JP2013535399A - トリクロロシランの製造法及びトリクロロシランの製造用のケイ素 - Google Patents

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Abstract

【課題】HClとの反応によるトリクロロシランの製造において、銅及びバリウムを用いた当該トリクロロシランの選択性を高め得る方法を提供する。
【解決手段】本発明は、流動床リアクター中の、攪拌床リアクター中の又は固形床リアクター中の、250℃ないし1100℃の温度での、及び0.5ないし30atmの絶対圧力での、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造法であって、前記リアクターに供給される前記ケイ素は、40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有する。本発明はさらに、ケイ素が40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有し、通常の不純物を除き残部はケイ素であることを特徴とする、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造用途のケイ素にも関する。
【選択図】図1

Description

発明の分野
本発明は、HClガスによるケイ素の反応によるトリクロロシランの製造法に、及びトリクロロシランの製造用のケイ素に関する。
背景技術
トリクロロシラン(TCS)の製造法においては、流動床リアクター(fluidized bed reactor)中で、攪拌床リアクター(stirred bed reactor)中で、又は固形床リアクター(solid bed reactor)中で、冶金等級のケイ素がHClガスと反応される。当該方法は一般に、250℃ないし1100℃の温度で行われる。当該反応においては、TCS以外の他の揮発性シランが、主として四塩化ケイ素(STC)が、形成される。TCSが通常好ましい生成物であるため、TCS/(TCS+他のシラン類)のモル比として与えられる当該反応の選択性が重要な因子である。他の重要な因子は、初期通過するHClの転換度として測定される、ケイ素の反応性である。好ましくは、HClの90%以上がシランに転換することであるが、工業的には、もっと低い反応性が観察されてしまう。
選択性及び反応性は、ケイ素とHClとが反応するときのプロセス温度に強く依存するであろう。平衡計算に従うと、上記の温度範囲においては、TCS量は、およそ20ないし40%(残部は主としてSTCである)でなければならない。しかしながら実際には、有意な程により高いTCS選択性が観察されており、400℃未満の温度においては、90%以上のTCS選択性が観察され得る。平衡からのこの大きなずれの理由は、当該生成物組成が動力学的限界により与えられるためである。より高温によって、生成物の分布が、平衡組成に向かって移動し、そして観察された選択性と算出された選択性との間のギャップはより小さくなるであろう。反応性は、高温になるとともに向上する。それ故、温度が高まり、そして100%近くにHCl消費に維持を維持しているときには、より粗いケイ素粒子(塊(lumps))が使用され得る。
より高圧によって、僅かに高いTCS選択性へと、平衡組成が動く。しかしながら、実際には、当該圧力による主な影響としては、リアクターのより大きい容量及び当該リアクターから回収されなければならないより多くの熱である。
冶金等級のケイ素は、Fe、Ca、Al、Mn、Ni、Zr、O、C、Zn、Ti、B、P等のような多くの混入元素を含有している。幾つかの混入物(例えばFe及びCaのような)は、HClと反応し、そして、FeCl及びCaClのような、固体の、安定した化合物を形成する。当該安定な金属クロリドは、それらの寸法及び密度に依存して、生成ガスとともにリアクター外に吹き飛ばされるか、又はリアクター内に蓄積する。Al、Zn、Ti、B及びPのような他の混入物は、生成されたシランとともにリアクターから放出される、揮発性クロリドを形成する。
O及びCは、HClと反応しないか又は非常にゆっくりと反応してリアクター内に蓄積する傾向にある、ケイ素のスラグ粒子中に濃縮される。最小のスラグ粒子は、リアクターから吹き飛ばされ、そしてフィルタ系で捕捉され得る。
冶金等級のケイ素中の混入物の多くは、ケイ素とHClガスとの反応によりトリクロロシランを生成する方法において、ケイ素の性能に影響を及ぼしている。つまり、ケイ素の反応性と選択性の両方が、ポジティブに及びネガティブの両方に影響され得る。
発明の開示
HClとの反応によるトリクロロシランの製造のために、高いバリウム含量を有するケイ素をリアクターに供給すると、驚くことに高い選択性が付与され、且つ、当該選択性は、バリウムに加えて銅が添加された場合にさらに高まることが、今や見出された。トリクロロシランリアクター中のバリウム含量がある範囲内に限定された場合に、選択性が向上することが、さらに見出された。
第一の局面に従うと、本発明は、流動床リアクター中の、攪拌床リアクター中の又は固形床リアクター中の、250℃ないし1100℃の温度での、及び0.5ないし30atmの絶対圧力での、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造法であって、当該方法は、前記リアクターに供給される前記ケイ素が、40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有していることを特徴とする、方法に関する。
好ましくは、前記リアクターに供給される前記ケイ素は、60ないし1000質量ppmのバリウムを含有する。
バリウム及び所望の銅は、ケイ素と共に合金化されているか、ケイ素と機械的に混合されるか、又はケイ素とは別々にリアクターに添加される。
バリウム及び所望の銅は、ケイ素を製造するための炉内プロセスにおいて、炉からケイ素を取り出した後の精錬柄杓中で、又はキャスティング段階において、ケイ素と合金化され得る。バリウム及び所望の銅を炉に添加することは、例えば、バリウム及び所望の銅含有の原料の、炉への添加によって、又は、バライト(BaSO)、ケイ化バリウム等のようなバリウム含有の化合物、及び銅、ケイ化銅、酸化銅等のような所望の銅含有化合物の、炉への添加によって、行われ得る。
バリウム又はバリウム化合物並びに所望の銅及び銅化合物はまた、精錬柄杓中でケイ素に添加され得る。添加されるいかなるバリウム化合物及び銅化合物も、ケイ素が固化されると、ケイ素によって、異なった金属間相を形成する元素バリウム及び元素銅へと還元される。
バリウム及び所望の銅はまた、キャスティング段階において、例えば、バリウム化合物及び所望の銅化合物を溶融ケイ素に添加することによって、鋳型中でバリウム化合物又はバリウム含有ケイ素を使用することによって、又はバリウム含有材料の表面上にケイ素をキャスティングすることによって、ケイ素に添加され得る。
バリウム及び所望の銅はまた、機械的にケイ素と混合され得る。
第二の局面に従うと、本発明は、ケイ素が、40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有し、通常の不純物を除き残部はケイ素である、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造用途のケイ素に関する。
好ましくは、前記ケイ素は、60ないし1000質量ppmのバリウムを含有する。
本発明に従うケイ素は、炭素熱還元炉中で慣用の方法によって、製造される。ケイ素中のバリウム及び所望の銅の含量は、原料の選択によって、バリウム及びバリウム化合物並びに銅又は銅化合物を炉に添加することによって、又は、ケイ素が還元炉から取り出された後の柄杓中の溶融ケイ素にバリウム及び銅を添加することによって、調節され且つ制御され得る。
ケイ素へのバリウムの添加が、トリクロロシランの製造法におけるTCSの選択性を改良することが、驚くべきことに見出された。バリウムに加えて銅がケイ素に添加されると、TCSの選択性がさらに著しく向上することが、さらに見出された。従って、バリウム及び銅の両方の添加の相乗効果が見出された。
第三の局面に従うと、本発明は、流動床リアクター中の、攪拌床リアクター中の又は固形床リアクター中の、250℃ないし1100℃の温度での、及び0.5ないし30atmの絶対圧力での、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造法であって、当該製造法は、バリウム及び所望の銅は、前記リアクター中のバリウム含量を100ないし50000質量ppmに制御するのに必要な量で、且つ、当該リアクター中の銅含量を200ないし50000質量ppmの量に制御するのに必要な量で、前記リアクターに供給されることを特徴とする。
好ましくは、バリウムは、リアクター中のバリウム含量を250ないし5000質量ppmに制御するのに必要な量で、当該リアクターに供給される。
上記限定内においてリアクター中のバリウム含量及び銅含量の両方を制御することによって、選択性のさらに非常に実質的な向上が、驚くべきことに見出された。
図1は、従来技術である、340℃での連続流動床リアクター中の市販のケイ素(試料A)から製造されたTCSの選択性、及び銅を添加した同様のケイ素試料(試料B)のTCS選択性を示す図である。 図2は、市販のケイ素試料(試料A)と比較した、80質量ppmのバリウムを含有するケイ素(試料C)から、及び200質量ppmのバリウムを含有するケイ素(試料D)から製造されたTCSの選択性を示す図である。 図3は、試料Bと比較した、72質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅を含有するケイ素(試料E)から、及び4032質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅を最初から含有するケイ素(試料F)から製造されたTCSの選択性を示す図である。 図4は、試料Bを用いて得られた選択性と比較した、40質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅を含有するケイ素(試料G)から、80質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅を含有するケイ素(試料H)から、及び80質量ppmのバリウム及び200質量ppmの銅を含有するケイ素(試料I)から製造されたTCSの選択性を示す図である。
発明の詳細な説明
下記実施例は、鋼製の且つ加熱アルミニウムブロック中に組み込まれた実験室用流動床リアクター中で行った。当該リアクターは、180ないし250μmの粒径を有するケイ素の5グラムで開始される。HCl及びアルゴンの混合物を、280NmL/分及び20NmL/分の量でそれぞれリアクターの底部に供給した。実行中、リアクターの温度を340℃に、且つ1.15bar(a)の圧力に維持した。反応が進行するにつれ、リアクターの頂部から新たなケイ素を連続して添加して、リアクター内に5グラムの総量を維持した。リアクターから生成したガスの組成を、ガスクロマトグラフ(GC)を用いて測定した。TCS/(TCS+他のシラン)として選択性を測定し、且つ、HCl転換度として、即ち反応で用いられたHClの量として反応性を測定した。
実施例1(従来技術)
エルケムAS(Elkem AS)社製造の冶金等級ケイ素を、破砕し、製粉し、そして180ないし250μmの粒径に篩分けして、これを試料Aとした。試料Aと同様の組成を有する冶金等級ケイ素を調製した。46ppmの銅を、精錬用柄杓内に合金化した。その後、当該ケイ素をキャスティングし、固化し、そして室温に冷却した。その後、当該試料を、破砕し、そして180ないし250μmの粒径に製粉した。この試料を試料Bとした。
ケイ素試料A及びBの化学分析を表1に示した。
Figure 2013535399
試料A及びBを用いて、上記の実験室用流動床リアクター中でトリクロロシランを製造した。試料A及びBから製造されたTCSの選択性を、図1に示した。
図1より示され得るように、バリウムを含有しない試料Aに対する46質量ppmの銅の添加は、選択性に変わりなかった。つまり、銅単独での添加は、選択性に効果を与えなかった。この実施ではHClの100%が転換した。試料A及びBを用いて得られた当該結果は、従来技術を表している。
実施例2
ケイ化バリウム粉体の形態にある80質量ppmのバリウムを、表1中のケイ素試料Aに混合した。当該試料を、表1に示す試料Cと示した。
ケイ化バリウム粉体の形態にある200質量ppmのバリウムを、表1中のケイ素試料Aに混合した。当該試料を、表1に示す試料Dと示した。
試料A、C及びDを用いて、上記の実験室用流動床リアクター中でトリクロロシランを製造した。試料A、C及びDから製造したTCSの選択性を、図2に示した。
図2により示されるように、ケイ化バリウムとして80及び200質量ppmのバリウムのケイ素への添加は、選択性を向上させる結果となった。HClの100%がこれら実施で転換した。
実施例3
酸化バリウム粉体として添加されている72質量ppmのバリウムを、表1中のケイ素試料Bに混合した。バリウム及び銅の両方を含有する当該試料を、表1中の試料Eと示した。表1中に示される他の試料Fは、酸化バリウム粉体として0.4質量%のバリウムを試料Bケイ素の5グラムに添加することにより作成した。リアクター中の出発材料としてケイ素試料Fを用いた。リアクター中でケイ素が消費されるにつれ、リアクター中で5gのケイ素を維持するように、バリウムを含有しないケイ素試料Bを添加した。このことは、最初から0.4質量%のバリウム含量を与え、且つ実施中のバリウムの追加を不要とした。当該実験の開始時に添加されたバリウムはリアクター中に部分的に残存し、それによって、試料Fを用いたリアクター中のバリウム含量は、試験実施中に実質的に一定となる。ケイ素試料B、E及びFの化学分析を表1に示した。
試料B、E及びFを用いて、上記の実験室用流動床リアクター中でトリクロロシランを製造した。試料B、E及びFから製造されたTCSの選択性を図3に示した。
図3により示されるように、酸化バリウムとしての72質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅のケイ素への添加によって、選択性が実質的に向上した結果となった。高い初期バリウム含量を用いた実験によって(図3中の試料Fとして示す)、実施全体において、選択性がより速やかに向上し、そして非常に高水準に維持されることが示された。HClの100%がこれら実施において転換された。
実施例4
46質量ppmの銅及び40質量ppmのバリウムと共に合金化した冶金等級のケイ素を破砕し、製粉し、そして180ないし250μmの粒径に篩分けして、表2中に試料Gとして示した。
26質量%のバリウムを有するケイ化バリウム粉体としての80質量ppmのバリウムを表1中のケイ素試料Bに添加することによって、表2に示されるケイ素試料Hを作成した。従って試料Hは、80質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅を含有していた。
26質量%のバリウムを有するケイ化バリウム粉体として80質量ppmのバリウム及び3000質量ppmの銅を含有するケイ素として154質量ppmの銅を、表1中のケイ素試料Bに添加することによって、表2に示すケイ素試料Iを作成した。従って、試料Iは、80質量ppmのバリウム及び200質量ppmの銅を含有していた。
Figure 2013535399
試料B、G、H及びIを用いて、上記の実験室用流動床リアクター中でトリクロロシランを製造した。試料B、G、H及びIから製造されたTCSの選択性を、図4に示した。
図4に示されるように、ケイ素中に合金化された40質量ppmのバリウム及び46質量ppmの銅のケイ素への添加によって、TCS選択性が向上した一方で、ケイ化バリウムとして80質量ppmのバリウム並びに46質量ppm及び200質量ppmの銅のケイ素への添加によって、TCS選択性が著しく向上した。
100%のHClがこれら実施において転換された。
当該結果が示すところによれば、バリウムをケイ素に添加することによって、TCS選択性が明確に向上する一方で、バリウム及び銅の添加によって、比較的少量のバリウムを用いてさえ、TCS選択性が著しく向上した。実施例1において示されるように、バリウムが添加されず銅が添加された試料Bは、TCS選択性が向上しなかった。

Claims (19)

  1. 流動床リアクター(fluidized bed reactor)中の、攪拌床リアクター(stirred bed reactor)中の又は固形床リアクター(solid bed reactor)中の、250℃ないし1100℃の温度での、及び0.5ないし30atmの絶対圧力での、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造法であって、
    前記リアクターに供給される前記ケイ素は、40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有していることを特徴とする、方法。
  2. 前記リアクターに供給される前記ケイ素は、60ないし1000質量ppmのバリウムを含有することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. バリウム及び所望の銅は、ケイ素と共に合金化されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  4. バリウム又はバリウム化合物は、前記ケイ素がリアクターに供給される前に機械的にケイ素と混合されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  5. 銅又は銅化合物は、前記ケイ素がリアクターに供給される前に機械的にケイ素と混合されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  6. バリウム又はバリウム化合物は、前記ケイ素とは別々に前記リアクターに添加されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
  7. ケイ素が40ないし10000質量ppmのバリウム及び所望により40ないし10000質量ppmの銅を含有し、通常の不純物を除き残部はケイ素であることを特徴とする、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造用途のケイ素。
  8. 前記ケイ素は、60ないし1000質量ppmのバリウムを含有することを特徴とする、請求項7に記載のケイ素。
  9. バリウム及び銅は、ケイ素と共に合金化されていることを特徴とする、請求項7又は8に記載のケイ素。
  10. 前記バリウム又はバリウム化合物は、ケイ素と機械的に混合されることを特徴とする、請求項7又は8に記載のケイ素。
  11. バリウム及び所望の銅化合物は、ケイ素と機械的に混合されることを特徴とする、請求項7又は8に記載のケイ素。
  12. 流動床リアクター中の、攪拌床リアクター中の又は固形床リアクター中の、250℃ないし1100℃の温度での、及び0.5ないし30atmの絶対圧力での、ケイ素とHClガスとの反応によるトリクロロシランの製造法であって、
    バリウム又はバリウム化合物及び所望の銅又は銅化合物は、前記リアクター中のバリウム含量を、当該リアクター中のケイ素の質量に基づき100ないし50000ppmに維持するのに必要な量で、且つ、当該リアクター中の銅含量を、200ないし50000質量ppmに維持するのに必要な量で、前記リアクターに供給されることを特徴とする、製造法。
  13. バリウム又はバリウム化合物は、前記リアクター中のバリウム含量を200ないし5000質量ppmに維持するのに必要な量で当該リアクターに供給されることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
  14. 前記リアクターに供給されるバリウム及び銅は、ケイ素と共に合金化されていることを特徴とする、請求項12又は13に記載の方法。
  15. 前記リアクターに供給されるバリウム又はバリウム化合物及び銅又は銅化合物は、前記ケイ素と機械的に混合された後に当該リアクターに供給されることを特徴とする、請求項12又は13に記載の方法。
  16. 前記バリウム化合物は、ケイ化バリウム、塩化バリウム、酸化バリウム、炭酸バリウム、硝酸バリウム又は硫酸バリウムであることを特徴とする、請求項15に記載の方法。
  17. 前記銅化合物は、銅、銅合金、ケイ化銅、酸化銅、塩化銅、炭酸銅、硝酸銅又は水酸化銅であることを特徴とする、請求項15に記載の方法。
  18. バリウム及びケイ素は、別々に前記リアクターに添加されることを特徴とする、請求項12又は13に記載の方法。
  19. 前記バリウム化合物は、前記HClガスと共に前記リアクターに添加されることを特徴とする、請求項18に記載の方法。
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