトリエチルアミンが塗布液中に50ppmとなるように0.5gを添加した以外は同様にして固形分濃度5重量%の高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R2)を調製した。
ついで、実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(R2)を用いた以外は同様にして、ガラス基板(1)に高屈折率層を形成した。高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R2)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R2)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(R2)を作成した。
得られた光電気セル(R2)について、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R3)の製造
実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(1)の表面粗さを有する面にバーコーター法(#5)で塗布した後、45℃で120秒間乾燥して高屈折率層を形成した。このとき、高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R3)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R3)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(R3)を作成した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R4)の製造
実施例1において、高屈折率層形成用金属酸化物粒子分散液(1)を、ガラス基板(1)の表面粗さを有する面にバーコーター法(#5)で塗布した後、130℃で120秒間乾燥して高屈折率層を形成した。このとき、高屈折率層の平均厚みは100nmであった。また、表面粗さ(RaB)および屈折率を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R4)ついて、全光線透過率、ヘイズ、鉛筆硬度および耐擦傷性を測定し、結果を表に示す。
反射防止膜付基材(R4)の反射防止膜の反対側にフッ素ドープした酸化スズを電極として形成した電極付反射防止膜付基材(R4)を作成した。
次いで、実施例1と同様にして電極付反射防止膜付基材(R4)の電極面上に半導体膜を形成し、分光増感色素を吸着させ、電極付反射防止膜付基材(R4)を一方の電極とし、他方の電極としてフッ素ドープした酸化スズを電極として形成し、その上に白金を担持した透明ガラス基板を対向して配置し、側面を樹脂にてシールし、電極間に上記の電解質溶液を封入し、さらに電極間をリード線で接続して光電気セル(R4-1)を作製した。また、実施例1と同様に、耐擦傷性を測定した反射防止膜付基材(R4)を用いて光電気セル(R4)を作製した。
得られた光電気セルについて、性能評価(1)および性能評価(2)を行い、結果を表に示す。
2・・・・・多孔質半導体膜
3・・・・・電極層
4・・・・・電解質
5・・・・・透明基板
6・・・・・基板
Claims (19)
- 基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とからなる反射防止膜付基材の製造方法であって、下記の工程(a)〜(e)からなることを特徴とする反射防止膜付基材の製造方法。
(a)基材上に、塩基性窒素化合物を1〜1000ppm含む、屈折率が1.50〜2.40の範囲にある高屈折率金属酸化物粒子の分散液を塗布し、
(b)塩基性窒素化合物の沸点未満の温度で分散媒を除去し、
(c)低屈折率層形成成分分散液を塗布し、
(d)分散媒を除去したのち、(e)120〜700℃で加熱処理する。 - 前記低屈折率層形成成分がシリカ前駆体または、シリカ前駆体およびシリカゾルであることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記シリカ前駆体が有機ケイ素化合物の部分加水分解物、加水分解物、加水分解縮重合物、ポリシラザン、ポリシラン、酸性珪酸液から撰ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項2に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記低屈折率層形成成分分散液の濃度が、固形分として0.5〜10重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記塩基性窒素化合物の沸点が40〜250℃の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記金属酸化物微粒子がTiO2、ZrO2、Al2O3、ZnO、SnO2、Sb2O5、In2O3、Nb2O5から撰ばれる1種以上の金属酸化物、これらの混合物、複合酸化物からなることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記金属酸化物粒子の平均粒子径が5〜100nmの範囲にあることを特徴とする請求項6に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液中の金属酸化物微粒子の濃度が固形分として0.5〜20重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記塩基性窒素化合物を含む金属酸化物粒子分散液がさらにマトリックス形成成分を含み、マトリックス形成成分の濃度が固形分として0.1〜4重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記基材が表面に凹凸を有し、表面粗さ(RaA)が30nm〜1μmの範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 前記基材がガラス基材であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜付基材の製造方法。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の製造方法によって得られてなり、基材と、高屈折率層とが、積層されてなることを特徴とする反射防止膜付基材。
- 前記高屈折率層の平均厚みが50〜200nmの範囲にあることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 前記低屈折率層の平均厚みが30〜200nmの範囲にあることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 反射防止膜付基材の鉛筆硬度が7H以上であることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 前記高屈折率層の表面粗さ(RaB)が30nm〜1μmの範囲にあることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 前記低屈折率層の表面粗さ(RaC)が30nm以下であることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 前記低屈折率層の表面粗さ(RaC)が30nm〜1μmの範囲にあることを特徴とする請求項12に記載の反射防止膜付基材。
- 請求項12〜18のいずれかに記載の反射防止膜付基材を前面に備えた光電気セル。
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