JP2013542167A - トリクロロシランの製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)第一の工程において、四塩化ケイ素とシリコンとを、800℃超〜1450℃、好ましくは900℃〜1350℃、特に有利には1000℃〜1300℃、殊に1100℃〜1250℃の温度で反応させ、
b)第二の工程において、そのようにして得られた第一の工程からの生成物(PS)を冷却し、その際、生成物流(PG2)が発生し、
c)任意に第三の工程において、生成物流(PG2)からSTC及びHCDSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG3)が発生し、
d)任意に第四の工程において、第三の工程からの生成物流PG3からOCTSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG4)が発生し、
e)第五の工程において、第二の工程に由来する生成物流(PG2)又は第三の工程に由来する生成物混合物(PG3)又は第四の工程に由来する生成物混合物(PG4)又は
生成物流PG2とPG3との混合物又は生成物流PG2とPG4との混合物を塩化水素と反応させ、その際、生成物流(PHS)を得て、かつ
f)後続の第六の工程において、そのようにして得られた生成物流(PHS)からトリクロロシランを分離し、かつ留まっているSTC含有残液を排出するか又は原料成分としてプロセスの第一の工程に返送することによって行えることを見出した。
a)第一の工程において、四塩化ケイ素とシリコンとを、800℃超〜1450℃の温度で反応させ、
b)第二の工程において、そのようにして得られた第一の工程からの生成物流(PS)を冷却し、その際、生成物流(PG2)が発生し、
c)任意に第三の工程において、生成物流(PG2)からSTC及びHCDSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG3)が発生し、
d)任意に第四の工程において、第三の工程からの生成物流PG3からOCTSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG4)が発生し、
e)第五の工程において、第二の工程に由来する生成物流(PG2)又は第三の工程に由来する生成物混合物(PG3)又は第四の工程に由来する生成物混合物(PG4)又は
生成物流PG2とPG3との混合物又は生成物流PG2とPG4との混合物を塩化水素と反応させ、その際、生成物流(PHS)を得て、かつ
f)後続の第六の工程において、そのようにして得られた生成物流(PHS)からトリクロロシランを分離し、かつ留まっているSTC含有残液を排出するか又は原料成分としてプロセスの第一の工程に返送することによって、トリクロロシラン及び任意にHCDS並びにOCTSを製造する方法である。
− アルキル官能化された第二級、第三級及び/若しくは第四級アミノ基を有するアミノ官能化された化合物、殊に一般式V
(CzH2z+1O)3Si(CH2)dN(CgH2g+1)2 (V)
で示され、zは1〜4であり、gは1〜10であり、かつdは1〜3であるアミノアルコキシシラン又は特に有利にはその少なくとも1つの加水分解生成物及び/又は縮合生成物又はそれより誘導された、担体材料に化学的に結合したモノマー若しくはオリゴマーアミノシラン、特に有利には、式V中で、互いに無関係にz=1〜4、殊に1若しくは2、d=3若しくは2かつg=1〜18であるもの、又は
− 式VI又はVII
NHkR3-k (VI)で示され、k=0、1若しくは2であり、ここで、基Rは、同じか若しくは異なっており、1〜20個の炭素原子を有する脂肪族直鎖状若しくは分枝鎖状又は脂環式又は芳香族の炭化水素に相当し、好ましくは、Rは少なくとも2個の炭素原子を有し、又は
[NHlR1 4-l]+Z- (VII)で示され、l=0、1、2若しくは3であり、ここで、基R1は、同じか若しくは異なっており、1〜18個の炭素原子を有する脂肪族直鎖状若しくは分枝鎖状又は脂環式又は芳香族の炭化水素に相当し、好ましくは、R1は少なくとも2個の炭素原子を有し、かつZはアニオン、好ましくはハロゲン化物イオンである、前記式VI又はVIIの炭化水素置換アミン、又は
− 第三級アミン基を有するジビニルベンゼン架橋ポリスチレン樹脂
である。
図1は、本発明の有利なプロセススキームを表す。
シリコン塊(金属シリコン、Si含有率>98%、直径約5mm)に、炭化ケイ素管内でSiCl4蒸気を約50mbarの圧力で送った。反応管を1150℃に電気加熱し、そして反応ゾーンから発生するガスを、水冷された冷却区間により素早く冷却した。凝縮を、第一の段階においてブライン冷却(−25℃)下で行った。少量のSiCl4を、真空ポンプの保護のために第二の段階において液体窒素で凝縮した。第一の凝縮段階で得られた凝縮物を連続的に取り出した。得られた凝縮物の組成をGCによって調べた。
実施例1により得られたクロロシラン混合物1070gを、低沸点留分(SiCl4)の分離のために初期蒸留した。そのために、クロロシラン混合物を、115cmの塔(Sulzer LAB−EX 金属充填物)及び強力冷却装置を備えた蒸留装置中で80℃の塔底温度及び350mbarの減圧にて、SiCl4がもはや留出しなくなるまで蒸留する(塔頂温度約26℃)。
留出液の質量:452.6g
残液の質量:615.4g
実施例2に従って蒸留残液中で得られたクロロシラン混合物を、Si2Cl6の分離のために、上記蒸留装置中でさらに蒸留した。約105℃の塔底温度及び11mbarの圧力で、35〜42℃の塔頂温度にてSi2Cl6を留出させた。約108℃の塔底温度及び<1mbarの圧力で、51〜57℃の塔頂温度にてSi3Cl8が蒸留した。
質量:留分1:82.2g;留分2:330.1g;残液195.7g
135gのNaClを、HClの製造のために、滴下漏斗及び排気管を備えた1Lの三ツ口フラスコに初めに装入し(反応容器1)、そして270mlの濃H2SO4を滴下漏斗に注入した。撹拌装置、ガス導入管及び還流冷却装置を備えた2Lの三ツ口フラスコ(反応容器3)に、指示薬(フェノールフタレイン)を混ぜたナトリウムメトキシド溶液(30%)を初めに装入した。このフラスコを、反応全体を通して氷冷した。
ガス導入管、温度計、排気管及び留出液受器を有するカラムヘッドを備えた250mlの四ツ口フラスコに、下記の触媒球24gを初めに装入し、そして主にオクタクロロトリシランを含有する混合物72.5g(組成はGCの表を参照されたい、SiCl4を、実施例1により得られたクロロシラン混合物から、すでに実施例2に従って留去し、かつSi2Cl6の最も大きな部分を、実施例3に従って留去した)を加えた。
反応フラスコ(2)を油浴により90℃に加熱し、そして硫酸を塩化ナトリウムに滴下した。滴下速度は、試験期間全体を通して、約3l/hのHClの定常流となるように調整した。ガス状塩化水素をガス導入管によりフラスコの下部で触媒小球に吹き込んだ。ガス流を、還流冷却装置を介して中和のために、冷却されたナトリウムメトキシド溶液に導入した。
20分の反応期間後、反応フラスコ中で還流が始まり、そして液体を蒸留受器に溜めた。
2時間の反応期間後、試験を中断した。受器には6.8gの留出液が集まった。
受器中の留出液、反応フラスコ中に残留した液体(残液)及び出発材料のGC試験を実施した。
210gのNaClを、HClの製造のために、滴下漏斗及び排気管を備えた1Lの三ツ口フラスコに初めに装入し(反応容器1)、そして420mlの濃H2SO4を滴下漏斗に注入した。撹拌装置、ガス導入管及び還流冷却装置を備えた2Lの三ツ口フラスコ(反応容器3)に、指示薬(フェノールフタレイン)を混ぜたナトリウムメトキシド溶液(30%)を初めに装入した。このフラスコを、反応全体を通して氷冷した。
ガス導入管、温度計、セプタム、排気管及び留出液受器を有するカラムヘッドを備えた250mlの四ツ口フラスコに、下記の触媒球24gを初めに装入し、そして主にデカクロロテトラシラン及び高次オリゴマーを含有する混合物96.6g(組成はGCの表を参照されたい、SiCl4、Si2Cl6及びSi3Cl8を、実施例1により得られたクロロシラン混合物から、すでに実施例2及び実施例3に従って留去した)を加えた。
反応フラスコ(2)を油浴によりまず85℃に、1時間後に95℃に加熱し、そして硫酸を塩化ナトリウムに滴下した。滴下速度は、試験期間全体を通して、約2.5l/hのHClの定常流となるように調整した。ガス状塩化水素をガス導入管によりフラスコの下部で触媒小球に吹き込んだ。ガス流を、還流冷却装置を介して中和のために、冷却されたナトリウムメトキシド溶液に導入した。
2時間の反応期間後、反応フラスコ中で非常に弱い還流が始まった。約3時間からゆっくりと液体が留出し、かつ蒸留受器に溜めた。
4時間の反応期間後、試験を中断した。受器には6.0gの留出液が集まった。
1、2及び4時間の反応期間後、セプタムを介してサンプルを反応フラスコから取り出した(残液1〜3)。受器中の留出液、反応フラスコからのサンプル及び出発材料のGC試験を実施した。
**ヘキサクロロジシランを、HClによる長い連続的なストリッピングに基づき、明らかに高い沸点にも関わらず相応して受器中に溜めた。
600gの含水エタノール(H2O含有率=5%)及び54gの3−ジイソブチルアミノプロピルトリメトキシシランに、300gの触媒担体(SiO2球、φ約5mm)を初めに装入した。反応混合物を123〜128℃の油浴温度で5時間加熱した。冷却後、上澄み液体を吸引し、球を600gの無水エタノールで洗浄した。1時間後、液体を再び吸引した。球を305〜35mbarの圧力及び110〜119℃の浴温度で1時間、事前に乾燥し、引き続き<1mbarで9.5時間乾燥した。
1a H2SO4を有する滴下漏斗
1b NaCl
1c ロータメーター
2 触媒及び分解されるべきポリシラン混合物を有する反応容器
2a 油浴を有する加熱板
2b 冷却装置
2c 蒸留受器
3 易揮発性分解生成物を処理するためのナトリウムメトキシド溶液を有する反応容器
3a 撹拌装置
3b 冷却装置
3c 排ガス処理
Claims (11)
- a)第一の工程において、四塩化ケイ素とシリコンとを、800℃超〜1450℃の温度で反応させ、
b)第二の工程において、そのようにして得られた第一の工程からの生成物流(PS)を冷却し、その際、生成物流(PG2)が発生し、
c)任意に第三の工程において、生成物流(PG2)からSTC及びHCDSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG3)が発生し、
d)任意に第四の工程において、第三の工程からの生成物流PG3からOCTSを分離し、その際、残留物若しくは残液生成物として生成物混合物(PG4)が発生し、
e)第五の工程において、第二の工程に由来する生成物流(PG2)又は第三の工程に由来する生成物混合物(PG3)又は第四の工程に由来する生成物混合物(PG4)又は生成物流PG2とPG3との混合物又は生成物流PG2とPG4との混合物を塩化水素と反応させ、その際、生成物流(PHS)を得て、かつ
f)後続の第六の工程において、そのようにして得られた生成物流(PHS)からトリクロロシランを分離し、かつ留まっているSTC含有残液を排出するか又は原料成分としてプロセスの第一の工程に返送することによる、トリクロロシランの製造法。 - 第一の工程を、固定床反応器又は流動層反応器中で、0.1〜10barの圧力にて、かつ本質的に酸素及び水の排除下で実施することを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 第一の工程からの前記生成物流PSを、0.1cm/s〜1m/sの流速で送ることを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
- 第一の工程におけるSTCとSiとの前記反応を、触媒の存在下で実施、その際、該触媒を、元素周期律表の遷移金属又は第1主族〜第5主族の少なくとも1つの元素又は少なくとも1つの元素の化合物から選択していることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 第一の工程における前記反応器に、少なくとも50質量%のSiのSi含有率を有する少なくとも1つのシリコン品質で連続的又は不連続的に加えることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 第二の工程において、第一の工程からの前記生成物流(PS)を熱交換器の使用下で冷却し、かつ/又は液体STCの供給によって急冷し、その際、結果生じる前記生成物流(PG2)が、好ましくは50℃より高い温度、好ましくは220℃より高い温度を有することを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 第三の工程において、分留によってSTC及びHCDSを前記生成物流(PG2)から分離し、STCを第一の工程及び/又は第二の工程に返送し、かつ残留物若しくは残液生成物(PG3)を任意に第四の工程又は第五の工程に供給することを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 第四の工程において、第三の工程からの前記残留物(PG3)から分留によってOCTSを分離し、かつ留まっている残留物若しくは残液生成物(PG4)を第五の工程に供給することを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 第五の工程における前記反応を、20℃〜200℃の温度で、10mbar〜10barの圧力で実施し、その際、HClを過剰量で用い、かつ前記反応を任意に触媒の存在下で実施することを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。
- 前記反応を、シリカに担持されているジイソブチルアミノプロピルトリメトキシシランの存在下で実施することを特徴とする、請求項9記載の方法。
- 第六の工程において、TCSの分離後に、本質的にSTCを含有する残留物若しくは残液生成物をプロセスに返送することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
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