JP2013537875A - 複素環化合物 - Google Patents

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Abstract

一般式（１）：
[化１]

［式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＨ２−を示す。
Ｒ１は、水素；低級アルキル基；ヒドロキシ低級アルキル基；又は保護基又はトリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基を示す。
Ｒ２およびＲ３は、同一又は異なってそれぞれ、独立して、水素又は低級アルキル基；又はＲ２とＲ３が結合してシクロＣ３−Ｃ８アルキル基を形成する基を示す。
Ｒ４は、芳香族環基又は複素環基を示す。
上記、芳香族環又は複素環基上に、１個以上の任意の置換基を有していてもよい。]
で表される複素環化合物またはその塩。
【選択図】なし

Description

本発明は、新規な複素環化合物に関する。
セロトニン、ノルエピネフリン及びドパミンとして知られる３種のモノアミンは、生体内で神経伝達物質として機能し、そのため、これらモノアミンの再取り込み阻害作用を有する薬剤は、中枢神経系ないし末梢神経系に関わる疾患の治療薬として広く用いられている。
今日まで、うつ病の治療に用いられている薬物の多くは、ノルエピネフリン又はセロトニン再取り込みを選択的に阻害するものである。そのような薬剤としては、例えば、イミプラミン（第一世代の抗うつ薬）、マプロチリン（第二世代の抗うつ薬）、フルオキセチン（Ｆｌｕｏｘｅｔｉｎｅ）で代表される選択的セロトニン取り込み阻害薬（ＳＳＲＩ、第三世代の抗うつ薬）、ベンラファキシン（Ｖｅｎｌａｆａｘｉｎｅ）で代表されるセロトニン及び／又はノルエピネフリン再取り込み阻害剤（ＳＮＲＩ、第四世代の抗うつ薬）等が挙げられる（非特許文献１）。
しかしながら、これらの薬剤は、いずれも、治療効果が発現されるまで３週間以上の長期間を必要とし、しかも３０％程度のうつ病患者に対して十分な治療効果を発現することができない（非特許文献２）。
三浦貞則，臨床精神薬理，2000，3:311-318 Phil Skolnick，European Journal of Pharmacology，1999，375: 31-40
発明の開示
本発明は、公知の抗うつ薬に比べ幅広い治療スペクトラムを有し、短期間で十分な治療効果を発現することができる薬剤を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式（１）で表される複素環化合物を所望の薬剤の製造に使用できることを見い出した。本発明は、このような知見に基づき完成されたものである。
本発明は、下記項１〜１５に示す複素環化合物又はその塩、該化合物を含む医薬組成物または該化合物の使用、疾病の治療方法もしくは予防方法又は該化合物の製造方法を提供する。
項１．
一般式（１）：

［式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＨ２−を示す。
Ｒ１は、水素；低級アルキル基；ヒドロキシ低級アルキル基；又は保護基又はトリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基を示す。
Ｒ２およびＲ３は、同一又は異なってそれぞれ、独立して、水素又は低級アルキル基；又はＲ２とＲ３が結合してシクロＣ３−Ｃ８アルキル基を形成する基を示す。
Ｒ４は、芳香族環基又は複素環基を示す。
上記、芳香族環又は複素環基上に、１個以上の任意の置換基を有していてもよい。]
で表される複素環化合物またはその塩。
項２．
Ｒ４が、下記で示されるいずれかの基を示す、項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
（１） フェニル基
（２） インドリル基
（３） ベンゾチエニル基
（４） ナフチル基
（５） ベンゾフリル基
（６） キノリル基
（７） イソキノリル基
（８） ピリジル基
（９） チエニル基
（１０） ジヒドロベンゾオキサジニル基
（１１） ジヒドロベンゾジオキシニル基
（１２） ジヒドロキノリル基
（１３） クロマニル基
（１４） キノキサリニル基
（１５） ジヒドロインデニル基
（１６） ジヒドロベンゾフリル基
（１７） ベンゾジオキソリル基
（１８） インダゾリル基
（１９） ベンゾチアゾリル基
（２０） インドリニル基
（２１） チエノピリジル基、
（２２） テトラヒドロベンゾアゼピニル基
（２３） テトラヒドロベンゾジアゼピニル基
（２４） ジヒドロベンゾジオキセピニル基
（２５） フルオレニル基
（２６） ピリダジニル基
（２７） テトラヒドロキノリル基
（２８） カルバゾリル基
（２９） フェナントリル基
（３０） ジヒドロアセナフチレニル基
（３１） ピロロピリジル基
（３２） アントリル基
（３３） ベンゾジオキシニル基
（３４） ピロリジニル基
（３５） ピラゾリル基
（３６） オキサジアゾリル基
（３７） ピリミジニル基
（３８） テトラヒドロナフチル基
（３９） ジヒドロキナゾリニル基
（４０） ベンゾオキサゾリル基
（４１） チアゾリル基
（４２） キナゾリニル基
（４３） フタラジニル基
（４４） ピラジニル基
（４５） クロメニル基
上記、芳香族環又は複素環上に、下記（１−１）〜（１−４３）から選ばれた置換基を１個以上有していてもよい：
（１−１） ハロゲン原子
（１−２） 低級アルキル基
（１−３） 低級アルカノイル基
（１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
（１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
（１−６） シアノ基
（１−７） 低級アルコキシ基
（１−８） 低級アルキルチオ基
（１−９） イミダゾリル基
（１−１０）トリ低級アルキルシリル基
（１−１１）低級アルキル基を有していてもよいオキサジアゾリル基
（１−１２）オキソ基を有していてもよいピロリジニル基
（１−１３）低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基
（１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
（１−１５）オキソ基
（１−１６）低級アルキル基を有していてもよいピラゾリル基
（１−１７）チエニル基
（１−１８）フリル基
（１−１９）低級アルキル基を有していてもよいチアゾリル基
（１−２０）低級アルキルアミノ基
（１−２１）低級アルキル基を有していてもよいピリミジル基
（１−２２）フェニル低級アルケニル基
（１−２３）ハロゲン原子を有していてもよいフェノキシ基
（１−２４）フェノキシ低級アルキル基
（１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
（１−２６）低級アルキルスルファモイル基
（１−２７）低級アルキル基を有していてもよいピリダジニルオキシ基
（１−２８）フェニル低級アルキル基
（１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
（１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
（１−３１）フェニル低級アルコキシ基
（１−３２）ヒドロキシ基
（１−３３）低級アルコキシカルボニル基
（１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
（１−３５）オキサゾリル基
（１−３６）ピペリジル基
（１−３７）ピロリル基
（１−３８）モルホリニル低級アルキル基
（１−３９）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
（１−４０）ピペリジル低級アルキル基
（１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
（１−４２）モルホリニル基
（１−４３）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル基。
項３．
Ｒ４が、下記で示されるいずれかの基を示す、項２に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
（１） フェニル基
（２） インドリル基
（３） ベンゾチエニル基
（４） ナフチル基
（５） ベンゾフリル基
（６） キノリル基
（７） イソキノリル基
（８） ピリジル基
（９） チエニル基
（１０） ジヒドロベンゾオキサジニル基
（１１） ジヒドロベンゾジオキシニル基
（１２） ジヒドロキノリル基
（１３） クロマニル基
（１４） キノキサリニル基
（１５） ジヒドロインデニル基
（１６） ジヒドロベンゾフリル基
（１７） ベンゾジオキソリル基
（１８） インダゾリル基
（１９） ベンゾチアゾリル基
（２０） インドリニル基
（２１） チエノピリジル基、
（２２） テトラヒドロベンゾアゼピニル基
（２３） テトラヒドロベンゾジアゼピニル基
（２４） ジヒドロベンゾジオキセピニル基
（２５） フルオレニル基
（２６） ピリダジニル基
（２７） テトラヒドロキノリル基
（２８） カルバゾリル基
（２９） フェナントリル基
（３０） ジヒドロアセナフチレニル基
（３１） ピロロピリジル基
（３２） アントリル基
（３３） ベンゾジオキシニル基
（３４） ピロリジニル基
（３５） ピラゾリル基
（３６） オキサジアゾリル基
（３７） ピリミジニル基
（３８） テトラヒドロナフチル基
（３９） ジヒドロキナゾリニル基
（４０） ベンゾオキサゾリル基
（４１） チアゾリル基
（４２） キナゾリニル基
（４３） フタラジニル基
（４４） ピラジニル基
（４５） クロメニル基
上記、芳香族環又は複素環上に、下記（１−１）〜（１−４３）から選ばれた置換基を１〜４個有していてもよい：
（１−１） ハロゲン原子
（１−２） 低級アルキル基
（１−３） 低級アルカノイル基
（１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
（１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
（１−６） シアノ基
（１−７） 低級アルコキシ基
（１−８） 低級アルキルチオ基
（１−９） イミダゾリル基
（１−１０）トリ低級アルキルシリル基
（１−１１）低級アルキル基を１個有していてもよいオキサジアゾリル基
（１−１２）オキソ基を１個有していてもよいピロリジニル基
（１−１３）低級アルコキシ基を１個有していてもよいフェニル基
（１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
（１−１５）オキソ基
（１−１６）低級アルキル基を１個有していてもよいピラゾリル基
（１−１７）チエニル基
（１−１８）フリル基
（１−１９）低級アルキル基を１個有していてもよいチアゾリル基
（１−２０）低級アルキルアミノ基
（１−２１）低級アルキル基を１個有していてもよいピリミジル基
（１−２２）フェニル低級アルケニル基
（１−２３）ハロゲン原子を１個有していてもよいフェノキシ基
（１−２４）フェノキシ低級アルキル基
（１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
（１−２６）低級アルキルスルファモイル基
（１−２７）低級アルキル基を１個有していてもよいピリダジニルオキシ基
（１−２８）フェニル低級アルキル基
（１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
（１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
（１−３１）フェニル低級アルコキシ基
（１−３２）ヒドロキシ基
（１−３３）低級アルコキシカルボニル基
（１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
（１−３５）オキサゾリル基
（１−３６）ピペリジル基
（１−３７）ピロリル基
（１−３８）モルホリニル低級アルキル基
（１−３９）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
（１−４０）ピペリジル低級アルキル基
（１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
（１−４２）モルホリニル基
（１−４３）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル基。
項４．
ｍが２、l及びｎが各々１の整数を示し、Ｘが、−ＣＨ２−を示す；
Ｒ１が、水素；低級アルキル基；ヒドロキシ低級アルキル基；ベンジル基又はトリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基を示す；ならびに
Ｒ４が下記で示されるいずれかの基を示す、項３に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
（１） フェニル基
（２） インドリル基
（４） ナフチル基
（５） ベンゾフリル基
（３１） ピロロピリジル基
上記、芳香族環又は複素環上に、下記から選ばれた置換基を１〜４個有していてもよい：
（１−１） ハロゲン原子
（１−２） 低級アルキル基
（１−３） 低級アルカノイル基
（１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
（１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
（１−６） シアノ基
（１−７） 低級アルコキシ基
（１−８） 低級アルキルチオ基
（１−９） イミダゾリル基
（１−１０）トリ低級アルキルシリル基
（１−１１）低級アルキル基を１個有していてもよいオキサジアゾリル基
（１−１２）オキソ基を１個有していてもよいピロリジニル基
（１−１３）低級アルコキシ基を１個有していてもよいフェニル基
（１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
（１−１５）オキソ基
（１−１６）低級アルキル基を１個有していてもよいピラゾリル基
（１−１７）チエニル基
（１−１８）フリル基
（１−１９）低級アルキル基を１個有していてもよいチアゾリル基
（１−２０）低級アルキルアミノ基
（１−２１）低級アルキル基を１個有していてもよいピリミジル基
（１−２２）フェニル低級アルケニル基
（１−２３）ハロゲン原子を１個有していてもよいフェノキシ基
（１−２４）フェノキシ低級アルキル基
（１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
（１−２６）低級アルキルスルファモイル基
（１−２７）低級アルキル基を１個有していてもよいピリダジニルオキシ基
（１−２８）フェニル低級アルキル基
（１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
（１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
（１−３１）フェニル低級アルコキシ基
（１−３２）ヒドロキシ基
（１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
（１−３５）オキサゾリル基
（１−３６）ピペリジル基
（１−３７）ピロリル基
（１−３８）モルホリニル低級アルキル基
（１−３９）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
（１−４０）ピペリジル低級アルキル基
（１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
（１−４２）モルホリニル基
（１−４３）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル基。
項５．
Ｒ１が水素を示す；
Ｒ２およびＲ３が、同一又は異なってそれぞれ、独立して、低級アルキル基を示す；又はＲ２とＲ３が結合してシクロＣ３−Ｃ８アルキル基を形成する基を示す；および
Ｒ４が下記で示されるいずれかの基を示す、項４に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
（１） フェニル基
（２） インドリル基
（４） ナフチル基
（５） ベンゾフリル基
（３１） ピロロピリジル基
上記、芳香族環又は複素環上に、下記から選ばれた置換基を１〜２個有していてもよい：
（１−１） ハロゲン原子
（１−２） 低級アルキル基
（１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
（１−６） シアノ基
（１−７） 低級アルコキシ基。
項６．
以下の群から選ばれる項５に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
（４ａＳ，８ａＲ）−１−（４−クロロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
２−クロロ−４−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）ベンゾニトリル、
（４ａＳ，８ａＲ）−１−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−フルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
５−（（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−１−メチル−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル、
（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−４’−（７−メトキシベンゾフラン−４−イル）オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］、
（４ａＳ，８ａＲ）−１−（６，７−ジフルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
５−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル、
（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
６−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−ジメチルデカヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−２−ナフトニトリル、
（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリン及び
（４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−（ジフルオロメトキシ）−３−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン。
項７．
有効成分として項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩、及び薬理的に許容される担体を含有する医薬組成物。
項８．
項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩を有効成分として含有する、セロトニン、ノルエピネフリン又はドパミンの神経伝達の低下に伴う障害の予防及び／又は治療剤。
項９．
障害が、うつ病；適応障害による抑うつ症状；適応障害による不安、各種疾患に伴う不安、全般性不安障害、恐怖症、強迫性障害、パニック障害、心的外傷後ストレス障害、急性ストレス障害、心気症、解離性健忘症、回避性人格障害、身体醜形障害、摂食障害、肥満症、化学物質依存症、疼痛、線維筋痛症、アルツハイマー病、記憶障害、パーキンソン病、むずむず脚症候群、内分泌障害、血管痙攣、小脳性運動失調、胃腸管障害、統合失調症の陰性症候群、月経前症候群、緊張性尿失禁、トウレット症候群、注意欠陥多動性障害（ＡＤＨＤ）、自閉症、アスペルガー症候群、衝動性調節障害、抜毛癖、盗癖、ギャンブル依存症、群発頭痛、片頭痛、慢性発作性片頭痛、慢性疲労、早発射精、男性インポテンス、ナルコレプシー、原発性過眠症、脱力発作、睡眠時無呼吸症候群及び頭痛からなる群から選ばれる障害である項８に記載の予防及び／又は治療剤。
項１０．
うつ病が、大うつ病性障害；双極Ｉ型障害；双極ＩＩ型障害；混合状態；気分変調性障害；ラピッド・サイクラー；非定型うつ病；季節性感情障害；産後うつ病；軽症うつ病；反復性短期うつ病性障害；難治性うつ病・慢性うつ病；重複うつ病；アルコール誘発性気分障害；混合性不安抑うつ障害；クッシング症候群、甲状腺機能低下症、副甲状腺機能亢進症、アジソン病、無月経・乳汁分泌症候群、パーキンソン病、アルツハイマー病、脳血管性認知症、脳梗塞、脳出血、くも膜下出血、糖尿病、ウィルス感染症、多発性硬化症、慢性疲労症候群、冠動脈疾患、疼痛、癌等の種々の身体疾患に伴ううつ病；中年期のうつ病；老年期うつ病；小児・思春期のうつ病及びインターフェロン等の薬物誘発性うつ病からなる群から選ばれるうつ病である項９記載の予防及び／又は治療剤。
項１１．
各種疾患に伴う不安が、頭部外傷、脳の感染症、内耳障害、心不全、不整脈、副腎機能亢進症、甲状腺機能亢進症、喘息及び慢性閉塞性肺疾からなる群から選ばれる不安である項９に記載の予防及び／又は治療剤。
項１２．
疼痛が、慢性疼痛、心因性疼痛、神経因性疼痛、幻肢痛、帯状疱疹後神経痛、外傷性頸部症候群、脊髄損傷痛、三叉神経痛及び糖尿病性神経障害からなる群から選ばれる疼痛である項９に記載の予防及び／又は治療剤。
項１３．
項１〜項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩の、薬剤としての使用。
項１４．
項１〜項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩の、セロトニン再取り込み阻害剤及び／又はノルエピネフリン再取り込み阻害剤及び／又はドパミン再取り込み阻害剤としての使用。
項１５．
項１〜項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩を、人又は動物に投与することを含む、セロトニン、ノルエピネフリン又はドパミンの神経伝達の低下に伴う障害を治療及び／又は予防する方法。
項１６．
一般式（１）

［式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は項１における定義と同じ］で表される複素環化合物又はその塩の製造方法であって、一般式

[式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は項１における定義と同じ]で表される化合物と一般式

[式中、Ｒ４及びＸ１は項１における定義と同じ。]で表される化合物とを反応させる工程を含む、製造方法。
前記一般式において示される各基は、具体的には次の通りである。
低級なる語は、特に断りのない限り、炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくは炭素数１〜３）の基を意味するものとする。
複素環基としては、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子を含む飽和もしくは不飽和の単環又は多環複素環基が挙げられる。より好ましい複素環基は、次のような複素環基である：
１〜４個の窒素原子を含む、不飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基及びそのＮ−オキシド、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基（例えば、４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル基、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリル基、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル基等）、テトラゾリル基（例えば、１Ｈ−テトラゾリル基、２Ｈ−テトラゾリル基等）、ジヒドロトリアジニル基（例えば、４，５−ジヒドロ−１，２，４−トリアジニル基、２，５−ジヒドロ−１，２，４−トリアジニル基等）等が挙げられる。好ましくは、イミダゾリル基、ピリダジニル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジル基又はピラゾリル基等が挙げられる。
１〜４個の窒素原子を含む、飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、アゼチジニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジニル基等が挙げられる。好ましくは、ピロリジニル基が挙げられる。
１〜５個の窒素原子を含む、部分飽和又は不飽和の縮合された７〜１２員のヘテロ環基、例えば、インドリル基、ジヒドロインドリル基（例えば、２，３−ジヒドロインドリル基等）、イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、ジヒドロイソキノリル基（例えば、３，４−ジヒドロ−１Ｈ−イソキノリル基等）、テトラヒドロキノリル基、テトラヒドロイソキノリル基（例えば、１，２，３，４−テトラヒドロ−１Ｈ−イソキノリル基、５，６，７，８−テトラヒドロイソキノリル基等）、カルボスチリル基、ジヒドロカルボスチリル基（例えば、３，４−ジヒドロカルボスチリル基等）、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基（例えば、テトラゾロ［１，５−ｂ］ピリダジニル基等）、ジヒドロトリアゾロピリダジニル基、イミダゾピリジル基（例えば、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジル基等）、ナフチリジニル基、シンノリニル基、キノキサリニル基、ピラゾロピリジル基（例えば、ピラゾロ［２，３−ａ］ピリジル基等）、ピロロピリジル基、カルバゾリル基、インドリニル基、テトラヒドロベンゾジアゼピニル基、テトラヒドロベンゾアゼピニル基、キナゾリニル基、ジヒドロキナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。好ましくは、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、インドリル基、インダゾリル基、ピロロピリジル基、テトラヒドロキノリル基、カルバゾリル基、インドリニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基、テトラヒドロベンゾジアゼピニル基又はテトラヒドロベンゾアゼピニル基等が挙げられる。
１〜２個の酸素原子を含む、不飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、フリル基等が挙げられる。
１〜３個の酸素原子を含む、部分飽和又は不飽和の縮合された７〜１２員のヘテロ環基、例えば、ベンゾフリル基、ジヒドロベンゾフリル基（例えば、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］フリル基等）、クロマニル基、ベンゾジオキサニル基（例えば、１，４−ベンゾジオキサニル基等）、ジヒドロベンゾキサジニル基（例えば、２，３−ジヒドロベンゾ−１，４−オキサジニル基等）、ベンゾジオキソリル基（例えば、ベンゾ［１，３］ジオキソリル基等）、ベンゾジオキシニル基、ジヒドロベンゾジオキシニル基、ジヒドロベンゾジオキセピニル基等が挙げられる。好ましくはベンゾフリル基、ベンゾジオキシニル基、ベンゾジオキソリル基、ジヒドロベンゾフリル基、ジヒドロベンゾジオキシニル基、ジヒドロベンゾジオキセピニル基、クロメニル基又はクロマニル基が挙げられる。
１〜２個の酸素原子及び１〜３個の窒素原子を含む、不飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基（例えば、１，２，４−オキサジアゾリル基、１，３，４−オキサジアゾリル基、１，２，５−オキサジアゾリル基等）。好ましくは、オキサゾリル、オキサジアゾリル基が挙げられる。
１〜２個の酸素原子及び１〜３個の窒素原子を含む、飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、モルホリニル基等が挙げられる。
１〜２個の酸素原子及び１〜３個の窒素原子を含む、部分飽和又は不飽和の縮合された７〜１２員のヘテロ環基、例えば、ベンゾキサゾリル基、ベンゾキサジアゾリル基、ベンズイソキサゾリル基、フロピリジル基（例えば、フロ［２，３−ｂ］ピリジル基、フロ［３，２−ｃ］ピリジル基等）、ジヒドロベンゾオキサジニル基等が挙げられる。好ましくは、ベンゾオキサゾリル基、ジヒドロベンゾオキサジニル基が挙げられる。
１〜２個の硫黄原子及び１〜３個の窒素原子を含む、不飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、チアゾリル基、１，２−チアゾリル基、チアゾリニル基、チアジアゾリル基（例えば、１，２，４−チアジアゾリル基、１，３，４−チアジアゾリル基、１，２，５−チアジアゾリル基、１，２，３−チアジアゾリル基等）等が挙げられる。好ましくは、チアゾリル基が挙げられる。
１〜２個の硫黄原子及び１〜３個の窒素原子を含む、飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、チアゾリジニル基等が挙げられる。
１個の硫黄原子を含む、不飽和の３〜８員、好ましくは５又は６員のヘテロ単環、例えば、チエニル基等が挙げられる。
１〜３個の硫黄原子を含む、不飽和の縮合された７〜１２員のヘテロ環基、例えば、ベンゾチエニル基（例えば、ベンゾ［ｂ］チエニル基等）等が挙げられる。
１〜２個の硫黄原子及び１〜３個の窒素原子を含む、部分飽和又は不飽和の縮合された７〜１２員のヘテロ環基、例えば、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、チエノピリジル基（例えば、チエノ［２，３−ｂ］ピリジル基、チエノ［２，３−ｃ］ピリジル基、チエノ［３，２−ｃ］ピリジル基等）、イミダゾチアゾリル基（例えば、イミダゾ［２，１−ｂ］チアゾリル基等）、ジヒドロイミダゾチアゾリル基（例えば、２，３−ジヒドロイミダゾ［２，１−ｂ］チアゾリル基等）、チエノピラジニル基（例えば、チエノ［２，３−ｂ］ピラジニル基等）等が挙げられる。好ましくは、チエノピリジル基又はベンゾチアゾリル基が挙げられる。
ここで、前記複素環基は、１個以上の適当な置換基が置換されていてもよい。
芳香族環基としては、例えばＣ６−１４アリール基などが挙げられる。該アリール基の好適な例としては、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル、ビフェニリル、インデニルなどが挙げられる。なかでもフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、などが好ましい。該アリール基は、部分的に飽和されていてもよく、部分的に飽和されたアリール基としては、例えばジヒドロインデニル、フルオレニル、ジヒドロアセナフチレニル、テトラヒドロナフチルなどが挙げられる。ここで、前記複素環基は、１個以上の適当な置換基が置換されていてもよい。
飽和炭化水素基としては、例えば低級アルキル基、シクロＣ３−Ｃ８アルキル基等が挙げられる。
不飽和炭化水素基としては、例えば低級アルケニル、低級アルキニル基、フェニル基等が挙げられる。
特性基は、炭素-炭素結合以外の結合で母体構造に直接結合している基（水素以外の原子または原子団）、ならびに−Ｃ≡Ｎと＞Ｃ＝Ｘ（Ｘ＝Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、ＮＨ、ＮＲ）を総称したものである。特性基としては、例えば、カルボキシ基、カルバモイル基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基等が挙げられる。
任意の置換基としては、上述した複素環基、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、特性基等が挙げられる。好ましくは、上記、項２に記載された（１−１）〜（１−４３）の置換基が挙げられる。
低級アルキル基としては、特に断りのない限り、炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を挙げることができる。より具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−エチルプロピル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、１，２，２−トリメチルプロピル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、イソヘキシル、３−メチルペンチル基等が含まれる。
低級アルコキシ基としては、特に断りのない限り、炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）の直鎖または分岐鎖状のアルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、１−エチルプロポキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、１，２，２−トリメチルプロポキシ、３，３−ジメチルブトキシ、２−エチルブトキシ、イソヘキシルオキシ、３−メチルペンチルオキシ基等が含まれる。
ハロゲン原子としては、特に断りのない限り、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン置換低級アルキル基としては、特に断りのない限り、ハロゲン原子が１〜７個、より好ましくは１〜３個置換した前記例示の低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、ジクロロフルオロメチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、ヘプタフルオロイソプロピル、３−クロロプロピル、２−クロロプロピル、３−ブロモプロピル、４，４，４−トリフルオロブチル、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブチル、４−クロロブチル、４−ブロモブチル、２−クロロブチル、５，５，５−トリフルオロペンチル、５−クロロペンチル、６，６，６−トリフルオロへキシル、６−クロロヘキシル、ペルフルオロヘキシル基等が含まれる。
ハロゲン置換低級アルコキシ基としては、特に断りのない限り、ハロゲン原子が１〜７個、好ましくは１〜３個置換した前記例示の低級アルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ジクロロメトキシ、トリクロロメトキシ、ブロモメトキシ、ジブロモメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、２，２−ジフルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、２−フルオロエトキシ、２−クロロエトキシ、３，３，３−トリフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロプロポキシ、ヘプタフルオロイソプロポキシ、３−クロロプロポキシ、２−クロロプロポキシ、３−ブロモプロポキシ、４，４，４−トリフルオロブトキシ、４，４，４，３，３−ペンタフルオロブトキシ、４−クロロブトキシ、４−ブロモブトキシ、２−クロロブトキシ、５，５，５−トリフルオロペントキシ、５−クロロペントキシ、６，６，６−トリフルオロへキシルオキシ、６−クロロヘキシルオキシ、ペルフルオロヘキシルオキシ基等が含まれる。
シクロＣ３−Ｃ８アルキル基としては、特に断りのない限り、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等が含まれる。
低級アルカノイル基としては、特に断りのない限り、炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）の直鎖または分枝鎖状アルカノイル基を挙げることができる。より具体的には、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ヘキサノイル基等が含まれる。
低級アルキルチオ基としては、特に断りのない限り、炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）の直鎖状または分岐鎖状のアルキルが置換したチオ基を挙げることができる。より具体的には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、イソプロピルチオ、ｎ−ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｎ−ペンチルチオ、１−エチルプロピルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ｎ−ヘキシルチオ、１，２，２−トリメチルプロピルチオ、３，３−ジメチルブチルチオ、２−エチルブチルチオ、イソヘキシルチオ、３−メチルペンチルチオ基等が含まれる。
低級アルケニル基としては、特に断りのない限り、二重結合を１〜３個有する炭素数２〜６（好ましくは炭素数２〜４）の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を挙げることができ、トランス体及びシス体の両者を包含する。より具体的には、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−プロペニル、２−ブテニル、１−ブテニル、３−ブテニル、２−ペンテニル、１−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１，３−ブタジエニル、１，３−ペンタジエニル、２−ペンテン−４−イル、２−ヘキセニル、１−ヘキセニル、５−へキセニル、３−ヘキセニル、４−へキセニル、３，３−ジメチル−１−プロペニル、２−エチル−１−プロペニル、１，３，５−ヘキサトリエニル、１，３−ヘキサジエニル、１，４−ヘキサジエニル基等が含まれる。
ヒドロキシ低級アルキル基としては、特に断りのない限り、ヒドロキシ基を１〜５個、好ましくは１〜３個有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは炭素数１〜４）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、３，４−ジヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシル、３，３−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル、２−メチル−３−ヒドロキシプロピル、２，３，４−トリヒドロキシブチル、ペルヒドロキシヘキシル基等が含まれる。
低級アルキルアミノ基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは、炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を１〜２個を有するアミノ基を挙げることができる。より具体的には、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ基等が含まれる。
低級アルキルスルファモイルとしては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは、炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を１〜２個を有するスルファモイル基を挙げることができる。より具体的には、メチルスルファモイル、エチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、エチルメチルスルファモイル基等が含まれる。
トリ低級アルキルシリル基としては、例えば、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、トリメチルシリル、ｎ−ブチルエチルメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジプロピルシリル、ｎ−ペンチルジエチルシリル、ｎ−ヘキシルｎ−プロピルメチルシリル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基が３個置換したシリル基を例示できる。
トリ（低級アルキル）シリルオキシ低級アルキル基としては、特に断りのない限り、低級アルキル部分が前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは炭素数１〜４）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）であるトリ（低級アルキル）シリルオキシ低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、トリメチルシリルオキシメチル、１−（又は２−）トリメチルシリルオキシエチル、１−（又は２−又は３−）トリメチルシリルオキシプロピル、トリエチルシリルオキシメチル、１−（又は２−）トリエチルシリルオキシエチル、１−（又は２−又は３−）トリエチルシリルオキシプロピル、トリイソプロピルシリルオキシメチル、１−（又は２−）トリイソプロピルシリルオキシエチル、１−（又は２−又は３−）トリイソプロピルシリルオキシプロピル基等が含まれる。
フェノキシ低級アルキル基は、特に断りのない限り、フェノキシ基を１〜３個、好ましくは1個有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは、炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、フェノキシメチル、１−フェノキシエチル、２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル、２−フェノキシプロピル、４−フェノキシブチル、５−フェノキシペンチル、４−フェノキシペンチル、６−フェノキシヘキシル、２−メチル−３−フェノキシプロピル、１，１−ジメチル−２−フェノキシエチル等が含まれる。
フェニル低級アルコキシ基としては、特に断りのない限り、フェニル基を１〜３個、好ましくは1個有する前記例示の低級アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは、炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３）の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基）を挙げることができる。より具体的には、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、１−フェニルエトキシ、３−フェニルプロポキシ、４−フェニルブトキシ、５−フェニルペンチルオキシ、６−フェニルヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−フェニルエトキシ、２−メチル−３−フェニルプロポキシ基等が含まれる。
フェニル低級アルケニル基としては、特に断りのない限り、フェニル基を１〜３個、好ましくは１個有する前記例示の低級アルケニル基（好ましくは、炭素数２〜６(より好ましくは、炭素数２〜４)の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基）を挙げることができる。より具体例には、スチリル、３−フェニル−２−プロペニル（慣用名：シンナミル）、４−フェニル−２−ブテニル、４−フェニル−３−ブテニル、５−フェニル−４−ペンテニル、５−フェニル−３−ペンテニル、６−フェニル−５−ヘキセニル、６−フェニル−４−ヘキセニル、６−フェニル−３−ヘキセニル、４−フェニル−１，３−ブタジエニル、６−フェニル−１，３，５−ヘキサトリエニル基等が含まれる。
低級アルキルアミノ低級アルキル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキルアミノ基を１〜２個を有する低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、メチルアミノメチル、エチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、１−（又は２−）ジメチルアミノエチル、１−（又は２−又は３−）ジメチルアミノプロピル、ジイソプロピルアミノメチル、１−（又は２−）ジエチルアミノエチル、ビス（ジメチルアミノ）メチル基等が含まれる。
低級アルキルアミノ低級アルコキシ基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキルアミノ基を１〜２個を有する低級アルコキシ基を挙げることができる。より具体的には、メチルアミノメトキシ、エチルアミノメトキシ、ジメチルアミノメトキシ、1−（又は２−）ジメチルアミノエトキシ、1−（又は２−又は３−）ジメチルアミノプロポキシ、ジイソプロピルアミノメトキシ、１−（又は２−）ジエチルアミノエトキシ、ビス（ジメチルアミノ）メトキシ基等が含まれる。
ジヒドロベンゾジオキシニル基としては、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］ジオキシニル、３，４−ジヒドロベンゾ［ｃ］［１，２］ジオキシニル基、２，４−ジヒドロベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキシニル等が含まれる。
イミダゾリル低級アルキル基としては、イミダゾリル基を１〜３個、好ましくは１個有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは炭素数１〜４）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、１−（又は２−又は４−又は５−）イミダゾリルメチル、１−（又は２−）｛１−（又は２−又は４−又は５−）イミダゾリル｝エチル、１−（又は２−又は３−）｛１−（又は２−又は４−又は５−）イミダゾリル｝プロピル基が含まれる。
ジヒドロインデニル基としては、（１−、２−、４−、又は５−）−１，２−ジヒドロインデニル基等が含まれる。
ジヒドロキノリル基としては、１，２−ジヒドロキノリル、３，４−ジヒドロキノリル、１，４−ジヒドロキノリル、４ａ，８ａ−ジヒドロキノリル、５，６−ジヒドロキノリル、７，８−ジヒドロキノリル、５，８−ジヒドロキノリル基等が含まれる。
フルオレニル基としては、１Ｈ−フルオレニル、２Ｈ−フルオレニル、３Ｈ−フルオレニル、４ａＨ−フルオレニル、５Ｈ−フルオレニル、６Ｈ−フルオレニル、７Ｈ−フルオレニル、８Ｈ−フルオレニル、８ａＨ−フルオレニル、９Ｈ−フルオレニル基等が含まれる。
ジヒドロベンゾフリル基としては、２，３−ジヒドロ−（２−、３−、４−、５−、６−、又は７−）ベンゾフリル基等が含まれる。
ジヒドロベンゾオキサジニル基としては、（２−、３−、４−、５−、６−、７−、又は８−）３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１．４］オキサジニル、（１−、２−、４−、５−、６−、７−、又は８−）２，４−ジヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１．３］オキサジニル基等が含まれる。
テトラヒドロベンゾジアゼピニル基としては、（１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−、又は９−）２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１．４］ジアゼピニル、（１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−、又は９−）２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１．４］ジアゼピニル基等を挙げることができる。
テトラヒドロベンゾジアゼピニル基の例には、（１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−、又は９−）２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１．４］ジアゼピニル、（１−、２−、３−、４−、５−、６−、７−、８−、又は９−）２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｅ］［１．４］ジアゼピニル基等が含まれる。
ジヒドロベンゾジオキセピニル基としては、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，５−ベンゾジオキセピニル、４，５−ジヒドロ−３Ｈ−１，２−ベンゾジオキセピニル、３，５−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾジオキセピニル等が含まれる。
オキソ基を有してもよいピロリジニル基としては、特に断りのない限り、オキソ基を１〜２個（好ましくは１個）有していてよいピロリジニル基が挙げられる。より具体的には、（１−、２−、又は３−）ピロリジニル、（２−又は３−）オキソ−１−ピロリジニル、（３−、４−、又は５−）オキソ−２−ピロリジニル、（２−、４−、又は５−）オキソ−３−ピロリジニル基が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいオキサジアゾリル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいオキサジアゾリル基を挙げることができる。より具体的には、５−メチル−１，３，４−オキサジアゾリル、５−エチル−１，３，４−オキサジアゾリル、５−プロピル−１，３，４−オキサジアゾリル、５−ブチル−１，３，４−オキサジアゾリル、５−ペンチル−１，３，４−オキサジアゾリル、５−ヘキシル−１，３，４−オキサジアゾリル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピラゾリル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピラゾリル基を挙げることができる。より具体的には、１−メチル−１Ｈ−ピラゾリル、１−エチル−１Ｈ−ピラゾリル、１−プロピル−１Ｈ−ピラゾリル、１−イソプロピル−１Ｈ−ピラゾリル、１−ブチル−１Ｈ−ピラゾリル、１−ｔｅｒｔ−ブチル−１Ｈ−ピラゾリル、１，３−ジメチル−１Ｈ−ピラゾリル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいチアゾリル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいチアゾリル基を挙げることができる。より具体的には、２−メチルチアゾリル、２−エチルチアゾリル、２−プロピルチアゾリル、２−イソプロピルチアゾリル、２−ブチルチアゾリル、２−ｔｅｒｔブチルチアゾリル、２，５−ジメチルチアゾリル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピリミジル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピリミジル基を挙げることができる。より具体的には、２−メチルチピリミジル、２−エチルピリミジル、２−プロピルピリミジル、２−イソプロピルピリミジル、２−ブチルピリミジル、２−ｔｅｒｔブチルピリミジル、２，４−ジメチルピリミジル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピリダジニル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピリダジニル基を挙げることができる。より具体的には、３−メチルチピリダジニル、３−エチルピリダジニル、３−プロピルピリダジニル、３−イソプロピルピリダジニル、３−ブチルピリダジニル、３−ｔｅｒｔピリダジニル、３，４−ジメチルピリダジニル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピリダジニルオキシ基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピリダジニルが置換したオキシ基を挙げることができる。より具体的には、６−メチルピリダジニル−３−イルオキシ、４−メチルピリダジニル−３−イルオキシ等が含まれる。
ピロリジニル低級アルコキシ基としては、特に断りのない限り、ピロリジニル基を１〜３個、好ましくは１個有する前記例示の低級アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜６（よりこのましくは、炭素数１〜４、さらに好ましくは炭素数１〜３）の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基）を挙げることができる。その具体例としては、（１−、２−又は３−）ピロリジニルメトキシ、２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エトキシ、１−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エトキシ、３−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロポキシ、４−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ブトキシ、５−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ペンチルオキシ、６−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ヘキシルオキシ、１，１−ジメチル−２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エトキシ、２−メチル−３−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロポキシ基等が含まれる。
保護基としては、置換または無置換低級アルカノイル〔たとえばホルミル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチルなど〕、フタロイル、低級アルコキシカルボニル〔たとえば第三級ブトキシカルボニル、第三級アミルオキシカルボニルなど〕、置換または無置換アラルキルオキシカルボニル〔たとえばベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルなど〕、９−フルオレニルメトキシカルボニル、置換または無置換アレーンスルホニル〔たとえばベンゼンスルホニル、トシルなど〕、ニトロフェニルスルフェニル、アラルキル〔たとえばトリチル、ベンジルなど〕、低級アルキルシリル基［たとえばトリイソプロピルシリルなど］などの常用の保護基が挙げられる。
フェニル低級アルキル基としては、特に断りのない限り、フェニル基を１〜３個、好ましくは１個有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６（より好ましくは炭素数１〜４）の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル、６−フェニルヘキシル基等が挙げられる。
モルホリニル低級アルキル基としては、モルホニル基を１〜２個（好ましくは１個）有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、２−モルホリニルメチル、３−モルホリニルメチル、４−モルホリニルメチル、２−（２−モルホリニル）エチル、２−（３−モルホリニル）エチル、２−（４−モルホリニル）エチル、１−（２−モルホリニル）エチル、１−（３−モルホリニル）エチル、１−（４−モルホリニル）エチル、３−（２−モルホリニル）プロピル、３−（３−モルホリニル）プロピル、３−（４−モルホリニル）プロピル、４−（２−モルホリニル）ブチル、４−（３−モルホリニル）ブチル、４−（４−モルホリニル）ブチル、５−（２−モルホリニル）ペンチル、５−（３−モルホリニル）ペンチル、５−（４−モルホリニル）ペンチル、６−（２−モルホリニル）ヘキシル、６−（３−モルホリニル）ヘキシル、６−（４−モルホリニル）ヘキシル、３−メチル−３−（２−モルホリニル）プロピル、３−メチル−３−（３−モルホリニル）プロピル、３−メチル−３−（４−モルホリニル）プロピル、１，１−ジメチル−２−（２−モルホリニル）エチル、１，１−ジメチル−２−（３−モルホリニル）エチル、１，１−ジメチル−２−（４−モルホリニル）エチル基等が含まれる。
ピロリジニル低級アルキル基としては、１〜３個（好ましくは１個）のピロリジニル基を有する、前記例示の低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、（１−、２−又は３−）ピロリジニルメチル、２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エチル、１−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エチル、３−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロピル、４−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ブチル、５−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ペンチル、６−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］ヘキシル、１，１−ジメチル−２−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］エチル、２−メチル−３−［（１−、２−又は３−）ピロリジニル］プロピル基等を挙げることができる。
ピペリジル低級アルキル基としては、ピペリジル基を１〜２個（好ましくは１個）有する前記例示の低級アルキル基（好ましくは炭素数１〜６の直鎖または分枝鎖状アルキル基）を挙げることができる。より具体的には、例えば、（１−、２−、３−または４−）ピペリジルメチル、２−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］エチル、１−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］エチル、３−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］プロピル、４−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］ブチル、１，１−ジメチル−２−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］エチル、５−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］ペンチル、６−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］ヘキシル、１−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］イソプロピル、２−メチル−３−［（１−、２−、３−または４−）ピペリジル］プロピル基等が含まれる。
低級アルコキシカルボニル基としては、低級アルコキシ部分が前記例示のものであり、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシカルボニル基を挙げることができる。より具体的には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｎ−ペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシ、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル、イソヘキシルオキシカルボニル、３−メチルペンチルオキシカルボニル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピペラジニル基を挙げることができる。より具体的には、２−メチルピペラジニル、４−メチルピペラジニル、２−エチルピペラジニル、２−プロピルピペラジニル、２−イソプロピルピペラジニル、２−ブチルピペラジニル、２−ｔｅｒｔブチルピペラジニル、２，４−ジメチルピペラジニル基等が含まれる。
低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルキル基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいピペラジニル低級アルキル基を挙げることができる。より具体的には、１−（４−メチルピペラジニル）メチル、１−（２−メチルピペラジニル）メチル、２−（１−メチルピペラジニル）エチル、３−（１−メチルピペラジニル）プロピル、４−（１−メチルピペラジニル）ブチル等が含まれる。
低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基としては、特に断りのない限り、前記例示の低級アルコキシ基を１−２個（好ましくは１個）有していてもよいフェニル基を挙げることができる。より具体的には、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−プロポキシフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ブトキシフェニル、４−ｔｅｒｔブトキシフェニル等が含まれる。ハロゲン原子を有していてもよいフェノキシ基としては、特に断りのない限り、前記例示のハロゲン原子を１−４個（好ましくは１個）有していてもよいフェノキシ基を挙げることができる。より具体的には、４−フルオロフェノキシ、３，４−ジフルオロフェノキシ、３，４，５−トリフルオロフェノキシ、３−クロロ−４，５−ジフルオロフェノキシ等が含まれる。
テトラヒドロキノリル基としては、例えば、１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、５，６，７，８−テトラヒドロキノリル、４ａ，５，８，８ａ−テトラヒドロキノリル、３，４，４ａ，８ａ−テトラヒドロキノリル、４ａ，５，８，８ａ−テトラヒドロキノリル、４ａ，５，６，７−テトラヒドロキノリル等が挙げられる。
ジヒドロアセナフチレニル基としては、例えば、１，２−ジヒドロアセナフチレニル、２ａ１，３−ジヒドロアセナフチレニル、５、６−ジヒドロアセナフチレニル、３，７−−ジヒドロアセナフチレニル、２ａ１，６−ジヒドロアセナフチレニル、１，２ａ１−ジヒドロアセナフチレニル、６，８ａ−ジヒドロアセナフチレニル等が挙げられる。より好ましくは、１，２−ジヒドロアセナフチレニル基が挙げられる。
テトラヒドロナフチル基としては、例えば、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル、１，２，３，５−テトラヒドロナフチル、５，６，７，８−テトラヒドロナフチル、２，３，７，８−テトラヒドロナフチル等が挙げられる。
ジヒドロキナゾリニル基としては、例えば、１，２−ジヒドロキナゾリニル、３，４−ジヒドロキナゾリニル、４ａ，５−ジヒドロキナゾリニル、５，６−ジヒドロキナゾリニル、６，７−ジヒドロキナゾリニル、７，８−ジヒドロキナゾリニル、８、８ａ−ジヒドロキナゾリニル、４ａ，８ａ−ジヒドロキナゾリニル等が挙げられる。
上記一般式（１）で表される複素環化合物は、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、例えば下記反応式で示される方法により製造される。
反応式−１


［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは前記と同じであり、Ｘ１は、脱離基を示す。］
一般式（３）において、Ｘ1で示される脱離基としては、例えば、ハロゲン原子、低級アルカンスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アラルキルスルホニルオキシ基、トリハロメタンスルホニルオキシ基、スルホニオ基、トルエンスルホキシ基等を例示することができる。本反応における好ましい脱離基としては、ハロゲン原子が挙げられる。
Ｘ1で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｘ１で示される低級アルカンスルホニルオキシ基としては、具体的にはメタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ｎ−プロパンスルホニルオキシ、イソプロパンスルホニルオキシ、ｎ−ブタンスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブタンスルホニルオキシ、ｎ−ペンタンスルホニルオキシ、ｎ−ヘキサンスルホニルオキシ基等の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基を例示することができる。
Ｘ１で示されるアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、フェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を１〜３個有することのあるフェニルスルホニルオキシ、ナフチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記置換基を有することのあるフェニルスルホニルオキシ基の具体例としては、フェニルスルホニルオキシ、４−メチルフェニルスルホニルオキシ、２−メチルフェニルスルホニルオキシ、４−ニトロフェニルスルホニルオキシ、４−メトキシフェニルスルホニルオキシ、２−ニトロフェニルスルホニルオキシ、３−クロロフェニルスルホニルオキシ基等を例示することができる。ナフチルスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルスルホニルオキシ、β−ナフチルスルホニルオキシ基等を例示することができる。
Ｘ１で示されるアラルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、フェニル環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、ニトロ基及びハロゲン原子なる群より選ばれた基を１〜３個有することのあるフェニル基が置換した炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基、ナフチル基が置換した炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルカンスルホニルオキシ基等を挙げることができる。上記フェニル基が置換したアルカンスルホニルオキシ基の具体例としては、ベンジルスルホニルオキシ、２−フェニルエチルスルホニルオキシ、４−フェニルブチルスルホニルオキシ、４−メチルベンジルスルホニルオキシ、２−メチルベンジルスルホニルオキシ、４−ニトロベンジルスルホニルオキシ、４−メトキシベンジルスルホニルオキシ、３−クロロベンジルスルホニルオキシ基等を例示することができる。上記ナフチル基が置換したアルカンスルホニルオキシ基の具体例としては、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ、β−ナフチルメチルスルホニルオキシ基等を例示することができる。
Ｘ１で示されるペルハロアルカンスルホニルオキシ基としては、具体的にはトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を例示することができる。
Ｘ１で示されるスルホニオ基としては、具体的には、ジメチルスルホニオ、ジエチルスルホニオ、ジプロピルスルホニオ、ジ（２−シアノエチル）スルホニオ、ジ（２−ニトロエチル）スルホニオ、ジ−（アミノエチル）スルホニオ、ジ（２−メチルアミノエチル）スルホニオ、ジ−（２−ジメチルアミノエチル）スルホニオ、ジ−（２−ヒドロキシエチル）スルホニオ、ジ−（３−ヒドロキシプロピル）スルホニオ、ジ−（２−メトキシエチル）スルホニオ、ジ−（２−カルバモイルエチル）スルホニオ、ジ−（２−カルバモイルエチル）スルホニオ、ジ−（２−カルボキシエチル）スルホニオ、ジ−（２−メトキシカルボニルエチル）スルホニオ又はジフェニルスルホニオ基等が挙げられる。
一般式（２）で表される化合物と一般式（３）で表される化合物とを、無溶媒または不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下または非存在下、パラジウム触媒の存在下、反応させることにより化合物（１）を製造することができる。
不活性溶媒としては、例えば、水；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤を挙げることができる。これらの不活性溶媒は、１種単独でまたは２種以上混合して使用される。
本反応において使用するパラジウム化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム（ＩＶ）酸カリウム等の４価パラジウム触媒類；塩化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウムアセチルアセトナート（ＩＩ）、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）、ジクロロテトラアンミンパラジウム（ＩＩ）、ジクロロ（シクロオクタ−１，５−ジエン）パラジウム（ＩＩ）、パラジウムトリフルオロアセテート（ＩＩ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）−ジクロロメタン錯体等の２価パラジウム触媒類；トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）二パラジウムクロロホルム錯体（０）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等の０価パラジウム触媒類等が挙げられる。これらのパラジウム化合物は、１種単独でまたは２種以上混合して使用される。
本反応において、パラジウム触媒の使用量は、特に限定するものではないが、一般式（２）の化合物１モルに対し、パラジウム換算で通常０．０００００１〜２０モルの範囲である。より好ましいパラジウム化合物の使用量は、一般式（２）の化合物１モルに対し、パラジウム換算で０．０００１〜５モルの範囲である。
本反応は、適当なリガンドの存在下有利に進行する。パラジウム触媒のリガンドとしては、例えば、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、トリ−ｏ−トリルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、トリフェニルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、９，９−ジメチル−４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）キサンテン（ＸＡＮＴＰＨＯＳ）等を用いることができる。これらのリガンドは、１種単独でまたは２種以上混合して使用される。
さらに、本発明では、三級ホスフィン類は、予め錯体の形に調整して添加しても良い。その錯体の例としては、トリ−ｔ−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、トリ−ｔ−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレートをあげることができる。
パラジウム触媒とリガンドとの使用割合は、特に限定されるものではない。リガンドの使用量は、パラジウム触媒１モルに対して、約０．１〜１００モル、好ましくは約０．５〜１５モルである。
塩基性化合物としては、公知の無機塩基及び有機塩基を広く使用できる。
無機塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のリン酸塩；ナトリウムアミド等のアミド；水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物等を挙げることができる。
有機塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属低級アルコキシド；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ），１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等のアミン等を挙げることができる。
これらの塩基性化合物は、１種単独でまたは２種以上混合して使用される。本反応において使用される塩基性化合物としては、より好ましくは、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩、ナトリウムｔ−ブトキシド等が挙げられる。
塩基性化合物の使用量は、一般式（２）の化合物に対して、通常０．５〜１０倍モル、好ましくは０．５〜６倍モルである。
上記反応式−１における一般式（２）の化合物と一般式（３）の化合物との使用割合は、通常前者に対し後者を少なくとも等モル、好ましくは等モル〜５倍モル程度とすればよい。
本反応は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。
上記反応は、通常室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃の温度条件下で行われ、一般に１〜３０時間程度にて終了する。マイクロ波反応器を用いて１００〜２００℃で５分〜１時間加熱することでも達成される。
反応終了後、常法によって処理することにより目的とする化合物を得ることができる。
上記反応式−１において出発原料として用いられる一般式（２）で示される化合物は、公知の化合物から、例えば、下記反応式−３及び反応式−４に示す方法で製造される。なお、一般式（３）で示される化合物については、入手容易な公知化合物であるか公知の方法により容易に製造される化合物である。
反応式−２

［式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは前記と同じであり、Ｒ１ａは、保護基を示す。］
保護基としては、前記に示した保護基が挙げられる。
一般式（１ｂ）で表される化合物は、一般式（１ａ）で表される化合物を、保護基の脱離反応に付すことにより製造できる。
保護基の脱離反応には、加水分解、水素化分解等の慣用の方法を適用できる。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；又は他の有機溶媒が挙げられる。
（ｉ）加水分解：
加水分解は、塩基もしくは酸（ルイス酸を含む）の存在下で実施するのが好ましい。
塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を広く使用できる。好適な無機塩基としては、例えばアルカリ金属（例えばナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム等）、これらの水酸化物、炭酸塩又は炭酸水素塩等が挙げられる。好適な有機塩基としては、例えば、トリアルキルアミン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等）、ピコリン、１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］ノナ−５−エン等が挙げられる。
酸としては、公知の有機酸及び無機酸を広く使用できる。好適な有機酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸；トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ酢酸等が挙げられる。好適な無機酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等が挙げられる。ルイス酸としては、例えば、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三臭化ホウ素、塩化アルミニウム、塩化第二鉄等が挙げられる。
酸としてトリハロ酢酸又はルイス酸を用いる場合には、カチオン捕捉剤（例えばアニソール、フェノール等）の存在下で実施するのが好ましい。
塩基又は酸の使用量は、加水分解に必要な量である限り、特に制限されない。
反応温度は、通常０〜１２０℃、好ましくは室温〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃である。反応時間は、通常３０分〜２４時間、好ましくは３０分〜１２時間、より好ましくは１〜８時間である。
（ｉｉ）水素化分解：
水素化分解には、公知の水素化分解方法を広く適用できる。このような水素化分解方法としては、例えば、化学還元、接触還元等が挙げられる。
化学還元に使用される好適な還元剤は、水素化物（例えばヨウ化水素、硫化水素、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム等）もしくは金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）又は金属化合物（例えば塩化クロム、酢酸クロム等）と有機酸又は無機酸（例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）との組合せである。
接触還元に使用される好適な触媒は、白金触媒（例えば白金板、海綿状白金、白金黒、コロイド状白金、酸化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例えば海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭素、パラジウム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸バリウム等）、ニッケル触媒（例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネーコバルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄等）等である。
なお、化学還元に使用される上記の酸が液状である場合には、それらを溶媒として兼用することもできる。
化学還元に用いられる還元剤及び接触還元に用いられる触媒の使用量は、特に制限がなく、通常の使用量でよい。
本発明は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。
反応温度は、通常０〜１２０℃、好ましくは室温〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃である。反応時間は、通常３０分〜２４時間、好ましくは３０分〜１０時間、より好ましくは３０分〜４時間である。
反応終了後、常法によって処理することにより目的とする化合物（１ｂ）を得ることができる。
さらに上記保護基の脱保護反応は、上記反応条件に限定されず、例えば、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎ，Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓの「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」第４版やＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ； Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９１，Ｐ．３０９に記載された反応も本反応工程に適応できる。
一般式（２）で表される化合物は、新規化合物であり、上述の通り、化合物（１）で表される化合物の中間体として有用な化合物である。
一般式（２）の化合物は、例えば、下記反応式−３、下記反応式−４又は下記反応式−５の方法に従い製造される。
以下、各反応式について説明する
反応式−３

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは前記と同様］
反応式−３
一般式（２ａ）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物と一般式（５）で表される化合物との環化反応により一般式（６）で表される化合物を形成後（工程Ａ）、還元（工程Ｂ）することにより製造される。
工程Ａ
一般式（２ａ）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物と一般式（５）で表される化合物とを、無溶媒又は不活性溶媒中、塩基の存在下又は非存在下において行うことができる。
不活性溶媒としては、例えば水；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤を挙げることができる。
塩基性化合物としては、公知のものを広く使用でき、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩；ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の無機塩基、及びナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコラート類；トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザシクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基を挙げることができる。
これらの塩基化合物は、１種単独で又は２種以上混合して使用される。
塩基性化合物の使用量は、一般式（４）の化合物に対して、通常０．５〜１０倍モル、好ましくは０．５〜６倍モルである。
上記反応は、必要に応じて反応促進剤として、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等のヨウ化アルカリ金属を添付して行うことができる。
上記反応式における一般式（４）の化合物と一般式（５）の化合物との使用割合は通常前者に対し後者を少なくとも０．５倍モル、好ましくは０．５〜５倍モル程度とすればよい。
本発明は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。
上記反応は通常０℃〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃の温度条件下で行われ、一般に１〜３０時間程度に終了する。
なお、第１工程において、出発原料として使用される一般式（４）の化合物及び一般式（６）の化合物は、入手が容易な公知の化合物であるか、公知の方法により容易に製造される化合物である。
工程Ｂ
一般式（２ａ）で表される化合物は、一般式（６）で表される化合物を、無溶媒又は不活性溶媒中、還元反応に付すことにより製造できる。
このような還元方法としては、例えば、化学還元、接触還元等が挙げられる。
不活性溶媒としては、例えば水；ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド、アセトニトリル等の極性溶剤を挙げることができる。
化学還元に使用される好適な還元剤は、水素化物（例えばヨウ化水素、硫化水素、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素、水素化ホウ素ナトリウム、水素化シアノホウ素ナトリウム等）もしくは金属（例えば錫、亜鉛、鉄等）又は金属化合物（例えば塩化クロム、酢酸クロム等）と有機酸又は無機酸（例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸等）との組合せである。
接触還元に使用される好適な触媒は、白金触媒（例えば白金板、海綿状白金、白金黒、コロイド状白金、酸化白金、白金線等）、パラジウム触媒（例えば海綿状パラジウム、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭素、パラジウム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸バリウム等）、ニッケル触媒（例えば還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル等）、コバルト触媒（例えば還元コバルト、ラネーコバルト等）、鉄触媒（例えば還元鉄等）等である。
なお、化学還元に使用される上記の酸が液状である場合には、それらを溶媒として兼用することもできる。
化学還元に用いられる還元剤及び接触還元に用いられる触媒の使用量は、特に制限がなく、通常の使用量でよい。
本発明は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。
反応温度は、通常０〜１２０℃、好ましくは室温〜１００℃、より好ましくは室温〜８０℃である。反応時間は、通常３０分〜２４時間、好ましくは３０分〜１０時間、より好ましくは３０分〜４時間である。
反応終了後、常法によって処理することにより目的とする化合物（２ａ）を得ることができる。
反応式−４

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｘ、ｌ、ｍ及びｎは前記と同様］
一般式（２ｂ）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物と一般式（７）で表される化合物との環化反応により一般式（８）で表される化合物を形成後（工程Ｃ）、還元（工程Ｄ）することにより製造される。その反応条件は、前記反応式−３と同様の反応条件下にて行われる。
反応式−５

［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｌ、ｍ、ｎ及びＸは前記と同じであり、Ｙ及びＺは同一又は異なって、それぞれ独立して脱離基を示す。］
一般式（９）において、Ｙ及びＺで示される脱離基としては、前記に示した脱離基が挙げられる。
工程Ｅ
一般式（２）で表される化合物は、一般式（４）で表される化合物と一般式（９）で表される化合物を環化反応に付すことにより製造できる。環化反応は、通常、塩基性化合物の存在下又は非存在下で行われる。
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、トリフルオロエタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ジグライム等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；又は他の有機溶媒が挙げられる。
この反応には遷移金属触媒と配位子を用いても良い。遷移触媒としては、塩化ルテニウム、ジクロロトリストリフェニルホスフィンルテニウム、ジブロモトリストリフェニルホスフィンルテニウム、ジヒドリドテトラキストリフェニルホスフィンルテニウム、（η４−シクロオクタジエン）（η６−シクロオクタトリエン）ルテニウム、ジクロロトリカルボニルルテニウムダイマー、ドデカカルボニルトリルテニウム、（η５−ペンタメチルシクロペンタジエニル）クロロ（η４−シクロオクタトリエン）ルテニウム、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム、塩化ロジウム、クロロトリストリフェニルホスフィンロジウム、ヒドリドカルボニルトリストリフェニルホスフィンロジウム、ヒドリドトリストリフェニルホスフィンロジウム、ジ−μ−クロロテトラカルボニル二ロジウム、クロロカルボニルビストリフェニルホスフィンイリジウム、（η５−ペンタメチルシクロペンタジエニル）ジクロロイリジウムダイマー、ニッケルテトラキストリフェニルホスフィン、ジコバルトオクタカルボニル、（η５−シクロペンタジエニル）ジカルボニルコバルト等が挙げられる。
配位子としてはトリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリｎ−プロピルホスフィン、トリｉ−プロピルホスフィン、トリｎ−ブチルフォスフィン、トリｔ−ブチルフォスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ−トリル）ホスフィンに代表される単座ホスフィン系配位子、１，２−ビスジフェニルホスフィノエタン、１，３−ビスジフェニルホスフィノプロパン、１，４−ビスジフェニルホスフィノブタン、１，２−ジエチルホスフィノエタンに代表される２座ホスフィン系配位子、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリ（ｏ−トリル）ホスファイトに代表されるホスファイト配位子が挙げられる。
この反応は、塩基の存在下で行ってもよい。塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を広く使用できる。無機塩基としては、例えば、アルカリ金属（例えば、ナトリウム、カリウム等）、炭酸水素アルカリ金属（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等）、炭酸アルカリ金属（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等）、アルカリ金属低級アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等）、アルカリ金属水素化物（例えば、水素化ナトリウム、水素化カリウム等）が挙げられる。有機塩基としては、例えば、トリアルキルアミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン等）、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）等が挙げられる。また、これらの塩基が液状の場合、溶媒として兼用することができる。これらの塩基は、１種単独で又は２種以上混合して使用される。塩基の使用量は、化合物（７）１モルに対して、通常０．１〜１０モル、好ましくは０．１〜３モルである。
また上記反応は、酸化剤及び還元剤との混合下においても、行うことができる。
酸化剤としては、例えば、二酸化マンガン、クロム酸、四酢酸鉛、酸化銀、酸化銅、ハロゲン酸、ジメチルスルホキシド（Ｓｗｅｒｎ酸化）、有機過酸、酸素等が挙げられ、電極酸化等による方法も挙げられる。
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ素試薬、水素化アルミニウムリチウム等の水素化アルミニウム試薬等が挙げられる。
上記反応式における化合物（９）と化合物（１２）との使用割合は、通常後者１モルに対し、前者を少なくとも１モル、好ましくは１〜５モル程度である。
本発明は、常圧下、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことも、また加圧下でも行うことができる。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却下、室温下及び加熱下のいずれでも反応が行われる。好ましくは、室温〜１００℃の温度条件下に３０分〜３０時間、好ましくは３０分〜５時間反応させるのがよい。
反応終了後、常法によって処理することにより目的とする化合物（２）を得ることができる。
化合物（１）の好適な塩は、薬理的に許容される塩であって、例えば、アルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等）等の金属塩、アンモニウム塩、炭酸アルカリ金属（例えば、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム等）、炭酸水素アルカリ金属（例えば、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等）等の無機塩基の塩；例えば、トリ（低級）アルキルアミン（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン等）、ピリジン、キノリン、ピペリジン、イミダゾール、ピコリン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−（低級）アルキル−モルホリン（例えば、Ｎ−メチルモルホリン等）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基の塩；塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の無機酸の塩；ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、炭酸塩、ピクリン酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、グルタミン酸塩等の有機酸の塩等が挙げられる。
また、各反応式において示された原料及び目的化合物に溶媒和物（例えば、水和物、エタノレート等）が付加された形態の化合物も、各々の一般式に含まれる。好ましい溶媒和物としては水和物が挙げられる。
上記各反応式で得られる各々の目的化合物は、反応混合物を、例えば、冷却した後、濾過、濃縮、抽出等の単離操作によって粗反応生成物を分離し、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の通常の精製操作によって、反応混合物から単離精製することができる。
本発明の一般式（１）で表される化合物には、幾何異性体、立体異性体、光学異性体等の異性体も当然に包含される。
各種の異性体は異性体間の物理化学的な性質の差を利用して常法により単離できる。例えば、ラセミ化合物は一般的な光学分割法により［例えば、一般的な光学活性酸（酒石酸等）とのジアステレオマー塩に導き、光学分割する方法等］立体的に純粋な異性体に導くことができる。また、ジアステレオマーの混合物は、例えば分別結晶化又はクロマトグラフィー等により分離できる。また、光学活性な化合物は適当な光学活性な原料を用いることにより製造することもできる。
本発明はまた、１個または複数の原子が、特定の原子質量または質量数を有する１個または複数の原子によって置き換わっているということ以外は一般式（１）で表される化合物と同一の同位体標識化合物も包含する。本発明の化合物に組み込むことができる同位体の例には、各々２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１８Ｏ、１７Ｏ、１８Ｆ、３６Ｃｌ等の水素、炭素、窒素、酸素、硫黄、フッ素、及び塩素同位体を包含する。上記の同位体及び／または他の原子の他の同位体を含有する、特定の同位体標識された本発明の化合物、例えば３Ｈ及び１４Ｃ等の放射性同位体が組み込まれている化合物は、薬物組織分布アッセイ及び／または基質組織分布アッセイにおいて有用である。トリチウム化（すなわち、３Ｈ）、及び炭素−１４（すなわち、１４Ｃ）同位体は、調製の容易さおよび検出性によって特に好まれる。さらに、重水素（すなわち、２Ｈ）等のより重い同位体による置換によって、代謝安定性の向上、例えばｉｎ ｖｉｖｏ半減期の増大または投与必要量の減少に起因する特定の治療上の利点をもたらすことが期待できる。本発明の同位体標識化合物は、一般に、上記反応式及び／または下記の実施例において開示されている方法によって、非同位体標識試薬を、簡単に手に入る同位体標識試薬で置換することによって調製することができる。
本発明化合物を有効成分として含有する医療製剤について説明する。
上記医療製剤は、本発明化合物を通常の医療製剤の形態に製剤したものであって、通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤及び／又は賦形剤を用いて調製される。
このような医療製剤としては、治療目的に応じて種々の形態の中から選択することができ、その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、懸濁剤等）等が挙げられる。
錠剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用することができ、例えば、乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、寒天末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等が挙げられる。
更に、錠剤は、必要に応じて通常の被覆物質を用いて被覆し、例えば、糖衣剤、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができる。
丸剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用することができ、例えば、ブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、寒天等の崩壊剤等が挙げられる。
坐剤の形態に成形する際に用いられる担体としては、公知のものを広く使用することができ、例えば、ポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等が挙げられる。
注射剤として調製される場合は、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ましい。これらの液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に成形する際に用いられる希釈剤としては、公知のものを広く使用することができ、例えば、水、エタノール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルベタン脂肪酸エステル類等が挙げられる。この場合、等張性の溶液を調製するのに十分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤中に含有させてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を、更に必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等、及び／又は他の医薬品を含有させてもよい。
医療製剤中に含有される本発明化合物の量は、特に限定されず広い範囲内から適宜選択することができるが、通常、医療製剤中に本発明化合物を１〜７０重量％程度含有させるのが好ましい。
本発明に係る医療製剤の投与方法としては特に制限はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別、疾患の状態、その他の条件に応じた方法で投与される。例えば、錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投与される。また、注射剤の場合には、単独であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内に投与したり、更には必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下若しくは腹腔内に投与することができる。坐剤の場合には、直腸内に投与される。
上記医療製剤の投与量は、用法、患者の年齢、性別、疾患の程度、その他の条件に応じて適宜選択すればよく、通常、１日あたり体重１ｋｇに対して０．００１〜１００ｍｇ程度、好ましくは０．００１〜５０ｍｇ程度を１回〜数回に分けて投与される。
上記投与量は、種々の条件で変動するので、上記範囲より少ない投与量で充分な場合もあるし、また上記範囲を超えた投与量が必要な場合もある。
本発明の複素環化合物は、１種類、２種類又は３種類のモノアミン（セロトニン、ノルエピネフリン、ドパミン）の再取り込み阻害作用を有している。
本発明の複素環化合物は、既存のモノアミン取り込み阻害活性を有する化合物に比し、３種類のモノアミンのうちいずれか一つ、又はいずれか二つ、又はすべてのモノアミンについてのｉｎ ｖｉｔｒｏ試験での取り込み阻害活性又はＥｘ ｖｉｖｏ試験での取り込み阻害活性が著しく強い。また、脳内微小透析法（ｍｉｃｒｏｄｉａｌｙｓｉｓ ｓｔｕｄｙ）において、本発明の複素環化合物は、既存のモノアミン取り込み阻害活性を有する化合物に比し、３種類のモノアミンのうちいずれか一つ、又はいずれか二つ、又はすべてのモノアミンの増加に対して著しく強い活性を示す。
本発明の複素環化合物は、公知の抗うつ薬に比べ、幅広い治療スペクトラムを有している。
本発明の複素環化合物は、短期間の投与で十分な治療効果を発現する。
本発明の複素環化合物は、生物学的利用率に優れ、肝臓における代謝酵素阻害活性が弱く、副作用が少なく、安全性に優れている。
本発明の複素環化合物は、脳内移行性に優れている。
本発明の複素環化合物は、うつ病のスクリーニングに使用されるマウス強制水泳試験においても強い活性を発現する。また、本発明の複素環化合物は、うつ病のスクリーニングに使用されるラット強制水泳試験においても強い活性を発現する。また、本発明の複素環化合物は、うつ病のスクリーニングに使用されるレセルピン誘発低体温試験においても強い活性を発現する。
本発明の複素環化合物は、不安又はストレス疾患モデルであるマウスビー玉埋め行動テスト及び恐怖条件付けストレスモデルにおいて強い活性を発現する。
本発明の複素環化合物は、１種類、２種類又は３種類のモノアミン（セロトニン、ノルエピネフリン、ドパミン）の再取り込み阻害作用を有しているので、セロトニン、ノルエピネフリン又はドパミンの神経伝達の低下と関連している種々の障害の治療に有効である。
このような障害には、高血圧、うつ病（例えば、大うつ病性障害；双極Ｉ型障害；双極ＩＩ型障害；混合状態；気分変調性障害；ラピッド・サイクラー；非定型うつ病；季節性感情障害；産後うつ病；軽症うつ病；反復性短期うつ病性障害；難治性うつ病・慢性うつ病；重複うつ病；アルコール誘発性気分障害；混合性不安抑うつ障害；クッシング症候群、甲状腺機能低下症、副甲状腺機能亢進症、アジソン病、無月経・乳汁分泌症候群、パーキンソン病、アルツハイマー病、脳出血、糖尿病、慢性疲労症候群、癌等の種々の身体疾患に伴ううつ病；中年期のうつ病；老年期うつ病；小児・思春期のうつ病；インターフェロン等の薬物誘発性うつ病；適応障害に伴ううつ；適応障害による不安、各種疾患に伴う不安［例えば、神経障害（頭部外傷、脳の感染症及び内耳障害）；心血管障害（心不全、不整脈）；内分泌障害（副腎機能亢進症、甲状腺機能亢進症）；呼吸器障害（喘息、慢性閉塞性肺疾患）］、全般性不安障害、恐怖（例えば、広場恐怖症、社会恐怖症及び単純恐怖症）、心的外傷後ストレス症候群、急性ストレス症候群、回避性人格障害、身体醜形障害、早発射精、摂食障害（例えば神経性食欲不振及び神経性大食）、肥満、化学物質依存症（例えば、アルコール、コカイン、ヘロイン、フェノバルビタール、ニコチン及びベンゾジアゼピン類に対する嗜癖）、群発性頭痛、片頭痛、疼痛、アルツハイマー病、強迫性障害、パニック障害、記憶障害（例えば、痴呆、健忘障害及び年齢関連性認識力減退（ＡＲＣＤ））、パーキンソン病（例えば、パーキンソン病における痴呆、神経弛緩薬誘発パーキンソン症候群及び遅発性ジスキネジー）、内分泌障害（例えば、高プロラクチン血症）、血管痙攣（特に、大脳血管系における）、小脳性運動失調、胃腸管障害（運動及び分泌の変化を包含）、統合失調症の陰性症候群、月経前症候群、線維筋肉痛症候群、緊張性尿失禁、トウレット症候群、抜毛癖、盗癖、男性インポテンス、注意欠陥多動性障害（ＡＤＨＤ）、慢性発作性片頭痛、慢性疲労、脱力発作、睡眠時無呼吸症候群及び頭痛（脈管障害に関連した）等が含まれる。
以下に、参考例、実施例及び薬理試験を掲げて本発明をより一層明らかにする。なお、ラセミ体および光学活性体の化学構造は、例えば、以下のように表記するものとする。
ラセミ体

光学活性体
［参考例１］シス−３，３−ジメチルオクタヒドロシクロペンタピラジン−２−オン

の製造
シス−シクロペンタン−１，２−ジアミン（９．８８ｇ，９８．６ｍｍｏｌ）の水（１００ｍＬ）溶液に、９０％アセトンシアンヒドリン（９．７９ｇ，１０４ｍｍｏｌ）を室温下加え、１６時間還流下攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧除去し、エタノール共沸した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン／メタノール＝１／１０）で精製し、白色粉末のシス−３，３−ジメチルオクタヒドロシクロペンタピラジン−２−オンを得た（５．００ｇ，３０％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.20（1 H，brs)，1.34（3 H，s)，1.39(3 H，s)，1.40-2.20（6 H，m)，3.50-3.70（2 H，m)，5.89（1 H，brs).
適当な出発原料を用い、参考例１と同様にして下記参考例２〜１２の化合物を製造した。
［参考例２］トランス−３，３−ジメチルオクタヒドロシクロペンタピラジン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.26-1.55（9 H，m)，1.75-2.00（4 H，m)，2.85-3.02（1 H，m)，3.05-3.20（1 H，m)，6.02（1 H，brs).
［参考例３］シス−３，３−ジメチルヘキサヒドロフロ［３，４−ｂ］ピラジン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.37（3H，s)，1.40（3H，s)，1.50-1.85（1H，br)，3.73-4.10（6H，m)，6.02-6.22（1H，br).
［参考例４］トランス−３，３−ジメチルヘキサヒドロフロ［３，４−ｂ］ピラジン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.38-1.43（1H，br)，1.44（3H，s)，1.47（3H，s)，3.38-3.52（1H，m)，3.52-3.65（3H，m)，4.00-4.14（2H，m)，6.28-6.45（1H，br).
［参考例５］（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.14-1.43（6H，m)，1.38（3H，s)，1.42（3H，s)，1.69（1H，brs)，1.74-1.84（2H，m)，2.57-2.65（1H，m)，2.96-3.04（1H，m)，5.61（1H，s)
［参考例６］（４ａＲ，８ａＲ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.14-1.43（6H，m)，1.38（3H，s)，1.42（3H，s)，1.63（1H，brs)，1.73-1.83（2H，m)，2.57-2.66（1H，m)，2.95-3.04（1H，m)，5.55（1H，s)
［参考例７］トランス−３，３−ジエチルオクタヒドロキノキサリン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 0.92（3H，t，J = 7.5 Hz)，0.93（3H，t，J = 7.3 Hz)，1.13-1.49（7H，m)，1.60-1.99（6H，m)，2.55-2.60（1H，m)，2.91-3.00（1H，m)，5.69（1H，brs)
［参考例８］トランス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］−３’−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.14-1.46（4H，m)，1.70-2.17（9H，m)，2.43-2.52（1H，m)，2.55-2.66（1H，m)，2.78-2.88（1H，m)，2.97-3.06（1H，m)，5.65（1H，brs)
［参考例９］シス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］−３’−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.1-1.3（ 1H，m )，1.35-2.15（ 12H，m )，2.5-2.6（ 1H，m )，2.75-2.85（ 1H，m )，3.15-3.3（ 2H，m )，5.65（ 1H，br ).
［参考例１０］トランス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロヘキサン−１，２’−キノキサリン］−３’−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.18-1.88（18H，m)，2.03-2.13（1H，m)，2.47-2.58（1H，m)，2.92-3.00（1H，m)，5.59（1H，s)
［参考例１１］シス−３，３−ジメチルデカヒドロシクロヘプタピラジン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.12-2.00（16 H，m)，2.03-2.20（1H，m)，3.35-3.55（2H,m )，5.88（brs).
［参考例１２］トランス−３，３−ジメチルデカヒドロシクロヘプタピラジン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.35（3H，s)，1.39（3H，s)，1.42-1.90（11H，m)，2.73-2.85（1H，m)，3.13-3.26（1H，m)，5.51（1H，brs).
［参考例１３］シス−４，４−ジメチルオクタヒドロシクロペンタ［ｂ］［１，４］ジアゼピン−２−オン

の製造
シス−シクロペンタン−１，２−ジアミン（１９．７ｇ，１９７ｍｍｏｌ），３−メチル−２−ブテン酸（１９．７ｇ，１９７ｍｍｏｌ）のトルエン（２００ｍＬ）懸濁液を、ディーンスターク装置を用いて共沸条件下２４時間還流攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、減圧濃縮し、析出晶を濾取した。得られた結晶をエーテルで洗浄した後、乾燥することにより、淡褐色粉末のシス−４，４−ジメチルオクタヒドロシクロペンタ［ｂ］［１，４］ジアゼピン−２−オンを得た（８．６０ｇ，２４％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.10-1.56（10 H，m)，1.65-1.80（1 H，m)，2.02-2.30（3 H，m)，2.60（1 H，d，J = 12.8 Hz)，3.18-3.37（1 H，m)，3.68-3.85（1 H，m)，5.73（1H，brs)。
適当な出発原料を用い、参考例１３と同様にして下記参考例１４、１５の化合物を製造した。
［参考例１４］（５ａＳ，９ａＳ）−４，４−ジメチルデカヒドロ［ｂ］［１，４］ジアゼピン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.00-1.45（11H，m)，1.63-1.83（3H，m)，1.83-2.00（1H，m)，2.31-2.43（1H，m)，2.65-2.81（2H，m)，3.00-3.16（1H，m)，5.54-5.90（1H，br).
［参考例１５］（５ａＲ，９ａＲ）−４，４−ジメチルデカヒドロ［ｂ］［１，４］ジアゼピン−２−オン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.02-1.36（11H，m)，1.64-1.83（3H，m)，1.83-1.97（1H，m)，2.37（1H，dd，J = 2.4，13.9 Hz)，2.66-2.81（2H，m)，3.01-3.15（1H，m)，5.75-5.92（1H，brs).
［参考例１６］シス−２，２−ジメチルオクタヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］ピラジン

の製造
シス−３，３−ジメチルオクタヒドロシクロペンタピラジン−２−オン（２．００ｇ，１１．９ｍｍｏｌ）の無水ジオキサン（４０ｍＬ）溶解を室温で攪拌下、水素化リチウムアルミニウム（５４１ｍｇ，１４．３ｍｍｏｌ）を加え、徐々に昇温し、還流下１０分間攪拌した。反応混合物を氷温まで冷却後、水素ガスが発生しなくなるまで硫酸ナトリウム・十水和物を少量ずつ加え、その後室温で１時間攪拌した。不溶物をセライト濾過し、濾液を濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）で精製し淡黄色油状のシス−２，２−ジメチルオクタヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］ピラジンを得た（１．６７ｇ，９１％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm :1.04（3 H，s)，1.16（3 H，s)，1.28-2.02（8 H，m)，2.37（1 H，d，J = 12.9 Hz)，2.70（1 H，d，J = 12.9 Hz)，3.00-3.15（1 H，m)，3.15-3.32（1 H，m)。
適当な出発原料を用い、参考例１６と同様にして下記参考例１７〜３４の化合物を製造した。
［参考例１７］トランス−２，２−ジメチルオクタヒドロ−１Ｈ−シクロペンタ［ｂ］ピラジン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.08（3H，s)，1.19-1.92（11H，m)，2.15-2.30（1H，m)，2.55-2.74（2H，m)，2.77（1H，d，J = 12.2 Hz).
［参考例１８］シス−２，２−ジメチルデカヒドロシクロペンタ［ｂ］［１，４］ジアゼピン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.11（3H，s)，1.14（3H，s)，1.14-1.45（6H，m)，1.55-1.68（1H，m)，1.67-1.77（1H，m)，1.97-2.12（2H，m)，2.68-2.80（1H，m)，2.98-3.11（2H，m)，3.16-3.28（1H，m).
［参考例１９］シス−２，２−ジメチルオクタヒドロフロ［３，４−ｂ］ピラジン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.08（3H，s)，1.18（3H，s)，1.40-1.80（2H，br)，2.41（1H，d，J = 13.2 Hz)，2.69（1H，d，J = 13.2 Hz)，3.33-3.43（1H，m)，3.43-3.55（1H，m)，3.63-3.72（1H，m)，3.75-3.96（3H，m).
［参考例２０］トランス−２，２−ジメチルオクタヒドロフロ［３，４−ｂ］ピラジン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.13（3H，s)，1.30（3H，s)，1.44-1.65（2H，m)，2.64-2.78（2H，m)，2.83（1H，d，J = 12.2 Hz)，3.11-3.22（1H，m)，3.46（1H，dd，J = 7.3，10.5 Hz)，3.55（1H，dd，J = 7.4，10.5 Hz)，3.94（1H，t，J = 7.1 Hz)，4.00（1H，t，J = 7.2 Hz).
［参考例２１］シス−２，２−ジメチルデカヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］ジアゼピン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.08（3H，s)，1.13（3H，s)，1.18-1.84（12H，m)，2.65-2.93（3H，m)，3.14-3.22（1H，m).
［参考例２２］（５ａＳ，９ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］ジアゼピン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.00-1.35（11H，m)，1.50-1.85（7H，m)，2.20-2.31（1H，m)，2.31-2.43（1H,m )，2.79-2.90（1H，m)，2.90-3.04（1H，m).
［参考例２３］（５ａＲ，９ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］［１，４］ジアゼピン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.00-1.35（11H，m)，1.50-1.85（7H，m)，2.20-2.31（1H，m)，2.31-2.43（1H,m )，2.79-2.90（1H，m)，2.90-3.04（1H，m).
［参考例２４］シス−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.06（3H，s)，1.19（3H，s)，1.20-1.40（5H，m)，1.53-1.60（3H，m)，1.70-1.77（1H，m)，1.92-2.15（1H，m)，2.36（1H，d，J = 12.7 Hz)，2.66-2.72（1H，m)，2.72（1H，d，J = 12.7 Hz)，3.16-3.28（1H，m).
［参考例２５］トランス−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05（3H，s)，1.08-1.74（10H，m), 1.23（3H，s)，2.02-2.12（1H，m)，2.40-2.50（1H，m)，2.60（1H，d，J = 12.1 Hz)，2.73（1H，d，J = 12.1 Hz).
［参考例２６］（４ａＳ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.01-1.43（6H，m)，1.05（3H，s)，1.23（3H，s)，1.58-1.63（1H，m)，1.68-1.74（3H，m)，2.03-2.19（1H，m)，2.40-2.49（1H，m)，2.60（1H，d，J = 12.1 Hz)，2.73（1H，d，J = 12.1 Hz).
［参考例２７］（４ａＲ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05（3H，s)，1.09-1.56（6H，m)，1.23（3H，s)，1.58-1.63（1H，m)，1.66-1.75（3H，m)，2.03-2.12（1H，m)，2.41-2.50（1H，m)，2.61（1H，d，J = 12.1 Hz)，2.75（1H，d，J = 12.1 Hz).
［参考例２８］トランス−２，２−ジエチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 0.79（3H，t，J = 7.5 Hz)，0.81（3H，t，J = 7.5 Hz)，0.86-1.02（1H，m)，1.08-1.40（8H，m)，1.47-1.60（2H，m)，1.67-1.87（3H，m)，2.06-2.15（1H，m)，2.33-2.42（1H，m)，2.57（1H，d，J = 12.1 Hz)，2.81（1H，d，J = 12.1 Hz).
［参考例２９］トランス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］
［参考例３０］シス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］
［参考例３１］トランス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロペンタン−１，２’−キノキサリン］

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.10-1.97（18H，m)，2.10-2.21（1H，m)，2.29-2.38（1H，m)，2.71（1H，d，J = 12.2 Hz)，2.76（1H，d，J = 12.2 Hz).
［参考例３２］トランス−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロヘキサン−１，２’−キノキサリン］

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.12-1.76（20H，m)，2.12-2.20（1H，m)，2.44-2.53（1H，m)，2.55（1H，d，J = 12.2 Hz)，2.98（1H，d，J = 12.2 Hz).
［参考例３３］シス−２，２−ジメチルデカヒドロ−１Ｈ−シクロヘプタ［ｂ］ピラジン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.00-2.02（18H，m)，2.42（1H，d，J = 12.4 Hz)，2.58（1H，d，J = 12.4 Hz)，2.75-2.86（1H，m)，3.13-3.25（1H，m).
［参考例３４］トランス−２，２−ジメチルデカヒドロ−１Ｈ−シクロヘプタ［ｂ］ピラジン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05（3H，s)，1.21（3H，s)，1.23-1.80（12H，m)，2.09-2.20（1H，m)，2.46-2.60（2H，m)，2.68（1H，d，J = 11.8 Hz).
［参考例３５］（２ＲＳ，４ａＳＲ，８ａＳＲ）−２−エチルデカヒドロキノキサリン

の製造
トランス−シクロヘキサン−１，２−ジアミン（２．００ｇ，１７．５ｍｍｏｌ）、（±）−１，２−ブタンジオール（１．６９ｍＬ，１８．４ｍｍｏｌ）の水（２０ｍＬ）溶液を、室温攪拌下にジクロロ（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イリジウム（ＩＩＩ）ダイマー（７０ｍｇ，０．０９０ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（７３ｍｇ，０．８７ｍｍｏｌ）を加え、脱気及びアルゴン置換を３回繰り返した後、還流下で２４時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン／メタノール）で精製し、黄色固体の（２Ｒ＊，４ａＳ＊，８ａＳ＊）−２−エチルデカヒドロキノキサリンを得た（２．０３ｇ，収率６９％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 0.92（3H，t，J = 7.5 Hz)，1.10-1.60（7H，m)，1.64-1.83（5H，m)，2.16-2.31（2H，m)，2.44（1H，dd，J = 11.5，10.4 Hz)，2.58-2.67（1H，m)，3.02（1H，dd，J = 11.5，2.7 Hz).
［参考例３６］（４ａＳ，８ａＳ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン

の製造
（１Ｓ，２Ｓ）−シクロヘキサン−１，２−ジアミン（３．４３ｇ，３０．０ｍｍｏｌ）のメタノール（３００ｍＬ）溶液を室温攪拌下に、ベンズアルデヒド（３．０５ｍＬ，３０．０ｍｍｏｌ）を加え、同温下で一夜攪拌した。反応混合物を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム（２．２７ｇ，６０．０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２時間攪拌した。反応混合物に水（３０ｍＬ）を加え、生成物を塩化メチレン（５０ｍＬ）で２回抽出した。有機層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン）で精製し、淡黄色油状の（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−ベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン（ｃａｓ ｎｏ． ２０７４５０−１１−１）を得た（２．９５ｇ，収率４８％）。
得られた（１Ｓ，２Ｓ）−Ｎ−ベンジルシクロヘキサン−１，２−ジアミン（２．９０ｇ，１４．２ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（２８４ｎＬ）に溶解し、窒素雰囲気下、氷冷下で攪拌しながら６０％水素化ナトリウム（１．９９ｇ，４９．７ｍｍｏｌ）を加えた。５分後、反応混合液に（２−ブロモエチル）ジフェニルスルフォニウム トリフルオロメタンスルフォネート（６．９２ｇ，１５．６ｍｍｏｌ）を氷冷攪拌下に加え、室温で一夜攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を少しずつ滴下した後、生成物を塩化メチレン（１００ｍＬ）で２回抽出した。有機層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン）で精製し、淡褐色固体の（４ａＳ，８ａＳ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリンを得た（２．２８ｇ，７０％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05-1.4（ 4H，m )，1.50（ 1H，br )，1.6-1.9（ 4H，m )，2.05-2.2（ 1H，m )，2.2-2.3（ 1H，m )，2.4-2.5（ 1H，m )，2.65-2.75（ 1H，m )，2.8-2.95（ 2H，m )，3.14（ 1H，d，J = 13.4Hz )，4.11（ 1H，d，J = 13.4Hz )，7.15-7.4（ 5H，m ).
適当な出発原料を用い、参考例３７と同様にして下記参考例３７〜３９の化合物を製造した。
［参考例３７］（４ａＳ，８ａＳ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05-1.4（ 4H，m )，1.50（ 1H，br )，1.6-1.9（ 4H，m )，2.05-2.2（ 1H，m )，2.2-2.3（ 1H，m )，2.4-2.5（ 1H，m )，2.65-2.75（ 1H，m )，2.8-2.95（ 2H，m )，3.13（ 1H，d，J = 13.4Hz )，4.11（ 1H，d，J = 13.4Hz )，7.15-7.4（ 5H，m ).
［参考例３８］シス−デカヒドロキノキサリン−１−カルボン酸 ｔｅｒｔ−ブチルエステル

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05-1.15（ 1H，m )，1.2-1.75（ 19H，m )，1.75-1.85（ 1H，m )，1.85-2.2（ 1H，m )，3.70（ 1H，br )，4.83（ 1H，br ).
［参考例３９］シス−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.0-2.0（ 10H，m )，2.2-2.4（ 1H，m )，2.45-2.7（ 2H，m )，2.75-3.1（ 2H，m )，3.63（ 2H，br )，7.05-7.45（ 5H，m ).
［参考例４０］（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造及び
［参考例４１］（４ａＳ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造。
シス−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１３．７ｇ，８１．４ｍｍｏｌ）のエタノール（１４０ｍＬ）溶液を室温攪拌下に、（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸一水和物（１３．８ｇ，３６．７ｍｍｏｌ）のエタノール（１４０ｍＬ）を加えた。反応混合物を、還流下３０分間攪拌し、室温まで冷却した後、白色の析出晶を濾取した。得られた結晶を、エタノール（２０ｍＬ）で洗浄後、乾燥することにより白色固体＜１＞を得た（１３．１ｇ）。固体＜１＞を得た際の濾液及び洗浄液を、減圧濃縮した。得られた残渣をエタノール（１００ｍＬ）に溶解し、室温で攪拌下に、（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸（１３．１ｇ，３６．６ｍｍｏｌ）のエタノール（１３０ｍＬ）溶液を加え、析出晶を濾取した。得られた結晶をエタノール（２０ｍＬ）で洗浄後、乾燥することにより淡褐色固体＜２＞を得た（１６．６ｇ）。
固体＜１＞のメタノール（１３０ｍＬ）、水（１０ｍＬ）の懸濁液を、還流下で３０分攪拌後、反応混合物を室温まで冷却し、析出晶を濾取した。析出晶をメタノール（１０ｍＬ）で洗浄後、乾燥することにより白色固体の（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸塩を得た（１１．４ｇ，２１．６ｍｍｏｌ）（白色固体のＸ線結晶解析を行うことにより、シス−２．２−ジメチルデカヒドロキノキサリンの絶対立体配置を決定した）。この固体を１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（４４ｍＬ）に溶解し、生成物をエーテル（１００ｍＬ）で３回、塩化メチレン（１００ｍＬ）で３回抽出した。抽出した有機層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し白色固体の（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（３．４４ｇ，収率２５％）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.06 ( 3H, s ), 1.20 ( 3H, s ), 1.2-1.4 ( 4H, m ), 1.45-1.95 ( 5H, m ), 1.95-2.15 ( 1H, m ), 2.36 ( 1H, d, J = 12.7Hz ), 2.65-2.75 ( 2H, m ), 3.15-3.25 ( 1H, m ).
固体＜２＞のメタノール（１３０ｍＬ）、水（１０ｍＬ）の懸濁液を、還流下で１時間攪拌後、反応混合物を室温まで冷却し、析出晶を濾取した。析出晶をメタノール（１０ｍＬ）で洗浄後、乾燥することにより白色固体の（４ａＳ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸塩を得た（１６．０ｇ，３０．４ｍｍｏｌ）。この固体を１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（６５ｍＬ）に溶解し、生成物を塩化メチレン（１００ｍＬ）で３回抽出した。抽出した有機層を合わせて、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮し淡褐色固体の（４ａＳ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（４．６３ｇ，収率３４％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.06（ 3H，s )，1.19（ 3H，s )，1.2-1.45（ 5H，m )，1.45-1.65（ 3H，m )，1.65-1.8（ 1H，m )，1.95-2.15（ 1H，m )，2.36（ 1H，d，J = 12.7Hz )，2.6-2.8（ 2H，m )，3.15-3.25（ 1H，m ).
適当な出発原料を用い、参考例４０，４１と同様にして下記参考例４２〜４５の化合物を製造した。
［参考例４２］（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］
［参考例４３］（４ａ’Ｓ，８ａ’Ｒ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］
［参考例４４］（４ａＲ，８ａＳ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.0-1.25（ 1H，m )，1.25-1.65（ 5H，m )，1.65-2.05（ 3H，m )，2.2-2.4（ 1H，m )，2.45-2.7（ 2H，m )，2.75-3.1（ 3H，m )，3.63（ 2H，br )，7.15-7.4（ 5H，m ).
［参考例４５］（４ａＳ，８ａＲ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.05-1.25（ 1H，m )，1.25-1.65（ 5H，m )，1.65-2.05（ 3H，m )，2.2-2.4（ 1H，m )，2.5-2.7（ 2H，m )，2.75-3.1（ 3H，m )，3.63（ 2H，br )，7.15-7.4（ 5H，m ).
［参考例４６］（トランス−３−オキソデカヒドロキノキサリン−１−イル）酢酸 エチルエステル

の製造
トランス−シクロヘキサン−１，２−ジアミン（３．００ｇ，２６．３ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍｌ）に希釈し、氷冷下、ブロモ酢酸エチル（６．１２ｍＬ，５５．２ｍｍｏｌ）を滴下して加え、その後室温にて終夜撹拌した。
反応液に水を加え撹拌し、生成物を塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムにて乾燥した後、濾過し、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチレン／メタノール）にて分離精製しすることにより、オレンジ色粒固体の（トランス−３−オキソデカヒドロキノキサリン−１−イル）酢酸 エチルエステルを得た（２．３５ｇ，収率７４．４％）
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.13-1.41（4H，m), 1.28（3H，t，J = 7.1 Hz)，1.72-1.97（4H，m)，2.59-2.67（1H，m)，3.06-3.13（1H，m)，3.35（1H，d，J = 17.4 Hz)，3.48（1H，d，J = 16.8 Hz)，3.52（1H，d，J = 17.4 Hz)，3.60（1H，d，J = 16.8 Hz), 4.17（2H，q，J = 7.1 Hz)， 6.79（1H，brs).
［参考例４７］２−（トランス−デカヒドロキノキサリン−１−イル）エタノール

の製造
水素化リチウムアルミニウム（１．００ｇ，２６．４ｍｍｏｌ）を脱水ジオキサン（４０ｍｌ）に懸濁し、撹拌しながら（トランス−３−オキソデカヒドロキノキサリン−１−イル）酢酸 エチルエステル（２．３５ｇ，９．７８ｍｍｏｌ）の脱水ジオキサン（１０ｍｌ）溶液を室温で滴下して加え、その後１０分間還流撹拌した。反応混合物を氷冷し、ガスが発生しなくなるまで硫酸ナトリウム・十水和物を少しずつ加えた。これをセライト濾過し、塩化メチレンで洗浄後、濾液を減圧濃縮し、褐色油状物の２−（トランス−デカヒドロキノキサリン−１−イル）エタノールを得た（１．７４ｇ，収率９７％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 0.95-1.11（1H，m), 1.15-1.44（3H，m)，1.68-1.80（5H，m),1.85-1.94（1H，m)，2.05-2.44（4H，m)，2.87-2.97（3H，m)，3.04-3.16（1H，m)，3.46-3.54（1H，m)，3.60-3.69（1H，m).
［参考例４８］トランス−１−［２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］デカヒドロキノキサリン

の製造
２−（トランス−デカヒドロキノキサリン−１−イル）エタノール（１．７４ｇ，９．４４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（４０ｍＬ）溶液を、氷冷攪拌下にトリエチルアミン（４．６１ｍＬ，３３．０ｍＬ）、次いでｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルクロライド（４．２７ｇ，２８．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で一夜攪拌した。反応混合物に水（１００ｍＬ）を加え反応を停止し、生成物を塩化メチレン（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を水で２回、飽和食塩水で１回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト精製（塩化メチレン／メタノール）することにより、淡褐色油状物のトランス−１−［２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］デカヒドロキノキサリンを得た（２．００ｇ，収率７１％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 0.06（6H，s），0.89（9H，s），0.98-1.36（4H，m），1.65-1.79（4H，m）,1.85-1.95（1H，m），2.08-2.14（1H，m），2.24-2.39（1H，m），2.45-2.61（2H，m），2.79-3.03（4H，m），3.62-3.80（2H，m）.
適当な出発原料を用い、参考例1と同様にし
て下記参考例５０、５１の化合物を製造した。
［参考例５０］（４ａ’Ｓ，８ａ’Ｓ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］−３’−オン

1H-NMR (CDCl3) δppm : 0.99-1.38 (4H, m), 1.55-1.78 (5H, m), 1.78-1.94 (3H, m), 2.21-2.33 (2H, m), 2.48-2.59 (1H, m), 2.63 (1H, brs), 2.76-2.87 (1H, m), 7.36 (1H, s).
［参考例５１］（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｒ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］−３’オン

1H-NMR (CDCl3) δppm : 0.97-1.36 (4H, m), 1.55-1.77 (5H, m), 1.77-1.92 (3H, m), 2.20-2.32 (2H, m), 2.47-2.57 (1H, m), 2.63 (1H, brs), 2.76-2.86 (1H, m), 7.36 (1H, s).
適当な出発原料を用い、参考例１６と同様にして下記参考例５２、５３の化合物を製造した。
［参考例５２］（４ａ’Ｓ，８ａ’Ｓ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］

1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.05-1.90 (15H, m), 2.15-2.30 (3H, m), 2.69 (1H, dd, J = 1.5, 12.2 Hz), 3.01 (1H, d, J = 12.2 Hz).
［参考例５３］（４ａＲ，８ａ’Ｒ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］

1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.05-1.91 (15H, m), 2.15-2.30 (3H, m), 2.69 (1H, d, J = 12.2 Hz), 3.01 (1H, d, J = 12.2 Hz).
［参考例５４］（４ａＳ，８ａＲ）−ｔｅｒｔ−ブチル ４−ベンジルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−１−ベンジルデカヒドロキノキサリン（１．６３ｇ，７．０８ｍｍｏｌ）のＭｅＯＨ（１６ｍｌ）溶液にジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボネート（１．７０ｇ，７．７９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。溶媒を留去した後、残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、無色油状の（４ａＳ，８ａＲ）−ｔｅｒｔ−ブチル４−ベンジルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレートを得た（２．３８ｇ，収率：定量的）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.26-1.66 (14H, m), 1.79-1.96 (2H, m), 2.14-2.33 (2H, m), 2.40-2.45 (1H, m), 2.66 (1H, brs), 2.86 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.03 (1H, brs), 3.50-4.10 (2H, br), 4.16 (1H, d, J = 13.2 Hz), 7.21-7.36 (5H, m).
適当な出発原料を用い、参考例５４と同様にして下記参考例５５の化合物を製造した。
［参考例５５］（４ａＲ，８ａＳ）−ｔｅｒｔ−ブチル ４−ベンジルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート

1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.26-1.66 (14H, m), 1.79-1.96 (2H, m), 2.14-2.33 (2H, m), 2.40-2.45 (1H, m), 2.65 (1H, brs), 2.86 (1H, d, J = 13.2 Hz), 3.03 (1H, brs), 3.51-4.10 (2H, br), 4.16 (1H, d, J = 13.2 Hz), 7.21-7.36 (5H, m).
［参考例５６］（４ａＳ，８ａＲ）−ｔｅｒｔ−ブチルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート

の製法
（４ａＳ，８ａＲ）−ｔｅｒｔ−ブチル４−ベンジルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート（２．４ｇ，７．２６ｍｍｏｌ）のＥｔＯＨ（２５ｍｌ）溶液にＰｅａｒｌｍａｎ’ｓＣａｔａｌｙｓｔ（０．２４ｇ）を加えた。この懸濁液を、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。触媒をセライトろ過し、ＥｔＯＨで洗浄後、ろ液を減圧濃縮し、無色油状の（４ａＳ，８ａＲ）−ｔｅｒｔ−ブチルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレートを得た（１．６７ｇ，収率：９６％）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.16-1.53 (14H, m), 1.53-1.82 (3H, m), 1.83-2.00 (1H, m), 2.68-2.83 (1H, m), 2.85-3.10 (3H, m), 3.65-4.06 (2H, m).
適当な出発原料を用い、参考例５６と同様にして下記参考例５７の化合物を製造した。
［参考例５７］（４ａＲ，８ａＳ）−ｔｅｒｔ−ブチルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート

1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.18-1.55 (14H, m), 1.55-1.82 (3H, m), 1.85-2.00 (1H, m), 2.68-2.82 (1H, m), 2.85-3.10 (3H, m), 3.65-4.04 (2H, m).
［参考例５８］ｃｉｓ ｔｅｒｔ−ブチル４−（４−クロロフェニル）デカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート

の製法
ｃｉｓ ｔｅｒｔ−ブチルデカヒドロキノキサリン−１−カルボキシレート（２４０ｍｇ，０．９９９ｍｍｏｌ），１−ブロモ−４−ｃｈｌｏｒｏベンゼン（２１１ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ），Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１１．２ｍｇ，０．０４９９ｍｍｏｌ），ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１４．５ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ），ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（４ｍｌ）懸濁液を窒素雰囲気下、５時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４加え攪拌した。不溶物をセライトろ過し、セライト層をＡｃＯＥｔ（５ｍｌ×２）で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、白色固体を得た（８７ｍｇ，収率：２５％）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.10-1.40 (4H, m), 1.40-1.52 (10H, m), 1.63-1.71 (1H, m), 1.73-1.82 (1H, m), 2.15-2.28 (1H, m), 2.74 (1H, dt, J = 3.6, 11.8 Hz), 2.90-2.97 (1H, m), 3.05-3.11 (1H, m), 3.27 (1H, dt, J = 3.4, 12.6 Hz), 3.77-3.86 (1H, m), 4.01-4.10 (1H, m), 7.08-7.13 (2H, m), 7.25-7.30 (2H, m).
適当な出発原料を用い、参考例３５と同様にして下記参考例５９〜６３の化合物を製造した。
［参考例５９］（４ａＳ，８ａＳ）−デカヒドロキノキサリン

1H-NMR (CDCl3) δppm :1.12-1.58 (6H, m), 1.62-1.78 (4H, m), 2.20-2.29 (2H, m), 2.82-3.02 (4H, m).
［参考例６０］（４ａＲ，８ａＲ）−デカヒドロキノキサリン

1H-NMR (CDCl3) δppm :1.14-1.27 (2H,m ), 1.27-1.57(4H, m), 1.62-1.79 (4H, m), 2.19-2.30(2H, m), 2.83-3.03(4H, m).
［参考例６１］（２Ｒ，４ａＳ，８ａＳ）−２−メチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR (CDCl3) δppm :1.02 (3H, d, J = 6.3 Hz), 1.11-1.51 (6H, m), 1.62-1.79 (4H, m), 2.14-2.22 (1H, m), 2.24-2.33 (1H, m), 2.44 (1H, dd, J = 10.2, 11.7 Hz), 2.81-2.91 (1H, m), 2.94 (1H, dd, J = 2.9, 11.7 Hz).
［参考例６２］（２Ｓ，４ａＲ，８ａＲ）−２−メチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR (CDCl3) δppm : 1.02 (3H, d, J = 6.3 Hz), 1.10-1.49 (6H, m), 1.62-1.80 (4H, m), 2.14-2.22 (1H, m), 2.24-2.33 (1H, m), 2.44 (1H, dd, J = 10.3, 11.7 Hz), 2.80-2.91 (1H, m), 2.94 (1H, dd, J = 2.9, 11.7 Hz).
［参考例６３］（２Ｒ，４ａＳ，８ａＳ）−２−エチルデカヒドロキノキサリン

1H-NMR (CDCl3) δppm : 0.92 ( 3H, t, J = 7.5 Hz ), 1.1-1.55 ( 8H, m ), 1.6-1.8 ( 4H, m ), 2.14-2.32 ( 2H, m ), 2.39-2.5 ( 1H, m ), 2.57-2.68 ( 1H, m ), 3.01 ( 1H, dd, J = 2.6, 11.6 Hz ).
［実施例１］（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−６−イル）デカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＳ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（３３７ｍｇ，２．００ｍｍｏｌ）、６−ブロモ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール（８４６ｍｇ，２．４０ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２６９ｍｇ，２．８０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（２２．５ｍｇ，０．０９０２ｍｍｏｌ）及びトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン・テトラフルオロボレート（２９．１ｍｇ，０．１０１ｍｍｏｌ）のトルエン（８ｍＬ）懸濁液を、窒素雰囲気下で還流下に５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、水（０．５ｍＬ）及び酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え攪拌した後、硫酸マグネシウムを加えた。不溶物をセライト濾過した後、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマト精製（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル）することにより、無色不定形の（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−６−イル）デカヒドロキノキサリンを得た（０．７５ｇ，収率８５％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.1-1.2（ 18H，m )，1.21（ 3H，s )，1.29（ 3H，s )，1.3-1.55（ 5H，m )，1.55-1.8（ 7H，m )，2.79（ 1H，d，J = 11.6Hz )，2.91（ 1H，d，J = 11.6Hz )，3.45-3.6（ 2H，m )，6.49（ 1H，dd，J = 0.7，3.2Hz )，6.82（ 1H，dd，J = 2.0，8.6Hz )，6.93（ 1H，s )，7.08（ 1H，d，J = 3.2Hz )，7.45（ 1H，d，J = 8.6Hz ).
［実施例２］（４ａＲ，８ａＳ）−１−（１Ｈ−インドール−６−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−６−イル）デカヒドロキノキサリン（０．７５０ｇ，１．７１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を室温で攪拌下に、フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（１Ｍ ｉｎ ＴＨＦ）（３．４１ｍＬ，３．４１ｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧留去し、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマト（酢酸エチル／ヘキサン）で精製し、白色固体を得た。得られた固体をジイソプロピルエーテル／ヘキサンで再結晶を行い、（４ａＲ，８ａＳ）−１−（１Ｈ−インドール−６−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（３０５ｍｇ，収率６３％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.0-1.55（ 11H，m )，1.55-1.85（ 4H，m )，2.79（ 1H，d，J = 11.6Hz )，2.94（ 1H，d，J = 11.6Hz )，3.45-3.55（ 1H，m )，3.6-3.75（ 1H，m )，6.35-6.5（ 1H，m )，6.79（ 1H，s )，6.86（ 1H，dd，J = 2.1，8.7Hz )，7.03（ 1H，dd，J = 2.7，2.7Hz )，7.47（ 1H，d，J = 8.6Hz )，7.92（ 1H，br ).
［実施例３］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−クロロフェニル）デカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＳ，８ａＳ）−１−ベンジル−４−（４−クロロフェニル）デカヒドロキノキサリン（０．６５０ｇ，１．９１ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（６．５ｍＬ）溶液を氷冷攪拌下、クロロギ酸 １−クロロエチル（２２９μＬ，２．１０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１５時間攪拌した後、反応混合物を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（６．５ｍＬ）に溶解し、これを還流下１時間攪拌した。反応混合物から溶媒を留去し、得られた残渣にアセトン（５ｍＬ）を加えて攪拌し、析出晶を濾取した。得られた結晶をアセトン（１ｍＬ）で洗浄後、乾燥し白色粉末の（４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−クロロフェニル）デカヒドロキノキサリンを得た（２５３ｍｇ，収率５３％）。
1H-NMR（ DMSO-d6 ）δppm : 0.85-1.05（ 1H，m )，1.1-1.4（ 2H，m )，1.4-1.65（ 3H，m )，1.65-1.8（ 1H，m )，1.9-2.05（ 1H，m )，2.8-3.05（ 2H，m )，3.05-3.2（ 3H，m )，3.2-3.5（ 1H，m )，7.1-7.2（ 2H，m )，7.35-7.45（ 2H，m )，9.2-9.65（ 2H，m ).
［実施例４］シス−４−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−５−イル）−１，２，２−トリメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩

の製造
シス−１−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−５−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２９８ｍｇ，０．９９２ｍｍｏｌ）のメタノール（１０ｍＬ）溶液を室温攪拌下に、３７％ホルムアルデヒド水溶液（０．８１ｍＬ，９．９ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後、反応溶液にシアノ水素化ホウ素ナトリウム（３１１ｍｇ，４．９６ｍｍｏｌ）、酢酸（０．３０ｍＬ）を室温で加え、一夜攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧留去の後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（５０ｍＬ）で２回抽出した。有機層を水で２回、飽和食塩水で１回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト精製（塩化メチレン：メタノール＝１０：１）し褐色油状物を得た。得られた油状物のエタノール溶液を室温攪拌下に、４Ｎ−塩酸／酢酸エチル（０．６ｍＬ）を加え析出晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥し、白色粉末のシス−４−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−５−イル）−１，２，２−トリメチルデカヒドロキノキサリン 塩酸塩を得た（２５８ｍｇ，収率７４％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.17-1.34（1H，m)，1.37-1.74（2H，m)，1.47（3H，s)，1.87-2.04（1H，m)，1.90（3H，s)，2.20-2.30（1H，m)，2.39-2.54（1H，m)，2.64-2.88（2H，m)，2.75（3H，d，J = 4.9 Hz)，3.12（1H，d，J = 13.2 Hz)，3.69-3.74（1H，m)，3.85-3.93（1H，m)，3.87（1H，d，J = 13.2 Hz)，7.01（1H，dd，J = 8.8，2.3 Hz)，7.21-7.32（2H，m)，7.44（1H，d，J = 5.4 Hz)，7.75（1H，d，J = 8.8 Hz)，11.20（1H，brs).
［実施例５］２−（トランス−４−（ナフタレン−２−イル）デカヒドロキノキサリン−１−イル）エタノール２塩酸塩

の製造
トランス−１−（２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル）−４−（ナフタレン−２−イル）デカヒドロキノキサリン（８２０ｍｇ，１．９３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液を室温で攪拌下にフッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（１Ｍ ｉｎ ＴＨＦ）（２．１ｍＬ，２．１ｍｍｏｌ）を加え、一夜攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、水で２回、飽和食塩水で１回洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト精製（塩化メチレン：メタノール＝１０：１）し無色不定形固体（５３４ｍｇ）を得た。得られた固体の内３１９ｍｇをエタノールに溶解し、室温攪拌下に、４Ｎ−塩酸／酢酸エチル（１．０ｍＬ）を加え析出晶を濾取した。得られた結晶を、酢酸エチルで洗浄した後、減圧下乾燥し、白色粉末の２−（トランス−４−（ナフタレン−２−イル）デカヒドロキノキサリン−１−イル）エタノール２塩酸塩を得た（３６５ｍｇ，収率４９％）。
1H-NMR（CDCl3）δppm : 1.23-1.76（4H，m)，1.86-2.08（3H，m)，2.43-2.48（1H，m)，3.18-3.25（1H，m)，3.72-3.77（2H，m)，3.93-3.98（1H，m)，3.93-4.78（1H，br)，4.08-4.20（2H，m)，4.39-4.55（1H，m)，4.57-4.78（2H，m)，4.97-5.06（1H，m)，7.61-7.68（3H，m)，7.81-8.07（3H，m)，8.17-8.69（1H，br)，12.73（1H，brs)，14.91（1H，brs).
［実施例７７］（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−フルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１６８ｍｇ，０．９９８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−７−フルオロベンゾフラン（２５８ｍｇ、１．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１１．２ｍｇ，０．０４９９ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１４．５ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ、ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（４ｍｌ）懸濁液を窒素雰囲気下、４時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した。不溶物をろ過し、ＡｃＯＥｔ（５ｍＬ×２）で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、無色油状物を得た（１６７ｍｇ）。この油状物をヘキサン（１ｍＬ）から結晶化し、白色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−フルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（１０７ｍｇ，収率：３５％）。
1H-NMR ( CDCl3 ) δppm : 1.0-1.45 ( 11H, m ), 1.6-1.8 ( 3H, m ), 1.8-1.95 ( 1H, m ), 2.70 ( 1H, d, J = 11.3Hz ), 3.04 ( 1H, d, J = 11.3Hz ), 3.50 ( 1H, ddd, J = 3.8, 3.8, 12.1Hz ), 3.55-3.65 ( 1H, m ), 6.47 ( 1H, dd, J = 3.4, 8.6Hz ), 6.84 ( 1H, dd, J = 2.5, 2.5Hz ), 6.89 ( 1H, dd, J = 8.6, 10.4Hz ), 7.60 ( 1H, d, J = 2.2Hz ).
［実施例１０６］（４ａＳ，８ａＲ）−１−（４−クロロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２５２ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−４−クロロベンゼン（３４５ｍｇ、１．８０ｍｍｏｌ、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１６．８ｍｇ，０．０７４８ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（２１．８ｍｇ，０．０７５１ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（２０２ｍｇ，２．１０ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）懸濁液を窒素雰囲気下、５時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）を加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した後、不溶物をセライトろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製した。得られた油状物を１Ｎ−ＨＣｌ−ＥｔＯＨ（３ｍＬ）に溶解し、溶媒を減圧留去した。析出晶をエタノール／アセトンから再結晶し、白色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（４−クロロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩を得た（２６２ｍｇ，収率：５５％）。
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm : 1.2-1.45 ( 6H, m ), 1.51 ( 3H, s ), 1.6-2.1 ( 5H, m ), 2.93 ( 1H, d, J = 13.6Hz ), 3.40 ( 1H, d, J = 13.8Hz ), 3.65-3.85 ( 1H, m ), 3.9-4.1 ( 1H, m ), 6.8-7.05 ( 2H, m ), 7.1-7.35 ( 2H, m ), 8.14 ( 1H, br ), 9.77 ( 1H, br ).
［実施例１１２］（４ａＳ，８ａＲ）−１−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１６８ｍｇ，０．９９８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−２−クロロ−１−フルオロベンゼン（２５１ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１１．２ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１４．５ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍｌ）懸濁液を窒素雰囲気下、５時間還流し攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した後、不溶物をろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製した。得られた油状物を１Ｎ−ＨＣｌ−ＥｔＯＨ（３ｍＬ）に溶解し、エタノールを減圧留去した。析出晶をエタノール／アセトンから再結晶し、白色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩を得た（１５３ｍｇ，収率：４６％）
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm : 1.15-1.45 ( 6H, m ), 1.51 ( 3H, s ), 1.6-1.9 ( 4H, m ), 1.9-2.05 ( 1H, s ), 2.01 ( 1H, d, J = 8.2Hz ), 3.3-3.45 ( 1H, m ), 3.65-3.8 ( 1H, m ), 3.95-4.1 ( 1H, m ), 6.85-7.0 ( 1H, m ), 7.12 ( 1H, dd, J = 3.0, 6.2Hz ), 7.25 ( 1H, dd, J = 9.1, 9.1Hz ), 8.13 ( 1H, br ), 9.86 ( 1H, br ).
［実施例１５０］５−（（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン−１−イル）−１−メチル−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル

の製造
（４ａＳ，８ａＲ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１６８ｍｇ，０．９９８ｍｍｏｌ）、５−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル（２５９ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１１．２ｍｇ，０．０４９９ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１４．５ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（４ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、４時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ＣＨ２Ｃｌ２：ＭｅＯＨ（３：１）（５ｍＬ×２）で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、無色油状物を得た。この油状物をヘキサン（１ｍＬ）から結晶化し、淡黄色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−フルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（１４８ｍｇ，収率：４６％）。
1H-NMR ( CDCl3 ) δppm : 0.7-2.3 ( 15H, m ), 2.7-3.2 ( 2H, m ), 3.5-3.8 ( 2H, m ), 3.85 ( 3H, s ), 6.95-7.05 ( 2H, m ), 7.15-7.3 ( 2H, m ).
［実施例２３７］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（３−クロロ−４−シアノフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩

の製造
（４ａＳ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（４００ｍｇ，２．３８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−２−クロロベンゾニトリル（６６９ｍｇ，３．０９ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（５３ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（７０ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＯＮａ（３２０ｍｇ，３．３３ｍｍｏｌ）のトルエン（１０ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、５時間還流攪拌した。反応液を冷却後、不溶物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＣＨ２Ｃｌ２／ＭｅＯＨ）で精製し、オレンジ色のアモルファス固体を得た。このアモルファス固体を酢酸エチル（５ｍＬ）に溶解し、４Ｎ−ＨＣｌ／ＡｃＯＥｔ（０．６ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ取、減圧乾燥し、ｐａｌｅｏｒａｎｇｅｐｏｗｄｅｒの（４ａＳ，８ａＳ）−１−（３−クロロ−４−シアノフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（３０４ｍｇｍ，４８％）。
1H-NMR ( CDCl3 ) δppm :1.05-1.20 (1H, m), 1.23-1.44 (2H, m), 1.54-2.10 (4H, m), 1.63 (3H, s), 1.68 (3H, s), 2.35-2.40 (1H, m), 2.89 (1H, d, J = 12.7 Hz), 3.19 (2H, br), 3.34 (1H, d, J = 12.7 Hz), 7.06 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 7.20 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.61 (1H, d, J = 8.4 Hz), 9.62 (1H, brs), 9.90 (1H, br)
［実施例５７９］（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−４’−（７−メトキシベンゾフラン−４−イル）オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］

の製造
（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］（１８０ｍｇ，０．９９８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−７−メトキシベンゾフラン（２５０ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１１．２ｍｇ，０．０４９９ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１４．５ｍｇ，０．０５００ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（４ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、４時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した。不溶物をろ過し、ＡｃＯＥｔ（５ｍＬ×２）で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、無色アモルファス固体を得た。この固体をヘキサン（１ｍＬ）から結晶化し、白色粉末の（４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−４’−（７−メトキシベンゾフラン−４−イル）オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］を得た（１０７ｍｇ，収率：３５％）。
1H-NMR ( CDCl3 ) δppm : 0.95-1.1 ( 2H, m ), 1.3-1.4 ( 1H, m ), 1,4-2.1 ( 11H, m ), 2.25-2.4 ( 1H, m ), 3.01 ( 1H, d, J = 11.0Hz ), 3.17 ( 1H, d, J = 11.1Hz ), 3.40 ( 1H, br ), 3.45-3.5 ( 1H, m ), 3.97 ( 3H, s ), 6.58 ( 1H, d, J = 8.4Hz ), 6.70 ( 1H, d, J = 8.4Hz ), 6.80 ( 1H, d, J = 2.1Hz ), 7.58 ( 1H, d, J = 2.1Hz ).
［実施例５８０］（４ａＳ，８ａＲ）−１−（６，７−ｄｉフルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２５２ｍｇ，１．５０ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−６，７−ジフルオロベンゾフラン（３８４ｍｇ，１．６５ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１６．８ｍｇ，０．０７４８ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（２１．８ｍｇ，０．０７５１ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（２０２ｍｇ，２．１０ｍｍｏｌ）のトルエン（６ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、３時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した後、不溶物をセライトろ過した。ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、微黄色油状物を得た（１９３ｍｇ）。この油状物をエタノール（２ｍＬ）に溶解し、１Ｎ−ＨＣｌ−ＥｔＯＨ（１．２ｍＬ）を加え、攪拌した。析出した結晶をろ取、酢酸エチルで洗浄後、減圧乾燥し、白色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（６，７−ジフルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン塩酸塩を得た（１６７ｍｇ，収率：３１％）。
1H-NMR ( DMSO-d6 ) δppm : 1.01-1.17 ( 2H, m ), 1.34-1.44 ( 1H, m ), 1.48 ( 3H, s ), 1.52 ( 3H, s ), 1.59-2.07 ( 5H, m ), 3.00 ( 1H, d, J = 13.0Hz ), 3.28 ( 1H, d, J = 13.2Hz ), 3.75-3.9 ( 1H, m ), 4.0-4.15 ( 1H, m ), 6.83 ( 1H, dd, J = 5.9, 13.5Hz ), 7.36 ( 1H ,dd, J = 2.6, 2.6Hz ), 8.0-8.2 ( 2H, m ), 9.7-9.9 ( 1H, m ).
［実施例５８１］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（２−シアノ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−５−イル）３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

（４ａＳ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２００ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）、５−ブロモ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル（４９３ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．３ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔＢｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１７．２ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＯＮａ（１３７ｍｇ，１．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、１００℃で４時間攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ）し、白色アモルファス固形物の（４ａＳ，８ａＳ）−１−（２−シアノ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−５−イル）３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（４３０ｍｇ，７８％）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 0.75-1.38 (26H, m), 1.41 (3H, s), 1.54-1.77 (4H, m), 2.01 (1H, sextet, J = 7.5 Hz), 2.25-2.32 (1H, m), 2.65 (1H, d, J = 11.2 Hz), 2.75-2.85 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 2.0, 9.1 Hz), 7.32 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.33 (1H, d, J = 0.5 Hz), 7.50 (1H, d, J = 9.1 Hz).
［実施例５８２］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（２−シアノ−１Ｈ−インドール−５−イル）３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＳ，８ａＳ）−１−（２−シアノ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−インドール−５−イル）３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１７０ｍｇ，０．３６６ｍｍｏｌ）の脱水テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液にテトラブチルアンモニウムフルオライド（１Ｍ−ＴＨＦ溶液，０．７３ｍＬ，０．７３ｍｍｏｌ）を室温で加え、反応液を室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／１０→１／１）し、溶媒を減圧除去した。得られた残渣を酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶し白色粉末の（４ａＳ，８ａＳ）−１−（２−シアノ−１Ｈ−インドール−５−イル）３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（３０ｍｇ，収率：２７％）。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm : 0.82-1.00 (4H, m), 1.18-1.34 (6H, m), 1.42-1.67 (5H, m), 2.19-2.27 (1H, m), 2.55 (1H, d, J = 10.9 Hz), 2.59-2.69 (2H, m), 7.11 (1H, dd, J = 1.8, 8.8 Hz), 7.26 (1H, d, J = 0.8 Hz), 7.32 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.36 (1J, d, J = 8.8 Hz).
［実施例５８３］（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（１６８ｍｇ，０．９９８ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン（２５５ｍｇ，１．１０ｍｍｏｌ）、ＮａＯｔ−Ｂｕ（１３５ｍｇ，１．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（４ｍＬ）懸濁液に、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（２５．６ｍｇ，０．０５０１ｍｍｏｌ）のトルエン（１ｍＬ）溶液を加え、窒素雰囲気下、４時間還流下攪拌した。反応液を室温まで冷却後、水（０．５ｍＬ）、ＡｃＯＥｔ（１０ｍＬ）加えて攪拌し、さらにＭｇＳＯ４を加え攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ＡｃＯＥｔ（５ｍＬ×２）で洗浄後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｈｅｘ−ＡｃＯＥｔ）にて精製し、白色固体を得た（１６７ｍｇ）。この固体をエタノール／水から再結晶を行い、白色粉末の（４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリンを得た（１３６ｍｇ，収率：４３％）。
［実施例５８４］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（６−シアノナフタレン−２−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２００ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）、６−ブロモ−２−ナフトニトリル（３０３ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．３ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔＢｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１７．２ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＯＮａ（１３７ｍｇ，１．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５ｍＬ）懸濁液を１００℃で４時間攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ）し、溶媒を減圧除去した。得られた残渣を酢酸エチル溶液とし、これに１Ｎ−塩酸−エタノールを加え、析出晶をロ取した。得られた結晶を減圧乾燥し白色粉末の（４ａＳ，８ａＳ）−１−（６−シアノナフタレン−２−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン２塩酸塩を得た（３０３ｍｇ，収率：６５％）。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm : 1.10-1.50 (6H, m), 1.56-1.90 (7H, m), 2.00-2.14 (1H, m), 3.08-3.45 (4H, m), 4.65-5.33 (1H, br), 7.45 (1H, dd, J = 2.0, 8.9 Hz), 7.64 (1H, d, J = 1.8 Hz), 7.73 (1H, dd, J = 1.6, 8.6 Hz), 8.00 (1H, d, J = 8.6 Hz), 8.04 (1H, d, J = 8.6 Hz), 8.49 (1H, s), 9.10-9.28 (1H, br), 9.60-9.78 (1H, br).
［実施例５８５］（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリン

の製造
（４ａＳ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２００ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン（４６２ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．３ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔＢｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１７．２ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＯＮａ（１３７ｍｇ，１．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５ｍＬ）懸濁液を窒素雰囲気下、１００℃で４時間攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ）し、白色アモルファス固形物の（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリンを得た（４３９ｍｇ，８４％）。
1H-NMR (CDCl3) δppm : 0.95-1.20 (22H, m), 1.36-1.45 (3H, m), 1.52 (3H, s), 1.65-1.92 (7H, m), 2.11-2.20 (1H, m), 2.57-2.67 (2H, m), 2.83-2.95 (1H, m), 3.26- (1H, d, J = 11.7 Hz), 6.55 (1H, d, J = 3.5 Hz), 6.63 (1H, d, J = 5.3 Hz), 7.18 (1H, d, J = 3.5 Hz), 8.12 (1H, d, J = 5.3 Hz).
［実施例５８６］（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリンフマル酸塩

の製造
（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１−（トリイソプロピルシリル）−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリン（４３０ｍｇ，０．９７６ｎｎｏｌ）の脱水テトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に、フッ化テトラブチルアンモニウム（１Ｍ−ＴＨＦ溶液，１．９５ｍＬ，１．９５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を塩基性シリカゲルカラムクロマトで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／１０→１／１）し、油状の生成物（３７０ｍｇ，１．３０ｍｍｏｌ）を得た。この油状物をエタノール（５ｍＬ）に溶解し、フマル酸（１５１ｍｇ）のエタノール（５ｍＬ）溶液を加え、エタノールを減圧除去した。得られた個体を、エタノール／酢酸エチルから再結晶し、白色粉末の５−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン−１−イル）−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリルを得た（２４６ｍｇ，収率：６３％）。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm : 0.94-1.09 (1H, m), 1.20 (3H, s), 1.26-1.55 (7H, m), 1.68-1.78 (1H, m), 1.85-2.04 (2H, m), 2.81-2.93 (1H, m), 2.95-3.23 (3H, m), 6.36-6.42 (1H, m), 6.49 (2H, s), 6.71 (1H, d, J = 5.2 Hz), 7.32-7.38 (1H, m), 8.09 (1H, d, J = 5.2 Hz), 8.50-11.20 (1H, br), 11.59 (1H, s).
［実施例５８７］（４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−（ジフルオロメトキシ）−３−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン２塩酸塩

の製造
（４ａＲ，８ａＳ）−２，２−ジメチルデカヒドロキノキサリン（２００ｍｇ，１．１９ｍｍｏｌ）、４−ブロモ−１−ジフルオロメトキシ−２−フルオロベンゼン（３１５ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（１３．３ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔＢｕ３Ｐ．ＨＢＦ４（１７．２ｍｇ，０．０５９４ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＯＮａ（１３７ｍｇ，１．４３ｍｍｏｌ）のトルエン（５ｍＬ）懸濁液を１００℃で４時間攪拌した。不溶物をセライトろ過し、ろ液を濃縮した。得られた残渣を塩基性−シリカゲルカラムクロマトで精製（ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ）し、溶媒を減圧除去した。得られた残渣を酢酸エチル溶液とし、これに１Ｎ−塩酸−エタノールを加え、析出晶をろ取した。得られた結晶を減圧乾燥し白色粉末の（４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−ジフルオロメトキシ−３−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン２塩酸塩を得た（３０３ｍｇ，収率：６５％）。
1H-NMR (DMSO-d6) δppm :1.01-1.39 (6H, m), 1.49-1.67 (6H, m), 1.67-1.77 (1H, m), 1.96-2.05 (1H, m), 2.81-2.95 (2H, m), 3.02 (1H, d, J = 12.5 Hz), 3.10-3.23 (1H, m), 6.96-7.01 (1H, m), 7.02 (0.25H, s), 7.17 (1H, dd, J = 2.5, 12.1 Hz), 7.20 (0.5H, s), 7.33 (1H, t, J = 8.9 Hz), 7.39 (0.25H, s), 9.04-9.21 (1H, m), 9.70-9.85 (1H, m).
対応する適当な出発原料を用い、上記実施例と同様にして、下記表に示す実施例６〜７６、７８〜１０５、１０７〜１１１、１１３〜１４９、１５１〜２３６、２３８〜５７８、５８８〜１６５６の化合物を製造した。これらの表において、例えば、結晶形、ｍ．ｐ．（融点）、塩、１Ｈ−ＮＭＲ及びＭＳ（マススペクトル）等の物性を有する化合物が製造された。



















































































































薬理試験１
ラット脳シナプトソームによる試験化合物のセロトニン（５−ＨＴ）取り込み阻害活性の測定
雄のウィスターラットを断頭し、脳を取り出し、前頭皮質を切り取った。分離した前頭皮質を、重量の２０倍の０．３２モーラー（Ｍ）ショ糖溶液内に入れ、ポッター型ホモジナイザーでホモジナイズした。ホモジネートを１０００ｇ、４℃で１０分間遠心し、その上清をさらに２００００ｇ、４℃で２０分間遠心した。そのペレットをインキュベーションバッファー（１０ｍＭグルコース、１４５ｍＭ塩化ナトリウム、４．５ｍＭ塩化カリウム、１．２ｍＭ塩化マグネシウム及び１．５ｍＭ塩化カルシウムを含む２０ｍＭヘペスバッファー（ｐＨ７．４））に懸濁させ、粗シナプトソーム画分として用いた。
９６ウェル−ラウンドボトムのプレートの各ウェルを用い、パージェリン（最終濃度１０μＭ）及びアスコルビン酸（最終濃度０．２ｍｇ／ｍｌ）を含む総容量２００μｌの溶液で取り込み反応を行った。
つまり、溶媒、未標識５−ＨＴ及び段階希釈した試験化合物を各ウェルに加え、それぞれに最終容量の１０分の１量のシナプトソーム画分を加え、３７℃で１０分間プレインキュベーションした後、トリチウムラベル５−ＨＴ溶液（最終濃度８ｎＭ）を加えて３７℃で取り込み反応を開始した。９６ウェルガラス繊維フィルタープレートに吸引濾過することにより１０分後に取り込み反応を終了させた。さらにフィルターを冷生理食塩水で洗った後、十分に乾燥させ、マイクロシンチ０（パーキンエルマー）を加え、フィルター上の残存放射活性を測定した。
溶媒のみを加えたときの取り込み値を１００％、未標識の５−ＨＴ（最終濃度１０μＭ）を加えたときの取り込み値（非特異的取り込み値）を０％とした。試験化合物の濃度とその阻害活性から５０％阻害濃度を計算した。結果を表６０に示す。

薬理試験２
ラット脳シナプトソームによる試験化合物のノルエピネフィリン（ＮＥ）取り込み阻害活性の測定
雄のウィスターラットを断頭し、脳を取り出し、海馬を切り取った。分離した海馬を、重量の２０倍の０．３２モーラー（Ｍ）ショ糖溶液内に入れ、ポッター型ホモジナイザーでホモジナイズした。ホモジネートを１０００ｇ、４℃で１０分間遠心し、その上清をさらに２００００ｇ、４℃で２０分間遠心した。そのペレットをインキュベーションバッファー（１０ｍＭグルコース、１４５ｍＭ塩化ナトリウム、４．５ｍＭ塩化カリウム、１．２ｍＭ塩化マグネシウム及び１．５ｍＭ塩化カルシウムを含む２０ｍＭヘペスバッファー（ｐＨ７．４））に懸濁させ、粗シナプトソーム画分として用いた。
９６ウェル−ラウンドボトムのプレートの各ウェルを用い、パージェリン（最終濃度１０μＭ）及びアスコルビン酸（最終濃度０．２ｍｇ／ｍｌ）を含む総容量２００μｌの溶液で取り込み反応を行った。
つまり、溶媒、未標識ＮＥ及び段階希釈した試験化合物を各ウェルに加え、それぞれに最終容量の１０分の１量のシナプトソーム画分を加え、３７℃で１０分間プレインキュベーションした後、トリチウムラベルＮＥ溶液（最終濃度１２ｎＭ）を加えて３７℃で取り込み反応を開始した。９６ウェルガラス繊維フィルタープレートに吸引濾過することにより１０分後に取り込み反応を終了させた。さらにフィルターを冷生理食塩水で洗った後、十分に乾燥させ、マイクロシンチ０（パーキンエルマー）を加え、フィルター上の残存放射活性を測定した。
溶媒のみを加えたときの取り込み値を１００％、未標識のＮＥ（最終濃度１０μＭ）を加えたときの取り込み値（非特異的取り込み値）を０％とした。試験化合物の濃度とその阻害活性から５０％阻害濃度を計算した。結果を表６１に示す。

薬理試験３
ラット脳シナプトソームによる試験化合物のドパミン（ＤＡ）取り込み阻害活性の測定
雄のウィスターラットを断頭し、脳を取り出し、線条体を切り取った。分離した線条体を、重量の２０倍の０．３２モーラー（Ｍ）ショ糖溶液内に入れ、ポッター型ホモジナイザーでホモジナイズした。ホモジネートを１０００ｇ、４℃で１０分間遠心し、その上清をさらに２００００ｇ、４℃で２０分間遠心した。そのペレットをインキュベーションバッファー（１０ｍＭグルコース、１４５ｍＭ塩化ナトリウム、４．５ｍＭ塩化カリウム、１．２ｍＭ塩化マグネシウム及び１．５ｍＭ塩化カルシウムを含む２０ｍＭヘペスバッファー（ｐＨ７．４））に懸濁させ、粗シナプトソーム画分として用いた。
９６ウェル−ラウンドボトムのプレートの各ウェルを用い、パージェリン（最終濃度１０μＭ）及びアスコルビン酸（最終濃度０．２ｍｇ／ｍｌ）を含む総容量２００μｌの溶液で取り込み反応を行った。
つまり、溶媒、未標識ＤＡ及び段階希釈した試験化合物を各ウェルに加え、それぞれに最終容量の１０分の１量のシナプトソーム画分を加え、３７℃で１０分間プレインキュベーション後、トリチウムラベルＤＡ溶液（最終濃度２ｎＭ）を加えて３７℃で取り込み反応を開始した。９６ウェルガラス繊維フィルタープレートに吸引濾過することにより１０分後に取り込み反応を終了させた。さらにフィルターを冷生理食塩水で洗った後、十分に乾燥させ、マイクロシンチ０（パーキンエルマー）を加え、フィルター上の残存放射活性を測定した。
溶媒のみを加えたときの取り込み値を１００％、未標識のＤＡ（最終濃度１０μＭ）を加えたときの取り込み値（非特異的取り込み値）を０％とした。試験化合物の濃度とその阻害活性から５０％阻害濃度を計算した。結果を表６２に示す。

薬理試験４
強制水泳試験
この試験を、ポルソルトらの方法（Ｐｏｒｓｏｌｔ，Ｒ．Ｄ．，ｅｔ ａｌ．，Ｂｅｈａｖｉｏｕｒａｌ ｄｅｓｐａｉｒ ｉｎ ｍｉｃｅ： Ａ ｐｒｉｍａｒｙ ｓｃｒｅｅｎｉｎｇ ｔｅｓｔ ｆｏｒ ａｎｔｉｄｅｐｒｅｓｓａｎｔｓ．Ａｒｃｈ．ｉｎｔ． Ｐｈａｒｍａｃｏｄｙｎ．，２２９，ｐｐ３２７−３３６（１９７７））に準じて行った。
試験化合物を５％アラビアゴム／生理食塩水溶液（ｗ／ｖ）に懸濁し、雄性アイシーアール（ＩＣＲ）マウス（日本クレア（ＪＣＬ）、５〜６週齢）に経口投与した。その１時間後に、マウスを水深９．５ｃｍ、水温２１〜２５℃の水槽内に入れ、直後より６分間水泳試行を実施した。そして後半４分間におけるマウスが動かない時間（無動時間）を計測した。無動時間の測定解析には、メルクエスト社のスキャネットＭＶ−２０ＡＱ（ＳＣＡＮＥＴ ＭＶ−２０ ＡＱ）システムを使用した。
この実験において、試験化合物で処理された動物は、無動時間の短縮を示した。このことから、試験化合物が抗うつ薬として有用であることが明らかである。

Claims (16)

  1. 一般式（１）：

    ［式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＨ２−を示す。
    Ｒ１は、水素；低級アルキル基；ヒドロキシ低級アルキル基；又は保護基又はトリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基を示す。
    Ｒ２およびＲ３は、同一又は異なってそれぞれ、独立して、水素又は低級アルキル基；又はＲ２とＲ３が結合してシクロＣ３−Ｃ８アルキル基を形成する基を示す。
    Ｒ４は、芳香族環基又は複素環基を示す。
    上記、芳香族環又は複素環基上に、１個以上の任意の置換基を有していてもよい。]
    で表される複素環化合物またはその塩。
  2. Ｒ４が、下記で示されるいずれかの基を示す、請求項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
    （１） フェニル基
    （２） インドリル基
    （３） ベンゾチエニル基
    （４） ナフチル基
    （５） ベンゾフリル基
    （６） キノリル基
    （７） イソキノリル基
    （８） ピリジル基
    （９） チエニル基
    （１０） ジヒドロベンゾオキサジニル基
    （１１） ジヒドロベンゾジオキシニル基
    （１２） ジヒドロキノリル基
    （１３） クロマニル基
    （１４） キノキサリニル基
    （１５） ジヒドロインデニル基
    （１６） ジヒドロベンゾフリル基
    （１７） ベンゾジオキソリル基
    （１８） インダゾリル基
    （１９） ベンゾチアゾリル基
    （２０） インドリニル基
    （２１） チエノピリジル基、
    （２２） テトラヒドロベンゾアゼピニル基
    （２３） テトラヒドロベンゾジアゼピニル基
    （２４） ジヒドロベンゾジオキセピニル基
    （２５） フルオレニル基
    （２６） ピリダジニル基
    （２７） テトラヒドロキノリル基
    （２８） カルバゾリル基
    （２９） フェナントリル基
    （３０） ジヒドロアセナフチレニル基
    （３１） ピロロピリジル基
    （３２） アントリル基
    （３３） ベンゾジオキシニル基
    （３４） ピロリジニル基
    （３５） ピラゾリル基
    （３６） オキサジアゾリル基
    （３７） ピリミジニル基
    （３８） テトラヒドロナフチル基
    （３９） ジヒドロキナゾリニル基
    （４０） ベンゾオキサゾリル基
    （４１） チアゾリル基
    （４２） キナゾリニル基
    （４３） フタラジニル基
    （４４） ピラジニル基
    （４５） クロメニル基
    上記、芳香族環又は複素環上に、下記（１−１）〜（１−４３）から選ばれた置換基を１個以上有していてもよい：
    （１−１） ハロゲン原子
    （１−２） 低級アルキル基
    （１−３） 低級アルカノイル基
    （１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
    （１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
    （１−６） シアノ基
    （１−７） 低級アルコキシ基
    （１−８） 低級アルキルチオ基
    （１−９） イミダゾリル基
    （１−１０）トリ低級アルキルシリル基
    （１−１１）低級アルキル基を有していてもよいオキサジアゾリル基
    （１−１２）オキソ基を有していてもよいピロリジニル基
    （１−１３）低級アルコキシ基を有していてもよいフェニル基
    （１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
    （１−１５）オキソ基
    （１−１６）低級アルキル基を有していてもよいピラゾリル基
    （１−１７）チエニル基
    （１−１８）フリル基
    （１−１９）低級アルキル基を有していてもよいチアゾリル基
    （１−２０）低級アルキルアミノ基
    （１−２１）低級アルキル基を有していてもよいピリミジル基
    （１−２２）フェニル低級アルケニル基
    （１−２３）ハロゲン原子を有していてもよいフェノキシ基
    （１−２４）フェノキシ低級アルキル基
    （１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
    （１−２６）低級アルキルスルファモイル基
    （１−２７）低級アルキル基を有していてもよいピリダジニルオキシ基
    （１−２８）フェニル低級アルキル基
    （１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
    （１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
    （１−３１）フェニル低級アルコキシ基
    （１−３２）ヒドロキシ基
    （１−３３）低級アルコキシカルボニル基
    （１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
    （１−３５）オキサゾリル基
    （１−３６）ピペリジル基
    （１−３７）ピロリル基
    （１−３８）モルホリニル低級アルキル基
    （１−３９）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
    （１−４０）ピペリジル低級アルキル基
    （１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
    （１−４２）モルホリニル基
    （１−４３）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル基。
  3. Ｒ４が、下記で示されるいずれかの基を示す、請求項２に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
    （１） フェニル基
    （２） インドリル基
    （３） ベンゾチエニル基
    （４） ナフチル基
    （５） ベンゾフリル基
    （６） キノリル基
    （７） イソキノリル基
    （８） ピリジル基
    （９） チエニル基
    （１０） ジヒドロベンゾオキサジニル基
    （１１） ジヒドロベンゾジオキシニル基
    （１２） ジヒドロキノリル基
    （１３） クロマニル基
    （１４） キノキサリニル基
    （１５） ジヒドロインデニル基
    （１６） ジヒドロベンゾフリル基
    （１７） ベンゾジオキソリル基
    （１８） インダゾリル基
    （１９） ベンゾチアゾリル基
    （２０） インドリニル基
    （２１） チエノピリジル基、
    （２２） テトラヒドロベンゾアゼピニル基
    （２３） テトラヒドロベンゾジアゼピニル基
    （２４） ジヒドロベンゾジオキセピニル基
    （２５） フルオレニル基
    （２６） ピリダジニル基
    （２７） テトラヒドロキノリル基
    （２８） カルバゾリル基
    （２９） フェナントリル基
    （３０） ジヒドロアセナフチレニル基
    （３１） ピロロピリジル基
    （３２） アントリル基
    （３３） ベンゾジオキシニル基
    （３４） ピロリジニル基
    （３５） ピラゾリル基
    （３６） オキサジアゾリル基
    （３７） ピリミジニル基
    （３８） テトラヒドロナフチル基
    （３９） ジヒドロキナゾリニル基
    （４０） ベンゾオキサゾリル基
    （４１） チアゾリル基
    （４２） キナゾリニル基
    （４３） フタラジニル基
    （４４） ピラジニル基
    （４５） クロメニル基
    上記、芳香族環又は複素環上に、下記（１−１）〜（１−４３）から選ばれた置換基を１〜４個有していてもよい：
    （１−１） ハロゲン原子
    （１−２） 低級アルキル基
    （１−３） 低級アルカノイル基
    （１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
    （１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
    （１−６） シアノ基
    （１−７） 低級アルコキシ基
    （１−８） 低級アルキルチオ基
    （１−９） イミダゾリル基
    （１−１０）トリ低級アルキルシリル基
    （１−１１）低級アルキル基を１個有していてもよいオキサジアゾリル基
    （１−１２）オキソ基を１個有していてもよいピロリジニル基
    （１−１３）低級アルコキシ基を１個有していてもよいフェニル基
    （１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
    （１−１５）オキソ基
    （１−１６）低級アルキル基を１個有していてもよいピラゾリル基
    （１−１７）チエニル基
    （１−１８）フリル基
    （１−１９）低級アルキル基を１個有していてもよいチアゾリル基
    （１−２０）低級アルキルアミノ基
    （１−２１）低級アルキル基を１個有していてもよいピリミジル基
    （１−２２）フェニル低級アルケニル基
    （１−２３）ハロゲン原子を１個有していてもよいフェノキシ基
    （１−２４）フェノキシ低級アルキル基
    （１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
    （１−２６）低級アルキルスルファモイル基
    （１−２７）低級アルキル基を１個有していてもよいピリダジニルオキシ基
    （１−２８）フェニル低級アルキル基
    （１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
    （１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
    （１−３１）フェニル低級アルコキシ基
    （１−３２）ヒドロキシ基
    （１−３３）低級アルコキシカルボニル基
    （１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
    （１−３５）オキサゾリル基
    （１−３６）ピペリジル基
    （１−３７）ピロリル基
    （１−３８）モルホリニル低級アルキル基
    （１−３９）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
    （１−４０）ピペリジル低級アルキル基
    （１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
    （１−４２）モルホリニル基
    （１−４３）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル基。
  4. ｍが２、l及びｎが各々１の整数を示し、Ｘが、−ＣＨ２−を示す；
    Ｒ１が、水素；低級アルキル基；ヒドロキシ低級アルキル基；ベンジル基又はトリ低級アルキルシリルオキシ低級アルキル基を示す；ならびに
    Ｒ４が下記で示されるいずれかの基を示す、請求項３に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
    （１） フェニル基
    （２） インドリル基
    （４） ナフチル基
    （５） ベンゾフリル基
    （３１） ピロロピリジル基
    上記、芳香族環又は複素環上に、下記から選ばれた置換基を１〜４個有していてもよい：
    （１−１） ハロゲン原子
    （１−２） 低級アルキル基
    （１−３） 低級アルカノイル基
    （１−４） ハロゲン置換低級アルキル基
    （１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
    （１−６） シアノ基
    （１−７） 低級アルコキシ基
    （１−８） 低級アルキルチオ基
    （１−９） イミダゾリル基
    （１−１０）トリ低級アルキルシリル基
    （１−１１）低級アルキル基を１個有していてもよいオキサジアゾリル基
    （１−１２）オキソ基を１個有していてもよいピロリジニル基
    （１−１３）低級アルコキシ基を１個有していてもよいフェニル基
    （１−１４）低級アルキルアミノ低級アルキル基
    （１−１５）オキソ基
    （１−１６）低級アルキル基を１個有していてもよいピラゾリル基
    （１−１７）チエニル基
    （１−１８）フリル基
    （１−１９）低級アルキル基を１個有していてもよいチアゾリル基
    （１−２０）低級アルキルアミノ基
    （１−２１）低級アルキル基を１個有していてもよいピリミジル基
    （１−２２）フェニル低級アルケニル基
    （１−２３）ハロゲン原子を１個有していてもよいフェノキシ基
    （１−２４）フェノキシ低級アルキル基
    （１−２５）ピロリジニル低級アルコキシ基
    （１−２６）低級アルキルスルファモイル基
    （１−２７）低級アルキル基を１個有していてもよいピリダジニルオキシ基
    （１−２８）フェニル低級アルキル基
    （１−２９）低級アルキルアミノ低級アルコキシ基
    （１−３０）イミダゾリル低級アルキル基
    （１−３１）フェニル低級アルコキシ基
    （１−３２）ヒドロキシ基
    （１−３４）ヒドロキシ低級アルキル基
    （１−３５）オキサゾリル基
    （１−３６）ピペリジル基
    （１−３７）ピロリル基
    （１−３８）モルホリニル低級アルキル基
    （１−３９）低級アルキル基を有していてもよいピペラジニル低級アルキル基
    （１−４０）ピペリジル低級アルキル基
    （１−４１）ピロリジニル低級アルキル基
    （１−４２）モルホリニル基
    （１−４３）低級アルキル基を１個有していてもよいピペラジニル基。
  5. Ｒ１が水素を示す；
    Ｒ２およびＲ３が、同一又は異なってそれぞれ、独立して、低級アルキル基を示す；又はＲ２とＲ３が結合してシクロＣ３−Ｃ８アルキル基を形成する基を示す；および
    Ｒ４が下記で示されるいずれかの基を示す、請求項４に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
    （１） フェニル基
    （２） インドリル基
    （４） ナフチル基
    （５） ベンゾフリル基
    （３１） ピロロピリジル基
    上記、芳香族環又は複素環上に、下記から選ばれた置換基を１〜２個有していてもよい：
    （１−１） ハロゲン原子
    （１−２） 低級アルキル基
    （１−５） ハロゲン置換低級アルコキシ基
    （１−６） シアノ基
    （１−７） 低級アルコキシ基。
  6. 以下の群から選ばれる請求項５に記載の一般式（１）で表される複素環化合物またはその塩：
    （４ａＳ，８ａＲ）−１−（４−クロロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
    ２−クロロ−４−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）ベンゾニトリル、
    （４ａＳ，８ａＲ）−１−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
    （４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−フルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
    ５−（（４ａＲ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−１−メチル−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル、
    （４ａ’Ｒ，８ａ’Ｓ）−４’−（７−メトキシベンゾフラン−４−イル）オクタヒドロ−１’Ｈ−スピロ［シクロブタン−１，２’−キノキサリン］、
    （４ａＳ，８ａＲ）−１−（６，７−ジフルオロベンゾフラン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
    ５−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−１Ｈ−インドール−２−カルボニトリル、
    （４ａＳ，８ａＲ）−１−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−４−イル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン、
    ６−（（４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチルオクタヒドロキノキサリン−ジメチルデカヒドロキノキサリン−１（２Ｈ）−イル）−２−ナフトニトリル、
    （４ａＳ，８ａＳ）−３，３−ジメチル−１−（１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−４−イル）デカヒドロキノキサリン及び
    （４ａＳ，８ａＳ）−１−（４−（ジフルオロメトキシ）−３−フルオロフェニル）−３，３−ジメチルデカヒドロキノキサリン。
  7. 有効成分として請求項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩、及び薬理的に許容される担体を含有する医薬組成物。
  8. 請求項１に記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩を有効成分として含有する、セロトニン、ノルエピネフリン又はドパミンの神経伝達の低下に伴う障害の予防及び／又は治療剤。
  9. 障害が、うつ病；適応障害による抑うつ症状；適応障害による不安、各種疾患に伴う不安、全般性不安障害、恐怖症、強迫性障害、パニック障害、心的外傷後ストレス障害、急性ストレス障害、心気症、解離性健忘症、回避性人格障害、身体醜形障害、摂食障害、肥満症、化学物質依存症、疼痛、線維筋痛症、アルツハイマー病、記憶障害、パーキンソン病、むずむず脚症候群、内分泌障害、血管痙攣、小脳性運動失調、胃腸管障害、統合失調症の陰性症候群、月経前症候群、緊張性尿失禁、トウレット症候群、注意欠陥多動性障害（ＡＤＨＤ）、自閉症、アスペルガー症候群、衝動性調節障害、抜毛癖、盗癖、ギャンブル依存症、群発頭痛、片頭痛、慢性発作性片頭痛、慢性疲労、早発射精、男性インポテンス、ナルコレプシー、原発性過眠症、脱力発作、睡眠時無呼吸症候群及び頭痛からなる群から選ばれる障害である請求項８に記載の予防及び／又は治療剤。
  10. うつ病が、大うつ病性障害；双極Ｉ型障害；双極ＩＩ型障害；混合状態；気分変調性障害；ラピッド・サイクラー；非定型うつ病；季節性感情障害；産後うつ病；軽症うつ病；反復性短期うつ病性障害；難治性うつ病・慢性うつ病；重複うつ病；アルコール誘発性気分障害；混合性不安抑うつ障害；クッシング症候群、甲状腺機能低下症、副甲状腺機能亢進症、アジソン病、無月経・乳汁分泌症候群、パーキンソン病、アルツハイマー病、脳血管性認知症、脳梗塞、脳出血、くも膜下出血、糖尿病、ウィルス感染症、多発性硬化症、慢性疲労症候群、冠動脈疾患、疼痛、癌等の種々の身体疾患に伴ううつ病；中年期のうつ病；老年期うつ病；小児・思春期のうつ病及びインターフェロン等の薬物誘発性うつ病からなる群から選ばれるうつ病である請求項９記載の予防及び／又は治療剤。
  11. 各種疾患に伴う不安が、頭部外傷、脳の感染症、内耳障害、心不全、不整脈、副腎機能亢進症、甲状腺機能亢進症、喘息及び慢性閉塞性肺疾からなる群から選ばれる不安である請求項９に記載の予防及び／又は治療剤。
  12. 疼痛が、慢性疼痛、心因性疼痛、神経因性疼痛、幻肢痛、帯状疱疹後神経痛、外傷性頸部症候群、脊髄損傷痛、三叉神経痛及び糖尿病性神経障害からなる群から選ばれる疼痛である請求項９に記載の予防及び／又は治療剤。
  13. 請求項１〜請求項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩の、薬剤としての使用。
  14. 請求項１〜請求項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩の、セロトニン再取り込み阻害剤及び／又はノルエピネフリン再取り込み阻害剤及び／又はドパミン再取り込み阻害剤としての使用。
  15. 請求項１〜請求項６のいずれかに記載の一般式（１）で表される複素環化合物又はその塩を、人又は動物に投与することを含む、セロトニン、ノルエピネフリン又はドパミンの神経伝達の低下に伴う障害を治療及び／又は予防する方法。
  16. 一般式（１）

    ［式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は請求項１における定義と同じ］で表される複素環化合物又はその塩の製造方法であって、一般式

    [式中、ｍ、ｌおよびｎは各々１ないし２の整数を示し、Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は請求項１における定義と同じ]で表される化合物と一般式

    [式中、Ｒ４及びＸ１は請求項１における定義と同じ。]で表される化合物とを反応させる工程を含む、製造方法。
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