JP2014005487A - ガス放出キャンロール及びその製造方法並びに該キャンロールを備えたロールツーロール表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 長尺樹脂フィルムが巻き付けられる外周面11sを備えた円筒部11に、その中心軸Oに平行な複数のガス導入路15が全周に亘って等間隔に穿設されており、各ガス導入路15は、外周面11sの幅に対して50%以上の長さで延在し、且つこの延在する方向に沿って等間隔で一列に並んで外周面11s側に開口する2列以上のガス放出孔群16a、16bが連通しており、これら2列以上のいずれの列のガス放出孔群においても、それらを構成する各ガス放出孔は中心軸Oに直交する面上に延在しており、且つ当該面上においてガス放出孔が延在する方向に平行な線L1と、それが連通するガス導入路15の直近における外周面の法線L2とのなす角が60°以下である。
【選択図】 図3
Description
図8に示すような成膜装置(スパッタリングウェブコータ)を用いて、基板としての長尺樹脂フィルムFの表面にシード層であるNi−Cr膜を成膜し、その上にCu膜を成膜した。なお、長尺樹脂フィルムFには、幅500mm、長さ800m、厚さ25μmの宇部興産株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「ユーピレックス(登録商標)」を使用した。
シームレスパイプの厚み方向の中央部に、角度3°毎に120本の内径5mmのガス導入路15をガンドリルにより両端部から形成し、中心軸方向から見てガス導入路15の直近における外周面の法線L2とガス放出孔が延在する方向に平行な線L1とのなす角度αが57°となる2列のガス放出孔群16a、16bと、上記法線L2上に延在する1列のガス放出孔群16cとを設けた以外は上記実施例1と同様にしてガス放出キャンロールを作製した。なお、このキャンロールにおいても、円周方向のガス放出孔のピッチは7mmであった。
実施例1及び2との比較のため、シームレスパイプの厚み方向の中央部に、角度1°毎に360本の内径5mmのガス導入路をガンドリルにより両端部から形成したが、隣接するガス導入路の間隔が2mmとなる上、ガンドリルの直進性が悪くなった場合は、隣接するガス導入路同士が連通してしまうことがあった。そこで、ガス導入路の内径を4mmに変更して、ガンドリルを用いて新たなシームレスパイプに360本のガス導入路を両端部から形成した。その際、内径が5mmから4mmに細くなったため、1本のガス導入路の加工時間は約2倍かかった。
12 内筒部
13 側面部
14 冷媒循環部
15 ガス導入路
16a、16b、16c ガス放出孔群
20 ガスロータリージョイント
26 ガス供給ライン
50 成膜装置
51 真空チャンバー
52 巻出ロール
53、63 フリーロール
54、62 張力センサロール
55、61 フィードロール
56 キャンロール
57、58、59、60 マグネトロンスパッタリングカソード
64 巻取ロール
O 中心軸
F 長尺樹脂フィルム
A 抱き角
Claims (8)
- 長尺樹脂フィルムが巻き付けられる外周面を備えた円筒部と、その中心軸上に設けられた回転軸部とを備えたキャンロールであって、
前記円筒部には、前記中心軸に平行な複数のガス導入路が全周に亘って等間隔に穿設されており、各ガス導入路は、前記外周面の幅に対して50%以上の長さで延在し、且つこの延在する方向に沿って等間隔で一列に並んで外周面側に開口するガス放出孔群の列が2列以上連通しており、これら2列以上のいずれの列のガス放出孔群においても、それらを構成する各ガス放出孔は前記中心軸に直交する面上に延在しており、且つ当該面上においてガス放出孔が延在する方向に平行な線と、それが連通するガス導入路の直近における外周面の法線とのなす角が60°以下であることを特徴とするキャンロール。 - 前記各ガス導入路に連通する2列以上のガス放出孔群を前記中心軸方向から見たとき、当該ガス導入路の直近における外周面の法線に関して線対称となるように設けられていることを特徴とする、請求項1に記載のキャンロール。
- 前記ガス放出孔群の列の数が2列であり、これら2列のガス放出孔群を前記中心軸方向から見たとき、略V字状に設けられていることを特徴とする、請求項2に記載のキャンロール。
- 前記ガス放出孔群の列の数が3列であり、その中央のガス放出孔群を前記中心軸方向から見たとき、これに連通するガス導入路の直近における外周面の法線上に延在していることを特徴とする、請求項1又は2に記載のキャンロール。
- 前記長尺樹脂フィルムの巻き付けが行われない領域に位置するガス導入路には、ガスの供給を遮断する機構を備えていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載のキャンロール。
- 真空チャンバー内においてロールツーロールで搬送される長尺樹脂フィルムの一方の面をキャンロールの外周面に巻き付けながら他方の面に熱負荷のかかる表面処理を行うロールツーロール表面処理装置であって、
前記キャンロールに請求項1〜5のいずれかに記載のキャンロールが使用されており、前記真空チャンバーの外部から供給されるガスを前記ガス導入路及び前記ガス放出孔を介してキャンロールの外周面とそこに巻き付けられる長尺樹脂フィルムの間のギャップ部に導入することを特徴とするロールツーロール表面処理装置。 - 請求項6に記載の熱負荷のかかる表面処理がスパッタリングであることを特徴とする成膜装置。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のキャンロールの円筒部に形成するガス放出孔をレーザー加工で穿孔することを特徴とするキャンロールの製造方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0369697A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-03-26 | Daiko Seishi Kk | エンボス着色紙の製造方法 |
JP2015209552A (ja) * | 2014-04-24 | 2015-11-24 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス放出機構を備えたキャンロールを用いた長尺フィルムの処理方法 |
JP2016003338A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロール及びこれを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
JP2017008354A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 静電反発ロールを備えた長尺フィルムの処理装置 |
JP2017043823A (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺基板処理装置およびその制御方法ならびにその制御方法を用いた金属膜付長尺基板の製造方法 |
JP2017043822A (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス供給手段及びこれを備えたキャンロール並びに該キャンロールを用いた長尺基板の処理装置及び処理方法 |
CN109321889A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-02-12 | 华灿光电(浙江)有限公司 | 磁控溅射装置 |
CN115383124A (zh) * | 2022-09-02 | 2022-11-25 | 杭州新川新材料有限公司 | 超细金属粉末的冷却设备 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106271116A (zh) * | 2016-08-02 | 2017-01-04 | 国家农产品保鲜工程技术研究中心(天津) | 葡萄保鲜剂缓释包装精准释放制孔装置及使用方法 |
JP7054055B2 (ja) | 2018-05-23 | 2022-04-13 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス放出ロール及びその製造方法並びにガス放出ロールを用いた処理装置 |
JP2019211001A (ja) * | 2018-06-04 | 2019-12-12 | 大豊工業株式会社 | すべり軸受 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100291308A1 (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Veeco Instruments Inc. | Web Substrate Deposition System |
WO2011093073A1 (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-04 | パナソニック株式会社 | 薄膜の製造装置、薄膜の製造方法及び基板搬送ローラ |
JP2012117131A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガス導入機構を備えた長尺基板処理装置および処理方法 |
JP2012117128A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガス導入機構を備えたキャンロールおよびそれを用いた長尺基板の処理装置ならびに処理方法 |
-
2012
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100291308A1 (en) * | 2009-05-14 | 2010-11-18 | Veeco Instruments Inc. | Web Substrate Deposition System |
WO2011093073A1 (ja) * | 2010-01-26 | 2011-08-04 | パナソニック株式会社 | 薄膜の製造装置、薄膜の製造方法及び基板搬送ローラ |
JP2012117131A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガス導入機構を備えた長尺基板処理装置および処理方法 |
JP2012117128A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ガス導入機構を備えたキャンロールおよびそれを用いた長尺基板の処理装置ならびに処理方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0369697A (ja) * | 1989-08-04 | 1991-03-26 | Daiko Seishi Kk | エンボス着色紙の製造方法 |
JP2015209552A (ja) * | 2014-04-24 | 2015-11-24 | 住友金属鉱山株式会社 | ガス放出機構を備えたキャンロールを用いた長尺フィルムの処理方法 |
JP2016003338A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | キャンロール及びこれを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
JP2017008354A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 住友金属鉱山株式会社 | 静電反発ロールを備えた長尺フィルムの処理装置 |
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