KR101194258B1 - 광대역 반사방지 다층코팅을 갖는 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광대역 반사방지 다층코팅을 갖는 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 태양전지의 최외각면(태양빛을 받아들이는 면)에 적용 가능한 투명 기판으로서 그 표면상에 고굴절률 물질층과 저굴절률 물질층이 교대하여 순차적으로 적층되어 형성되는 6층 이상의 다층코팅을 가짐으로써 광대역(350~1,100nm) 반사방지 기능을 발휘하여 가시광선뿐만 아니라 근적외선 영역의 투과율을 향상시키는 반면 태양전지 발전에 기여하지 못하고 태양전지 모듈의 열화를 일으키는 적외선 영역은 투과율을 떨어뜨려 태양전지의 효율 향상에 기여할 수 있는 광대역 (350~1,100nm) 반사방지성 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 광대역 반사방지 다층코팅을 갖는 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 태양전지의 최외각면(태양빛을 받아들이는 면)에 적용 가능한 투명 기판으로서 그 표면상에 고굴절률 물질층과 저굴절률 물질층이 교대하여 순차적으로 적층되어 형성되는 6층 이상의 다층코팅을 가짐으로써 광대역(350~1,100nm) 반사방지 기능을 발휘하여 가시광선뿐만 아니라 근적외선 영역의 투과율을 향상시키는 반면 태양전지 발전에 기여하지 못하고 태양전지 모듈의 열화를 일으키는 적외선 영역은 투과율을 떨어뜨려 태양전지의 효율 향상에 기여할 수 있는 광대역 (350~1,100nm) 반사방지성 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
반사방지 코팅은 본래 액자, 렌즈, 디스플레이 장치 등의 용도에서 먼저 기술이 시작 발전된 것으로, 가시광 영역 즉, 350~780nm까지의 투과율을 높이기 위한 코팅 기술이다. 이러한 반사방지 코팅은 통상적으로 기판의 굴절률(유리일 경우 통상 1.5)과 공기의 굴절률(1.0) 사이의 굴절률을 갖는 물질의 막으로 이루어진다.
이러한 종래 기술과는 다르게 태양전지용 투명 기판, 예컨대 유리에서는 가시광 영역뿐만 아니라, 근적외선 영역 (~1,100nm) 까지의 투과도를 증가시킬 필요가 있는데, 이는 태양전지가 빛을 흡수하는 파장대역이 가시광 영역보다 넓기 때문이다. 따라서 태양전지의 변환 효율을 증가시키기 위해는 태양전지의 최외각 투명 기판을 통과하는 태양 빛의 투과율을 광대역(350~1,100nm) 영역에서 개선해야 한다.
이러한 광대역 영역의 태양광 투과율을 개선하기 위해 종래에는, 태양전지용 최외각 유리의 외부 표면에 다공성 규소 산화물의 단일층으로 만들어진 반사방지 코팅을 성막하였다. 이 다공성 규소 산화물에 의해 제공되는 기공은 규소 산화물의 굴절률을 낮춰주는 역할을 한다. 하지만, 이러한 단일층 코팅은 수분에 대한 내구성이 불충분하다. 또한 이러한 다공성 규소 산화물 코팅층은 통상적으로 Sol-gel 법을 사용하여 형성되며, 스프레이나 침지(Dipping) 코팅법으로 제조하는 경우에는 균일한 박막을 얻기가 힘들다는 단점이 있다.
다르게는, 유리의 외부면을 불산 등의 화학약품으로 식각하여, 다공질의 규소 산화물을 유리 위에 얇게 형성하는 방법이 알려져 있다. 그러나 이러한 방법은 식각하는데 시간이 오래 걸려 생산성이 크게 떨어지고, 유리 표면이 불균일하며, 또한 불산을 사용함에 따른 환경적인 문제가 있다.
본 발명은 상기 종래기술의 문제점들을 해결하고자 한 것으로서, 태양전지의 최외각면에 적용되는 투명 기판으로서 가시광선 및 근적외선 영역의 투과율을 향상시키는 반면 태양전지 발전에 기여하지 못하고 태양전지 모듈의 열화를 일으키는 적외선 영역의 투과율은 떨어뜨려 태양전지의 효율 향상에 기여할 수있는 광대역 (350~1,100nm) 반사방지성 태양전지용 투명 기판 및 그 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
상기한 기술적 과제를 해결하고자 본 발명은, 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 고-굴절층 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 저-굴절층이 기판 상에 교대하며 순차적으로 적층되어 형성된, 6층 이상의 다층코팅을 그 표면상에 가지는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판을 제공한다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, (1) 투명 기판 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층을 형성하는 단계, (2) 상기 제1 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층을 형성하는 단계, (3) 상기 제1 저-굴절층 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층을 형성하는 단계, (4) 상기 제2 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층을 형성하는 단계, (5) 상기 제2 저-굴절층 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층을 형성하는 단계 및 (6) 상기 제3 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층을 형성하는 단계를 포함하는, 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판의 제조방법이 제공된다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명의 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판을 최외각에 설치한 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈이 제공된다.
본 발명에 따른 광대역 (350nm~1,100nm) 반사방지성 투명 기판은 가시광선 및 근적외선 파장 범위와 원적외선을 포함하는 장파장 범위 사이에서 선택적인 투과특성을 나타내므로, 이를 태양전지에 적용하면, 가시광선 및 근적외선 영역의 투과율이 높아져 태양에너지 흡수량이 증가하여 셀의 효율을 높일 수 있는 동시에, 원적외선을 포함하는 장파장 영역(1,100nm~2,500nm)의 투과율은 떨어뜨려 태양전지 모듈 온도를 낮출 수 있고, 이러한 온도의 감소는 태양전지의 열화 방지를 통해 수명과 효율의 증가로 이어질 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 구체예에 따라 6층의 반사방지성 다층코팅을 그 표면상에 가지는 유리의 층 구성에 대한 개략도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 및 비교예들에서 제조된 반사방지성 코팅 유리들의 투과율 스펙트럼 그래프이다.
도 2는 본 발명의 실시예 및 비교예들에서 제조된 반사방지성 코팅 유리들의 투과율 스펙트럼 그래프이다.
이하에서 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
(1) 투명 기판
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅이 형성될 수 있는 투명 기판으로는 유리 기판 및 투명 플라스틱 기판(예컨대 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 소재 투명 기판)과 같이 투명한 재질로서 그 표면 상에 본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅이 형성될 수 있는 것이면 제한 없이 사용가능하며, 바람직하게는 유리 기판이 사용된다.
유리 기판의 경우 예컨대, 건축용 혹은 자동차용 소다라임 유리와 같은 통상의 유리와 태양전지용 저철분 무늬유리, 저철분 판유리, 투명전도막(Transparent Conductive Oxide, TCO) 유리 등을 제한 없이 사용할 수 있다. 또한, 필요에 따라 표면 결처리되거나 강화 또는 부분강화된 유리를 사용할 수도 있다.
투명 기판의 두께에는 특별한 제한이 없으며, 사용목적에 따라 2mm ~ 8mm의 두께의 범위 내에서 자유롭게 선택될 수 있다
(2) 고-
굴절층
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅에 포함되는 고-굴절층은 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는다. 굴절률이 상기 범위를 벗어나는 물질은 본 발명에 있어서 고-굴절층의 재료로서 사용될 수 없다.
고-굴절층은 아연 산화물, 주석 산화물, 지르코늄 산화물, 아연-주석 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물로부터 선택된 하나 이상의 금속 산화물을 포함할 수 있다. 또한, 고-굴절층은 규소 질화물 및 규소 알루미늄 질화물로부터 선택된 하나 이상의 질화물을 추가로 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅에 포함되는 각 고-굴절층의 두께는 5 ~ 60nm 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. 본 발명의 일 구체예인 6층 구성의 다층코팅에 있어서, 기판으로부터 순차적으로, 제1 고-굴절층의 두께는 바람직하게 5 ~ 40nm, 보다 바람직하게 10 ~ 30nm이고; 제2 고-굴절층의 두께는 바람직하게 5 ~ 60nm, 보다 바람직하게 5 ~ 50nm이며; 제3 고-굴절층의 두께는 바람직하게 10 ~ 40nm, 보다 바람직하게 10 ~ 30nm이다. 각 고-굴절층의 두께가 상기 범위를 만족시키면, 가시광 파장 범위뿐만 아니라 보다 넓은 적외선 영역까지 기판 투과도의 실질적인 증가와 함께 광대역(broadband) 반사방지 효과를 얻을 수 있고, 이에 따라 350nm ~ 1,100nm까지의 파장 범위에 걸쳐진 고성능 반사방지 다층코팅을 얻을 수 있어 바람직하다.
(3) 저-
굴절층
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅에 포함되는 저-굴절층은 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는다. 굴절률이 상기 범위를 벗어나는 물질은 본 발명에 있어서 저-굴절층의 재료로서 사용될 수 없다.
저-굴절층은 규소 산화물, 규소 옥시질화물, 규소 옥시탄화물 및 규소-알루미늄 혼합 산화물로부터 선택된 하나 이상의 산화물을 포함할 수 있다. 혼합 산화물의 경우 순수 규소 산화물(SiO2)에 비하여 내구성, 특히 내화학적인 특성을 향상시킬 수 있는 장점이 있으며, 규소와 알루미늄의 각각의 비율은 층의 굴절률을 지나치게 증가시키지 않으면서 내구성을 기대만큼 향상시키기 위해 적절히 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅에 포함되는 각 저-굴절층의 두께는 10 ~ 150nm 범위 내에서 적절히 선택될 수 있다. 본 발명의 일 구체예인 6층 구성의 다층코팅에 있어서, 기판으로부터 순차적으로, 제1 저-굴절층의 두께는 바람직하게 10 ~ 70nm, 보다 바람직하게 15 ~ 60nm이고; 제2 저-굴절층의 두께는 바람직하게 10 ~ 70nm, 보다 바람직하게 10 ~ 60nm이며; 제3 저-굴절층의 두께는 바람직하게 70 ~ 150nm, 보다 바람직하게 90 ~ 130nm이다. 각 저-굴절층의 두께가 상기 범위를 만족시키면, 가시광 파장 범위뿐만 아니라 보다 넓은 적외선 영역까지 기판 투과도의 실질적인 증가와 함께 광대역(broadband) 반사방지 효과를 얻을 수 있고, 이에 따라 350nm ~ 1,100nm까지의 파장 범위에 걸쳐진 고성능 반사방지 다층코팅을 얻을 수 있어 바람직하다.
(4) 다층코팅
본 발명에 따르면, 상기한 바와 같은 투명 기판 상에 상기 고-굴절층 및 상기 저-굴절층을 교대하며 순차적으로 적층하여 6층 이상(예컨대 6 내지 8층)의 반사방지성 다층코팅이 형성된다. 반사방지성 다층코팅을 구성하는 층의 수가 6 미만이면 1,100nm까지 투과율을 올리는데 한계가 있다.
본 발명의 바람직한 일 구체예에 따르면, 광대역에서 투과율을 높이기 위해 하기와 같은 층 구성을 연속적으로 갖는 반사방지성 다층코팅이 투명 기판 상에 순차적으로 형성된다.
5 ~ 40nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층
10 ~ 70nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층
5 ~ 60nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층
10 ~ 70nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층
5 ~ 40nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층
70 ~ 150nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층
또한, 상기와 같은 6층구조의 다층코팅은 바람직하게는 다음과 같은 층 구성 물질들을 포함한다.
기판으로부터 순차적으로
- 티타늄산화물/규소산화물/ 티타늄산화물/규소산화물/티타늄산화물/규소산화물
또는
-티타늄산화물/규소알루미늄산화물/티타늄산화물/규소알루미늄산화물/티타늄산화물/ 규소알루미늄산화물
(여기서 규소알루미늄산화물은 알루미늄-규소 혼합 산화물에 해당하며, 이들 물질 각각의 양은 판단하지 않는다.)
통상 태양전지들은 350~1,100nm까지 파장의 빛 에너지만을 흡수하여 전기변환을 하며, 그 이후 대역 파장은 태양전지 모듈의 온도를 상승시키는 악영향을 끼치기 때문에 모듈의 장기간 안정성을 유지하기 위해서는 1,100nm 이후 파장의 투과율은 낮추어줄 필요가 있다. 본 발명에 따른 6층 이상의 반사방지 다층코팅구조는 층간의 간섭 상호작용으로 인해 가시광선 및 근적외선 파장 범위(350nm~1,100nm)와 그 이상의 원적외선을 포함하는 장파장 범위 사이에서 선택적인 투과특성을 나타내므로, 충분한 반사방지 효과(즉, 태양전지 효율) 및 태양전지 모듈의 장기간 안정성을 동시에 달성할 수 있는 최적의 구조이다. 즉, 본 발명의 다층코팅은 단지 가시광선 투과율만을 높이는 것이 아니라 태양전지 모듈에 유해한 1,100 nm 이후 장파장의 투과율은 낮추어줄 수 있는 것이라는 점에서, 단지 가시광선 투과율만을 높인 종래의 기술에 비하여 현저히 향상된 기술이다.
본 발명에 따른 반사방지성 다층코팅을 표면상에 갖는 투명 기판은, 바람직하게는 8mm까지의 두께에 대하여, 350~1,100 nm에서 바람직하게 91% 이상의 평균 투과율을 나타낸다. 또한, 350~1,100nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 높고, 1,100nm ~2,500nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 낮다.
(5) 다층코팅 투명 기판 제조방법
본 발명의 다른 측면에 따르면, (1) 투명 기판 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층을 형성하는 단계, (2) 상기 제1 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층을 형성하는 단계, (3) 상기 제1 저-굴절층 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층을 형성하는 단계, (4) 상기 제2 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층을 형성하는 단계, (5) 상기 제2 저-굴절층 상에 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층을 형성하는 단계 및 (6) 상기 제3 고-굴절층 상에 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층을 형성하는 단계를 포함하는, 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판의 제조방법이 제공된다.
본 발명의 다층코팅 투명 기판 제조방법은, 필요에 따라, 상기 (6)단계 이후에 추가의 고-굴절층을 형성하고, 그 위에 추가의 저-굴절층을 형성하는 단계를 하나 이상 더 포함할 수 있다.
투명 기판 상에 상기 각 층을 순차적으로 형성하는 방법에는 특별한 제한이 없으며, 물리적 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD), 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD), sol-gel 법을 비롯하여 통상 알려진 박막코팅법을 활용할 수 있다. 본 발명의 바람직한 일 구체예에 따르면, 마그네트론 스퍼터링 방식에 의해 연속적으로 모든 층을 증착할 수 있다. 이 방식은 특히 대형 기판의 제품에 대해 적합하며, 여기에서는, 산소의 존재 하에 해당 금속의 반응 스퍼터링에 의해 산화물 층을 증착하고, 질소의 존재 하에 질화물 층을 증착할 수 있다. 또한 SiO2 또는 Si3N4층을 형성하고자 타겟에 전도성을 충분하게 해주기 위해서 알루미늄과 같은 금속으로 미량 도핑된 규소 타깃을 사용하여 증착할 수도 있다.
(5) 태양전지 모듈
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명의 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판을 최외각에 설치한 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈이 제공된다.
본 발명의 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판이 적용가능한 태양전지 모듈의 종류에는 특별한 제한이 없으며, 결정질 실리콘, 비정질 실리콘 박막, DSSC(Dye Sensitized Solar Cell, 염료감응형), CIGS(CuInGaSe), CdTe, GaAs 등의 태양전지에 모두 적용가능하다.
본 발명의 일 구체예에 따르면, 본 발명의 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판이 적용된 태양전지 모듈은 그렇지 않은 모듈에 대해 적어도 3~5%의 효율의 증가를 나타낸다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 이들 실시예에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한되는 것은 결코 아니다.
[
실시예
]
실시예
3.2mm 두께의 저철분 판유리 위에 하기 표 1에 나타낸 구성의 6층 반사방지코팅을 형성하였다. 각 코팅층의 형성은 마그네트론 스퍼터링 설비를 사용하여 수행되었다. 증착 조건은 분위기 압력 3 내지 5 mtorr, 파워 1kw 에서 Ti 메탈 타겟과 Si 합금 타겟을 사용하여 실시하였다.
제조된 다층코팅 유리에 대해 350~1,100nm까지의 투과율을 분광투과율 측정기(모델명 cary500, varian 社)로 측정하였고, 그 결과값에 ISO 9050 규격에 따라 AM1.5에 해당하는 중가 계수를 곱한 평균값을 하기 표 2에 나타내었다.
[표 1]
비교예
1
코팅되지 않은 (즉, 반사방지 다층코팅이 없는) 3.2mm 두께의 저철분 판유리에 대해 350~1,100nm까지의 투과율을 분광투과율 측정기(모델명 Cary500, varian 社)로 측정하였고, 그 결과값에 ISO 9050 규격에 따라 AM1.5에 해당하는 중가 계수를 곱한 평균값을 하기 표 2에 나타내었다.
비교예
2
3.2mm 저철분 판유리 위에 다공성 실리카를 주성분으로 하는 반사방지 코팅막을 형성하였다. 다공성 실리카 코팅막은 nm 크기로 분말화된 SiO2 입자를 용매에 잘 분산시킨 후 스프레이 공법으로 유리 위에 120nm 두께로 형성하고, 고온(150℃ ~ 200℃)의 열처리 공정을 거쳐 형성되었다.
이렇게 하여 다공성 실리카 코팅막이 형성된 판유리에 대해 350~1,100nm까지의 투과율을 분광투과율 측정기(모델명 cary500, varian 社)로 측정하였고, 그 결과값에 ISO 9050 규격에 따라 AM1.5에 해당하는 중가 계수를 곱한 평균값을 하기 표 2에 나타내었다.
[표 2]
또한, 실시예 및 비교예 1, 2 유리의 파장대별 투과율을 도 2에 나타내었다.
Claims (12)
1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 고-굴절층 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 저-굴절층이 기판 상에 교대하며 순차적으로 적층되어 형성된, 6층의 다층코팅을 그 표면상에 가지는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판으로,
상기 6층의 다층코팅은
10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층;
15 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층;
5 ~ 50nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층;
10 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층;
10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층; 및
90 ~ 130nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층;
이 기판으로부터 순차적으로 적층되어 형성되며,
상기 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판은 350~1,100 nm에서 91% 이상의 평균 투과율을 나타내고,
또한 상기 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판은 350~1,100nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 높고, 1,100nm ~2,500nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 낮은 것을 특징으로 하는,
광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
상기 6층의 다층코팅은
10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층;
15 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층;
5 ~ 50nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층;
10 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층;
10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층; 및
90 ~ 130nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층;
이 기판으로부터 순차적으로 적층되어 형성되며,
상기 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판은 350~1,100 nm에서 91% 이상의 평균 투과율을 나타내고,
또한 상기 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판은 350~1,100nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 높고, 1,100nm ~2,500nm까지의 파장에서는 다층코팅 형성전 기판보다 투과율이 낮은 것을 특징으로 하는,
광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
제1항에 있어서, 기판이 유리인 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
제1항에 있어서, 고-굴절층이 아연 산화물, 주석 산화물, 지르코늄 산화물, 아연-주석 산화물, 티타늄 산화물, 니오븀 산화물로부터 선택된 하나 이상의 금속 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
제3항에 있어서, 고-굴절층이 규소 질화물 및 규소 알루미늄 질화물로부터 선택된 하나 이상의 질화물을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
제1항에 있어서, 저-굴절층이 규소 산화물, 규소 옥시질화물, 규소 옥시탄화물 및 규소-알루미늄 혼합 산화물로부터 선택된 하나 이상의 산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판.
삭제
삭제
삭제
(1) 투명 기판 상에 10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제1 고-굴절층을 형성하는 단계,
(2) 상기 제1 고-굴절층 상에 15 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층을 형성하는 단계,
(3) 상기 제1 저-굴절층 상에 5 ~ 50nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층을 형성하는 단계,
(4) 상기 제2 고-굴절층 상에 10 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층을 형성하는 단계,
(5) 상기 제2 저-굴절층 상에 10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층을 형성하는 단계, 및
(6) 상기 제3 고-굴절층 상에 90 ~ 130nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층을 형성하는 단계를 포함하는,
제1항에 따른 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판의 제조방법.
(2) 상기 제1 고-굴절층 상에 15 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제1 저-굴절층을 형성하는 단계,
(3) 상기 제1 저-굴절층 상에 5 ~ 50nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제2 고-굴절층을 형성하는 단계,
(4) 상기 제2 고-굴절층 상에 10 ~ 60nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제2 저-굴절층을 형성하는 단계,
(5) 상기 제2 저-굴절층 상에 10 ~ 30nm 의 두께 및 1.9 ~ 2.5의 굴절률을 갖는 제3 고-굴절층을 형성하는 단계, 및
(6) 상기 제3 고-굴절층 상에 90 ~ 130nm 의 두께 및 1.3 ~ 1.6의 굴절률을 갖는 제3 저-굴절층을 형성하는 단계를 포함하는,
제1항에 따른 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판의 제조방법.
제9항에 있어서, 마그네트론 스퍼터링 방식에 의해 연속적으로 모든 층을 증착하는 것을 특징으로 하는 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판의 제조방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 광대역 반사방지성 태양전지용 투명 기판을 최외각에 설치한 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈.
제11항에 있어서, 태양전지 모듈이 결정질 실리콘, 비정질 실리콘 박막, DSSC(Dye Sensitized Solar Cell, 염료감응형), CIGS(CuInGaSe), CdTe 또는 GaAs형인 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈.
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