JP2013530185A - テトラノール−プロスタグランジンd、j、e、a及びf代謝物の製造方法 - Google Patents

テトラノール−プロスタグランジンd、j、e、a及びf代謝物の製造方法 Download PDF

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Abstract

【解決手段】本発明は、全体として、テトラノール−プロスタグランジンD、J、E、A及びF代謝物を調製するための合成法に関する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、全体として、テトラノール−プロスタグランジンD、J、E、A及びF代謝物(metabolites)を調製するための合成法に関する。
<発明の背景>
プロスタグランジンは、ほぼ全ての組織及び腺において見られ、多種多様な生理学的プロセスの非常に有力なメディエーターである(Funk, C. D. Science, 2001, 294, 1871-1875)。プロスタグランジンは、平滑筋の収縮や弛緩(Andersson, K. E., Forman, A. Acta Pharmacol. Toxicol., 1978, 43 (Suppl. 2) 90-95)、血管の拡張や収縮(Abramovich, D. R., Page, K. R., Parkin, A. M. L. Br. J. Pharmac., 1984, 81, 19-21)、血圧の制御(Anderson, R. J., Berl, T., McDonald, K. M., Schrier, R. W. Kidney International, 1976, 10, 205-215)、及び炎症や免疫力の調節(Hata, A. N., Breyer, R. M. Pharmacol. Ther., 2004, 103(2), 147-166)のような幅広い身体機能に関与することがある。一般に、プロスタグランジン及び関連する化合物は、これらを合成する細胞から輸送され、その形成部位に近い他の標的細胞のプロスタグランジン受容体と主に相互作用することにより、一部の標的細胞機能を刺激又は阻害するように標的細胞に影響を与える。プロスタグランジン及び関連する化合物はまた、これらが合成される細胞の活性も変化させる。これら効果の性質は、細胞の種類ごとに、そして標的細胞の種類ごとにも異なる場合がある。
プロスタグランジンD(PGD)及びPGEは夫々、プロスタグランジンD合成酵素(PGDS)及びPGESを含むプロスタグランジン合成酵素のクラスの触媒作用により、アラキドン酸のシクロオキシゲナーゼ(COX)産物及び共通のプロスタノイド先駆体であるプロスタグランジンH(PGH)から生合成される。生体系由来の試料におけるPGDレベルやPGEレベルを測定する方法及び製品は存在するが、代謝及び分解が早いためにPGDやPGEは尿中で相対的に不足し、これらの生合成を測定するバイオ流体(biofluid)マーカーとしてこれらを使用することは実用的ではない。
比較的豊富なPGD尿中代謝産物及びPGE尿中代謝産物であるテトラノール−PGDM及びテトラノール−PGEMは夫々、PGD及びPGEの生合成を評価するのに有益な定量種(quantification species)である。PGD、テトラノール−PGDM、PGE及びテトラノール−PGEの4種は全て、これらのシクロペンテノン誘導体であるPGJ、テトラノール−PGJM、PGA及びテトラノール−PGAMに夫々容易に脱水化する。また、プロスタグランジンPGFαの主要尿中代謝産物は、テトラノール−PGFMである(Granstrom, E., Samuelsson, B., J. Am. Chem. Soc., 91, 1969, 3398-3400)。
テトラノール−PGEMの合成の1つが開示されている(Lin, C., J. Org. Chem., 41(25), 1976, 4045-4047)。開示されている経路は、ラクトン−アルデヒド中間体(I)から始まっている。
Figure 2013530185
開示されている経路は、容易に入手できない中間体(I)から始まっており、プロスタグランジン代謝物の低級鎖(ω−鎖)を導入するプロセスが含まれている。ω−鎖は、1−ジメチル−tert−ブチルシリルオキシ−4−フェニルリチウムの追加によってさらに拡張される。この開示以外に、テトラノール−プロスタグランジン代謝物の実用的な化学合成は開示されていない。管理された化学的プロセスによってこれら重要な代謝物を即座に供給できれば、生合成により単離する現在の技術に勝る利点がもたらされるであろう。特徴付けられた標準化合物は、例えば、医化学用の類似物を調製するためのアッセイスタンダード又はビルディングブロックとして、潜在的に有用である。本発明は、容易に入手可能な、水酸基保護されたコーリーラクトンアルデヒドで始まるテトラノール−プロスタグランジン代謝物の多くの実用的な化学合成を提供するものである。
例示的な実施形態は、テトラノール−プロスタグランジンD、J、E、A及びF代謝物(テトラノール−PGDM、テトラノール−PGJM、テトラノール−PGEM、テトラノール−PGAM及びテトラノール−PGFM)の合成方法を対象とすることができる。
他の例示的な実施形態はまた、新規な合成中間体を対象とすることができる。
本発明の他の例示的な実施形態の詳細は、以下に示す詳細な記載から明らかとなるであろう。詳細な記載及び具体的な例は、本発明の例示的な実施形態を示す一方、単に開示の目的のために意図されたものであり、本発明の範囲を制限することを意図していない。
図1は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図2は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図3は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図4は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図5Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図5Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図5Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図6は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図7は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図8Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図8Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図8Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図9Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図9Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図9Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図10Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図10Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図11は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図12は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図13は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図14Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図14Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図15は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図16は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図17は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図18は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図19は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図20は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図21Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図21Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図21Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図21Dは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図22は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図23Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図23Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図23Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図24は、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図25Aは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図25Bは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図25Cは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。 図25Dは、スキームI、II及びIII、並びに下記の例に示される、特定の化合物を合成するための裏付けとなる合成スペクトルである。
以下の詳細な記載により、本発明は、明確に指定する場合を除き、様々な代替的変化及びステップシークエンスを想定できることが理解されるべきである。さらに、任意の実施例における以外、又は別途明記しない場合、例えば、本明細書及び特許請求の範囲で使用される成分の量を表す全ての数字は、全ての例において、用語「約」によって変更されるものとして理解されるべきである。従って、特に明記しない限り、以下の明細及び添付の特許請求の範囲に記載される数値パラメータは、本発明によって得られる所望の性質によって変化し得る近似値である。特許請求の範囲に均等論を適用することを少なくとも制限しようとして、又はそうしようとしなくとも、各数値パラメータは、少なくとも、報告された有効数字に照らし合わせ、そして通常行われる四捨五入法を適用することによって、解釈されるべきである。
本発明の広範囲を記載する数値範囲及びパラメータは近似値であるにもかかわらず、特定の実施例に記載されている数値は、可能な限り正確に報告されている。しかしながら、あらゆる数値は本来、各試験測定において見られるありふれた変動に必然的に起因するある種の誤差を含んでいる。
また、本明細書に記載の任意の数値範囲は、その中に包含される全ての部分範囲を含むことを意図していることが理解されるべきである。例えば、「1乃至10」の範囲は、記載される最小値の1と記載される最大値の10の間の(及びこれらを含む)全ての部分範囲を含むこと、即ち、最小値は1以上であり、最大値は10以下であることを意図している。
本出願において、特に断りのない限り、単数形(singular)の使用は複数形(plural)を含んでおり、複数形は単数形を包含する。また、本出願では、「又は」の使用は、特に明記しない限り、「及び/又は」を意味するが、「及び/又は」が場合によって明確に使用されていることもある。
本明細書に別途規定されない限り、例示的な実施形態に関連して使用される科学用語及び技術用語は、当該技術分野における当業者によって共通して理解される意味を有するものとする。
さらに、文脈に別途定めない限り、単数形の用語は複数形を含み、複数形の用語は単数形を含むものとする。概して、本明細書に記載される化学及び生物学に関連して用いられる学術用語や、化学及び生物学の技術は、当該技術においてよく知られており、一般的に使用されるものである。
用語「保護基」は、有機官能基を化学的に修飾する部分であって、非保護の状態の官能基に通常化学変換を起こすであろうある反応条件が、保護された官能基上で起こることが阻止され、この反応条件によって変換され得る他の官能基上で、所望の化学変換を選択的に実行できるようにする部分である。当該技術において一般的に用いられる保護基(protecting group)と保護基(protective group)の化学的性質は、Greene, T.W. & Wuts, P.G.M., 1991, Protective Groups in Organic Synthesis, Second Edition, John Wiley & Sons, Inc., New York.に記載されている。
用語「THF」とは、テトラヒドロフランを示す。
用語「DMF」とは、N,N−ジメチルホルムアミドを示す。
用語「DHP」とは、3,4−ジヒドロピラン(ヒドロキシル基に加えられ、THP−O基、又はTHP保護されたヒドロキシル基を形成する)を示す。
用語「PPTS」は、ピリジニウムp−トルエンスルホナートを示す。
「EtN」における用語「Et」は、エチル基を示す。
用語「DIBAL」は、ジイソブチルアルミニウムを示す。
用語「BuOK」は、カリウムブトキシドを示し、用語「BuOK」は、カリウムtert−ブトキシドを示す。
用語「THP」は、テトラヒドロピランを示す。
用語「BBN」は、ボラビシクロ[3.3.1]ノナンを示し、用語「9−BBN」は、9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナンを示す。
用語「ジョーンズ酸化」は、第1級アルコール及び第2級アルコールを、カルボン酸及びケトンに夫々酸化する有機反応を示す。「ジョーンズ試薬」は、希硫酸とアセトン中の三酸化クロム溶液である。重クロム酸カリウムと希硫酸の混合物を「ジョーンズ試薬」として使用することもできる。
「AcOH」における用語「Ac」は、アセチル基、又はCH−C=O(CHCOとも書かれる)を示し、−OH基が結合して酢酸を形成するカルボニル基の炭素原子に開きの原子価(open valence)がある。従って、用語「AcOH」は酢酸、又はCH−COHを示す。
用語「TBDMS」は、tert−ブチルジメチルシリルを示す。
用語「TBDPS」は、tert−ブチルジフェニルシリルを示す。
用語「TIPS」は、トリイソプロピルシリルを示す。
用語「TBAF」は、フッ化テトラブチルアンモニウムを示す。
用語「EA」は、酢酸エチルを示す。
用語「R」は、保持係数(retention factor)を示す。薄層クロマトグラフィー(TLC)において、Rは、TLCプレートのシリカ(固定相)上にて、化合物が移動した距離を、溶媒又は溶媒系(移動相)が移動した距離で割った値として定義されている。
用語「PG」は、プロスタグランジンを示す。
用語「TLC」は、薄層クロマトグラフィーを示す。
用語「Bz」は、ベンゾイル基、又はPh−C=O(PhCOとも書かれる)を示し、例えば、−OH基が結合して安息香酸を形成するカルボニル基の炭素原子上に開きの原子価がある。
例示的な実施形態は、スキームIに示す反応ステップを含む、テトラノール−PGDM(化合物14)を調製するための合成経路を対象とすることができる:
Figure 2013530185
は、C1−4アルキル基であり、各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、Rは、メチル基又はエチル基であり、Rは、保護基である。スキームIの方法による化合物4A、5A、6A、7A、9A、10A、11A、12、13及び14の合成を裏付けるスペクトルデータについては、図1乃至図12を参照。
幾つかの実施形態において、保護基Rは、tert−ブチルジメチルシリル基(TBDMS)を含み、これは、スキームIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している保護基である。
他の例示的な実施形態は、テトラノール−PGDMから化合物15のテトラノール−PGJMを調製する合成方法を対象にすることができ、スキームIIに示す酸触媒脱水を含む。
Figure 2013530185
特定の実施形態では、酸は任意の有機酸又は無機酸を含む。特定の実施形態では、酸は酢酸又はトリフルオロ酢酸を含む。スキームIIの方法による化合物15の合成を裏付けるスペクトルデータについては、図13、図14A及び図14Bを参照。
他の例示的な実施形態は、化合物27Aのテトラノール−PGEM、及び化合物27Bの、テトラノール−PGEMの重水素化(D)類似体を調製する合成経路を対象とすることができ、スキームIIIに示す反応ステップを含む:
Figure 2013530185
はC1−4アルキル基であり、各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、Rはメチル基又はエチル基であり、Rは保護基であり、Rは水素又は重水素である。スキームIIIの方法による、化合物20A、21A、23A、25A、26A、及び27Aの合成を裏付けるスペクトルデータは、図15乃至図22を参照。
特定の実施形態では、Rは、最終の脱保護ステップまでの全ての状況下において残存する保護基である。他の実施形態では、Rは、スキームIIIで示す反応シーケンス又はスキームIIIで示すものとほぼ同じ反応シーケンスを完成させるために必要な様々な反応条件セット下で安定性を維持する別の保護基と交換することができる保護基である。
これらの実施形態の一部において、Rは、例えばTBDMS、TIPS、又はTBDPSを含むがこれらに限らない、THP又はシリル保護基である。Rが別の保護基と交換される実施形態では、その保護基は、THP、TBDMS、TIPS又はシリル保護基を含むことができるが、交換された保護基が、交換した保護基と異なることを条件とする。
他の例示的な実施形態は、化合物28A及び28B(スキームIVの方法による化合物28Aの合成を裏付けるスペクトルデータについて、図23A乃至図24を参照)である夫々テトラノール−PGAM及びテトラノール−PGAM−D6を調製する合成方法を対象とすることができ、スキームIVに示す、適切な前駆体化合物27A及び27Bの酸触媒脱水を含む:
Figure 2013530185
他の例示的な実施形態は、化合物34のテトラノール−PGFMを調製する合成経路を対象とすることができ、スキームVに示す反応ステップを含む(スキームVの方法による化合物29の合成を裏付けるスペクトルデータについて、図25A乃至図25Dを参照):
Figure 2013530185
上記の例示的な実施形態、及び下記に示す例は、本質的に単なる例示であり、従って、その変形例は、本発明の精神及び範囲から逸脱したものとみなされるべきではない。
明細書に示す実施例は、様々なテトラノール−PG代謝物を合成する方法を対象とする実施形態を記載している。
<実施例1:テトラノール−PGDMの調製>
<6−ヒドロキシヘキサン酸(1A)からエステル(2A)の調製>
Figure 2013530185
− 6−ヒドロキシヘキサン酸エチル;50.0g(312.1mmol)(1A)
− TBDMSCl;61.15g(405.72mmol)
− イミダゾール;42.5g(624.2)
− DMF;500ml
6−ヒドロキシヘキサン酸エチル(1A)の無水DMF溶液を氷浴槽で冷却しながら、10分間TBDMSCl及びイミダゾールを一部ずつ(portion wise)処理した。冷却槽を外し、反応混合物を一晩攪拌した(TLC、ヘキサン−酢酸エチル 90:10で調整)。翌日、反応混合物を氷(200g)で処理し、5分間攪拌し、H−EAで抽出した(10:1、800ml、2×200ml)。混合した(combined)有機相を、水−ブライン(1:1、2×100ml)、ブライン(100ml)で洗浄し、NaSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(300g)、H−EA 100:1乃至70:1によって精製した。生成物(エステル(2A))の収量は81.5g(95%)であり、TLC R=0.8(ヘキサン−酢酸エチル90:10)であった。
<エステル(2A)からホスホナート(3A)の調製>
Figure 2013530185
− 保護エステル2A;41.17g(150mmol)
− メチルホスホン酸ジメチル;17.88ml(165mmol)
− 2.7 M n−BuLi;72.2ml(195mmol)
− THF;(500ml)
n−BuLiの2.5Mヘキサン溶液を、窒素ブランケット(N)下の−75℃の無水THF中ホスホナート溶液(450ml)に加えた。3時間後、無水THF(50ml)中エステル2Aを溶液に添加し、得られた混合物(RM)を同じ温度で1時間撹拌した。その後、その混合物を室温で一晩放置した。その後、NHCl水溶液(200ml)を混合物に添加し、得られた混合物を酢酸エチルで抽出し(3×200ml)、ブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。蒸発後に得られた残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(1000g)、CHCl−MeOH 100:1によって精製した。生成物(ホスホナート(3A))の収量は26.2g(57%)であり、R=0.5(CHCl−MeOH 95:5)であった。
<ホスホナート(3A)からPGラクトン(4A)の調製>
Figure 2013530185
− ホスホナート3A;23.77g(67.4mmol)
− コーリーアルデヒド;18.27g(64.23mmol)
− LiCl;2.72g(64.23mmol)
− TEA(トリエチルアミン);8.95ml(64.23mmol)
− THF;300ml
ホスホナート3A及びコーリーアルデヒドの無水THF溶液をLiClで処理し、混合物が透明な溶液になるまで室温で撹拌した(10乃至15分)。その後、混合物を−10℃まで冷却し、窒素ブランケット(N)下で5分間TEAを滴下した。生じたスラリーを同じ温度で1時間撹拌した後、冷却槽を外した。得られた混合物を室温で一晩撹拌した。翌日、NHCl水溶液(100ml)を反応混合物に添加し、得られた混合物を酢酸エチルで抽出した。その後、混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し蒸発させた。蒸発後の残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(600g)、H−EA 10:1乃至5:1によって精製した。生成物(PGラクトン(4A))(図1参照)の収量は、21.5g(65%)であり、R=0.7(H−EA 70:30)であった。
<PGラクトン(4A)からラクトン(5A)の調製>
Figure 2013530185
−PG−ラクトン4A;21.7g(42.48mmol)
−Pd/CaCO;4.0g
−酢酸エチル;400ml
PGラクトン4Aの酢酸エチル(EA)溶液を触媒で処理し、生じた懸濁液を一晩、H(バルーン)下で撹拌した。その後、触媒をセライト濾過し、濾過物(filtrate)を蒸発させ、残渣を精製することなく使用した。粗生成物(ラクトン(5A))(図2参照)−21.2g、R=0.75(H−EA 65:35)。
<ラクトン(5A)からラクトン(6A)の調製>
Figure 2013530185
− ラクトン5A;21.1g(41.15mmol)
− NaBH;1.56g(41.15mmol)
− MeOH;100ml
ラクトン5Aの無水メタノール溶液を−7℃に冷却し、30分間NaBHで一部ずつ処理した。その後、反応混合物をNHCl水溶液で処理した。冷却漕を外し、得られた混合物をジエチルエーテルで抽出した。混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。蒸発後の残渣を精製することなく使用した。粗生成物(ラクトン6A)21.18g、R=0.5(H−EA 60:40)。
<ラクトン(6A)からラクトン(7A)の調製>
Figure 2013530185
− ラクトン6A;21.18g(41.15mmol)
− TBDMSCl;9g(61.73mmol)
− イミダゾール;6.16g(90.5)
− DMF;300ml
ラクトン6Aの無水DMF溶液を氷浴槽で冷却し、10分間TBDMSCl及びイミダゾールで一部ずつ処理した。冷却槽を外し、反応混合物を一晩撹拌した(TLC、H−EA 80:20で調整)。翌日、反応混合物を氷(200g)で処理し、5分間撹拌し、酢酸エチルで抽出した。混合した有機相を合わせ、水−ブライン(1:1、2×100ml)、次にブライン(100ml)で洗浄し、NaSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(600g)、(H−EA 50:1乃至20:1)によって精製した。生成物(ラクトン(7A))(図4参照)の収量は25.6g(3ステップ後95%)であり、R=0.8(H−EA 80:20)であった。
<ラクトン(7A)からラクトン(8A)の調製>
Figure 2013530185
− ラクトン7A;25.5g(40.5mmol)
− DIBAl−H(トルエン中1M溶液);52.7ml
− トルエン;600ml
−THF−HO 7:1混合物;50ml
ラクトン7Aの無水トルエン溶液を−70℃に冷却し、窒素ブランケット(N)下でDIBALを滴下した。反応混合物を1時間攪拌し、TLC(H−EA 85:15)は出発物質を示さなかった。次いで、反応混合物を酢酸エチル(3ml)で処理し、THF−HO混合物を追加した。冷却漕を外し、反応混合物を2時間撹拌した。この間に沈殿物が形成されたため、濾過してトルエンで洗浄した。その後、濾過物を蒸発させ、純粋なラクトール(ラクトン(8A))27gを得、精製することなく次のステップで使用した。R=0.5(H−EA 85:15)であった。
<ラクトン(8A)からオレフィン(9A)の調製>
Figure 2013530185
− ラクトール(8A);27.0g(未精製)
− n−BuLi(ヘキサン中2.5 M溶液、101.33mmol);40.53ml
− メチルトリフェニルホスホニウムブロミド;33.3g(93.22mmol)
− THF;500ml
メチルトリフェニルホスホニウムブロミドを、乾いた1リットルの三つ口丸底フラスコに入れた。無水THF(450ml)を塩に添加し、懸濁液を氷浴槽中で冷却した。懸濁液を攪拌しながら、n−BuLiを、窒素(N)雰囲気下で加えた。氷浴槽を外し、オレンジ色の反応混合物を室温で30分間攪拌した。反応混合物にラクトール8A(無水THF 50ml中)を加え、一晩撹拌した。翌日、黄色の反応混合物を、NHCl水溶液(200ml)で急冷し(quenched with)、10分間撹拌した後、酢酸エチル(500ml)で希釈した。水相を分離し、酢酸エチルで抽出した。混合した有機相をブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(1 kg)、H−EA 50:1乃至30:1で精製した。生成物(オレフィン(9A))(図5A乃至図5C及び図6参照)の収量は22.9g(2ステップ後90%)であり、R=0.7(H−EA 95:5)であった。
<オレフィン(9A)からトリオール(10A)の調製>
Figure 2013530185
− オレフィン9A;1.05g(1.67mmol)
− ジヒドロピラン;0.3ml(3.33mmol)
− PPTS(ピリニジウムp−トルエンスルホナート);21 mg(0.08mmol)
− CHCl;20ml
オレフィン9Aの無水CHCl溶液を、ジヒドロピランとPPTSで処理した。生じた混合物を室温で一晩攪拌した。翌日、反応混合物をNaHCO水溶液とブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(24g)、H−EA 100:1乃至50:1により精製した。生成物(トリオール(10A))(図7参照)の収量は、0.95g(80%、RF=0.8(H−EA 95:5)であった。
<トリオール(10A)からペンタオール(11A)の調製>
Figure 2013530185
− トリオール10A;0.95g(1.33mmol)
− 9−BBN(THF中0.5M溶液,6.0mmol);12.0ml
− NaOH(4N溶液);1.5ml
− H(50%,26.6mmol);1.53ml
− THF;40ml
オレフィン10AのTHF溶液を氷浴漕で冷却し、窒素(N)ブランケット下で9−BBNを滴下した。1時間後、冷却槽を外し、反応混合物を2時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷浴槽で冷却し、NaOHに続けてHを加えた。反応混合物を2時間撹拌し、酢酸エチル(100ml)で希釈し、漏斗に移した。次いで、反応混合物をブライン(2×20ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(60g)、H−EA 20:1乃至10:1によって精製した。生成物(ペンタオール(11A))(図8A乃至図8C参照)の収量は0.72g(75%、R=0.5(H−EA 80:20)であった。
<ペンタオール(11A)からテトラオール(12A)の調製>
Figure 2013530185
− tri−TBSペンタオール11A;0.61g(0.83mmol)
− TBAF(THF中1.0M溶液,5.8mmol);5.8ml
− THF;3ml
TBAFを、tri−TBSペンタオール11AのTHF溶液に添加し、反応混合物を一晩撹拌した。翌日、酢酸エチル(30ml)を反応溶液に添加し、反応溶液をブライン(2×20ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(24g)、CHCl−MeOH 20:1により精製した。生成物(テトラオール(12A))(図9A乃至図9C参照)の収量は、0.26g(78%)であり、R=0.5(CHCl−MeOH 90:10)であった。
<テトラオール(12A)から保護されたテトラノールPGDM(13A)の調製>
Figure 2013530185
− テトラオール12A;255mg(0.66mmol)
− ジョーンズ試薬(HO中2.66M溶液)
− アセトン;20ml
テトラオール12Aのアセトン溶液(10ml)を、ジョーンズ試薬(アセトンで5:1の比率に新規に希釈した5部)により、反応混合物の色が黄色になり、10分間は消えなくなるまで、0℃で40分間、処理した。次いで、反応混合物を10分以上撹拌し、0.5mlのi−PrOHで処理し、酢酸エチル(100ml)で希釈し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(120g)、H−EA−HOAc 70:30:0.5により精製した。生成物(保護されたテトラノールPGDM(13A))の収量は、11mg(40%)であった。RF=0.5(H−EA−HOAc 15:85:1)であった。
<保護されたテトラオールPGDM(13A)からテトラノールPGDM(14)の調製>
Figure 2013530185
− 保護されたテトラノールPGDM;180mg(0.44mmol)
− CHCl中10%TFA;0.4ml(0.52mmol)
− CHCl;2ml
保護されたテトラノールPGDM(13A)(CHCl中2ml)の溶液を、10%TFA(CHCl)で処理し、室温で一晩撹拌した。翌日、蒸発後の残渣を、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(8g)、H−EA−HOAc 70:30:0.5乃至30:70:0.5%によって精製した。生成物(テトラノール PGDM(14))(図12参照)の収量は、70mg(50%)であった。R=0.35(H−EA−HOAc 10:90:1)であった
<実施例2:テトラノール−PGJM(化合物(15))の調製>
テトラノール−PGDM(化合物(14)のCHCl溶液(2ml)を、TFAで処理し、室温で一晩撹拌した。翌日、蒸発後の残渣を、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(4g)、H−EA−HOAc 60:40:0.5乃至50:50:0.5%によって精製した。生成物(化合物(15))(図13、図14A及び図14Bを参照)の収量は、26mg(46%)であった。Rf=0.75(H−EA−HOAc 15:85:1)であった。
<実施例3:テトラノール−PGEM−D、化合物(27B)の調製>
(ナトリウム塩(16B)からエステル(17B−1)の調製)
Figure 2013530185
− ナトリウム塩16B;2.0g(12.49mmol)
− 5%KHSO水溶液s−n
− エーテル中CH(有機合成の標準的な手順によりジアザルドから得た約75ml)
ナトリウム塩16Bの飽和水溶液を、pHが約1になるまで、5%のKHSO水溶液で処理した。次いで、この溶液を酢酸エチルで4回抽出した。有機相をブラインで洗浄し、NaSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(1.86g)をエーテル(20ml)中に溶解し、反応混合物の色が黄色になるまで、CHのエーテル溶液で一部ずつ処理した。蒸発後の残渣(エステル17B−1)(1.85g、収率95%)を精製せずに次のステップで用いた。
<エステル(17B−1)から保護されたエステル(18B−1a)の調製>
Figure 2013530185
− ヒドロキシエステル17B−1;1.8g(11.8mmol)
− TBDMSCl;2.14g(14.2mmol)
− イミダゾール;1.00g(14.75)
− DMF;20ml
エステル17B−1をDMF中に溶解した。TBDMSCl及びイミダゾールを添加し、反応混合物を一晩攪拌した(TLC、ヘキサン−酢酸エチル 10:1で調整)。次いで、反応混合物を、酢酸エチル(200ml)で希釈し、ブライン(2×100ml)で洗浄し、NaSOで乾燥し、蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(250g)、ヘキサン−エーテル 50:1乃至20:1によって精製した。生成物(エステル18−B−1a(i))の収量は、2.44g(80%)であり、R=0.55(ヘキサン−酢酸エチル 10:1)であった。
<保護されたエステル(18B−1a)から保護されたエステル(19B−1a(i))の調製>
Figure 2013530185
− 保護されたエステル18B−1a;2.44g(9.16mmol)
− ジメチルメチルホスホナート;1.02ml(9.43mmol)
− 2.5M n−BuLi;3.66ml(9.16mmol)
− THF;50ml
ヘキサン中2.5Mのn−BuLi溶液を、窒素(N)ブランケット下の‐75℃のTHF(45ml)溶液に加えた。40分後、THF(5ml)中のエステル18B−1aを反応溶液に添加し、反応溶液を‐75℃で1時間、室温で1時間撹拌した。NHCl水溶液(20ml)を添加し、反応混合物を酢酸エチル(3×100ml)で抽出し、ブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(蒸発後のホスホナート(19B−1a(i)(3.08g、収率95%))を精製せずに次のステップで用いた。
<ホスホナート(19B−1a(i))からPGラクトン(20B−1a(i))の調製>
Figure 2013530185
− ホスホナート19B−1a(i);3.07g(8.6mmol)
− コーリーアルデヒド;2.235g(8.14mmol)
− LiCl;0.37g(8.6mmol)
− TEA(トリエチルアミン);1.2ml(8.6mmol)
− THF;30ml
THF TEA中のLiCl及びのコーリーアルデヒドを、N下の−10℃でホスホナート19B−1a(i)の懸濁液に滴下した。反応混合物を−10℃で撹拌し、冷却漕を外した。次いで、反応混合物を室温で一晩攪拌した。翌日、NHCl水溶液(10ml)を反応混合物に加えた。次いで、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、ブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。蒸発後の残渣(4.48g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(200g)、ヘキサン−酢酸エチル 5:1乃至2:1により精製した。生成物(PG−ラクトン20B−1a(i))の収量は、2.34g(54%)であり、R=0.6(ヘキサン−酢酸エチル 60:40)であった。
或いはまた、LiCl−TEAを過剰に使用してもよい(1.2‐1.5モル当量)。
<PGラクトン(20B−1a(i))からPGラクトン(21B−1a(i))の調製>
Figure 2013530185
− PG−ラクトン20B−1a(i);2.34g(4.6mmol)
− Pd/C;0.7g
− 酢酸エチル;50ml
PG−ラクトン20B−1a(i)を、まず酢酸エチルに溶解した。反応フラスコをNでフラッシュし、触媒を反応混合物に慎重に滴下した。反応溶液をHと共に2時間攪拌し、約105mlのHを除去した。触媒を濾過で除去し、反応混合物を酢酸エチルで洗浄した。濾過物を蒸発させ、フラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(80g)、ヘキサン−酢酸エチル 3:1乃至2:1によって精製した。生成物(PG−ラクトン21B−1a(i))の収量は、2.15g(91%)であり、R=0.55(ヘキサン−酢酸エチル 60:40)であった。
<PGラクトン(21B−1a(i))からラクトン(21B−1a(ii))の調製>
Figure 2013530185
− PG−ラクトン21B−1a(i);2.15g(4.2mmol)
− KCO;0.58g(4.2mmol)
− MeOH;30ml
ラクトン21B−1a(i)をMeOH中に溶解し、KCOと共に5時間攪拌した(TLC、ヘキサン−酢酸エチル 50:50で調整)。次いで、反応混合物を酢酸エチル(200ml)で希釈し、ブライン(2×100ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(2.23g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(80g)、ヘキサン−酢酸エチル 2:1乃至1:1により精製した。生成物(ラクトン21B−1a(ii))の収量は、1.34g(81%)であり、R=0.3(ヘキサン−酢酸エチル 50:50)であった。
<PGラクトン(21B−1a(ii))からラクトン(21B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− ラクトン21B−1a(ii);1.33g(.22mmol)
− ジヒドロピラン;0.62ml(6.82mmol)
− PPTS(ピリニジウム p−トルエンスルホナート);43mg(0.17mmol)
− CHCl;40ml
ラクトン21B−1Aa(ii)、ジヒドロピラン、PPTS及びCHClを混合し、一晩撹拌した。翌日、反応混合物をNaHCO水溶液、ブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(1.72g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(80g)、ヘキサン−酢酸エチル 3:1乃至1:1により精製した。生成物(ラクトン(21B−1a(iii))の収量は、1.495g(93%)であり、R=0.7(ヘキサン−酢酸エステル 1:1)であった。
<PGラクトン(21B−1a(iii))からラクトール(22B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− ラクトン21B−1a(iii);1.49g(3.05mmol)
− DIBAl−H(トルエン中1M溶液);8.2ml
− トルエン;100ml
− THF−HOの2:1混合物;15ml
ラクトン21B−1a(iii)のトルエン溶液を−70℃に冷却し、DIBALを窒素(N)ブランケット下で滴下した。反応混合物を1時間撹拌し、TLC(CHCl‐MeOH 20:1)は出発物質を示さなかった。THF−HO混合物を反応フラスコに加え、冷却漕を外し、反応混合物を2時間撹拌した。この間に沈殿物が形成された。沈殿物を濾過し、トルエンで洗浄した。次に、濾過物(ラクトール(22B−1a(iii)))を蒸発させ、純粋なラクトール1.6g(>98%)を得て、精製することなく次のステップに使用した。RF=0.65(CHCl‐MeOH 20:1)であった。
<ラクトール(22B−1a(iii))からオレフィン(23B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− ラクトール22B−1a(iii);1.6g(3.05mmol)
− n−BuLi(ヘキサン中2.5M溶液);4.3ml
− メチルトリフェニルホスホニウムブロミド;3.8g(10.7mmol)
− THF;50ml
メチルトリフェニルホスホニウムブロミドを乾いた100mlの三つ口丸底フラスコに入れ、THFを塩に添加し、生じた懸濁液を氷浴槽中で冷却した。反応混合物を窒素(N)雰囲気下で攪拌しながら、n−BuLiを添加した。氷浴槽を外し、オレンジ色の反応混合物を室温で30分間攪拌した。ラクトール22B−1a(iii)をTHF(10ml)に加え、オレンジ色の反応混合物を一晩撹拌した。翌日、黄色の反応混合物をNHCl水溶液で急冷し、10分間撹拌し、酢酸エチル(150ml)で希釈した。水相を分離し、酢酸エチルで抽出した。重なった有機相をブラインで洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(2.78g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(80g)、ヘキサン−酢酸エチル 3:1乃至1:1により精製した。生成物(オレフィン(23B−1a(iii)))の収量は、1.04g(70%)であり、R=0.8(CHCl−MeOH 20:1)であった。
或いはまた、メチルトリフェニルホスホニウムブロミドは、最大11モル当量までの過剰n−BuLi塩基と対応させて、最大10モル当量まで過剰に使用することができる。
<オレフィン(23B−1a(iii))からトリオール(24B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− オレフィン23B−1a(iii);0.33g(0.678mmol)
− 9−BBN(THF中0.5M溶液);6.1ml
− NaOH1.0ml(3M溶液);
− H(50%);0.8ml
− THF;20ml
オレフィン23B−1a(iii)のTHF溶液を氷浴漕で冷却し、9−BBNを窒素(N)ブランケット下で溶液に滴下した。1時間後、冷却槽を外し、反応混合物を2時間撹拌した。次いで、反応混合物を氷浴漕で冷却し、NaOHに続けてHを加えた。反応混合物を2時間撹拌し、酢酸エチル(100ml)で希釈し、漏斗に移した。反応混合物をブライン(2×20ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(0.97g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(80g)、CHCl−MeOH 30:1乃至20:1によって精製した。生成物(トリオール(24B−1a(iii)))の収量は、0.35g(収率は定量的である)であり、精製せずに次のステップで使用した。R=0.3(CHCl−MeOH 10:1)であった。
<トリオール(24B−1a(iii))からテトラオール(25B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− 未精製24B−1a(iii);0.345g(〜0.678mmol)
− TBAF(THF中1.0M溶液);1.0ml
− THF;10ml
トリオール24B−1a(iii)のTHF溶液にTBAFを加え、反応混合物を一晩撹拌した。翌日、酢酸エチル(50ml)を反応混合物に添加し、反応混合物をブライン(2×20ml)で洗浄し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(0.55g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(60g)、MeOH−酢酸エチル−HOAc 5:95:0.5乃至20:80:0.5により精製した。生成物(テトラオール(25B−1a(iii))の収量は、224mg(2ステップ後83%)であった。R=0.4(MeOH−酢酸エチル−HOAc 5:95:1)。
<テトラオール(25B−1a(iii))からテトラノールPGEM(26B−1a(iii))の調製>
Figure 2013530185
− テトラオール25B−1a(iii);214mg(0.57mmol)
− ジョーンズ試薬(水中2.66M溶液);
− アセトン;70ml
テトラオール25B−1a(iii)のアセトン溶液(20ml)を、ジョーンズ試薬(アセトンで50:1の比率に新規に希釈した5部)により、反応物質が黄色になり、10分間は消えなくなるまで、0℃で40分間、処理した。反応混合物を10分以上撹拌し、0.5mlのi−PrOHで処理し、酢酸エチル150mlで希釈し、MgSOで乾燥し、蒸発させた。残渣(0.248g)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(60g)、ヘキサン−酢酸エチル−HOAc 60:40:0.5乃至20:80:0.5により精製した。生成物(テトラノールPGEM(26B−1a(iii)))の収量は46mg(18%)であった。R=0.57(ヘキサン−酢酸エチル−HOAc 10:90:1)であった。
<テトラノールPGEM(26B−1a(iii))からテトラノールPGAM(27(B))の調製>
Figure 2013530185
− 保護されたテトラノールPGEM26B−1a(iii);45mg(0.11mmol)
− HOAc/THF/HO(4:2:1)混合物;5ml
保護されたテトラノールPGEM26B−1a(iii)溶液(HOAc/THF/HO(4:2:1)5ml中)を2日間攪拌し、トルエンで蒸発させた。残渣(40mg)をフラッシュクロマトグラフィー:シリカゲル(20g)、ヘキサン−酢酸エチル−HOAc 25:75:0.5−ヘキサン−酢酸エチル−HOAc 10:90:0.5により精製した。生成物(テトラノール PGAM(27(B)))の収量は、14mg(40%)であった。R=0.45(エタノール−酢酸エチル−HOAc 5:95:1)であった。
本開示は、本発明に対してなされ得る様々な変更及び修正が、本発明の範囲内にあることを目的としていることが理解されるべきである。その他多数の変更も、当該技術の当業者であれば容易に実行でき、本明細書に開示された発明の範囲に含まれている。
ここに引用された特許、特許出願公開及び出版物のリストは夫々、あらゆる目的において、参照によってその全体が本明細書の一部となる。

Claims (15)

  1. スキームIに示す以下の反応ステップを含むテトラノール−PGDMを調製する方法であって、
    Figure 2013530185
    DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドであり、
    THFは、テトラヒドロフランであり、
    Etは、エチル基であり、
    DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、
    t−BuOKは、カリウムtert−ブトキシドであり、
    TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、
    THPは、テトラヒドロピランであり、
    Acは、アセチル基であり、
    は、C1−4アルキル基であり、
    各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、
    各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、
    は、メチル基又はエチル基であり、
    は、保護基である方法。
  2. 保護基Rには、tert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)が含まれる、請求項1に記載の方法。
  3. 保護基Rは、スキームIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している、請求項1に記載の方法。
  4. テトラノール−PGJMを形成する方法であって、スキームIIに示す以下の反応ステップを含み、
    Figure 2013530185
    前記酸は有機酸又は無機酸からなる方法。
  5. 前記酸は酢酸からなる、請求項4に記載の方法。
  6. 前記酸はトリフルオロ酢酸からなる、請求項4に記載の方法。
  7. 前記化合物14は、以下の反応スキームIにより形成され、
    Figure 2013530185
    DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドであり、
    THFは、テトラヒドロフランであり、
    Etは、エチル基であり、
    DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、
    t−BuOKは、カリウムtert−ブトキシドであり、
    TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、
    THPは、テトラヒドロピランであり、
    Acは、アセチル基であり、
    は、C1−4アルキル基であり、
    各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、
    各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、
    は、メチル基又はエチル基であり、
    は、保護基である、請求項4に記載の方法。
  8. テトラノール−PGEM又はテトラノール−PGEM−Dを形成する方法であって、スキームIIIに示す以下の反応ステップを含み、
    Figure 2013530185
    DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドであり、
    THFは、テトラヒドロフランであり、
    Etは、エチル基であり、
    DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、
    t−BuOKは、カリウム tert−ブトキシドであり、
    9−BBNは、9−borabicyclo[3.3.1]ノナンであり、
    TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、
    は、C1−4アルキル基であり、
    各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、
    各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、
    は、メチル基又はエチル基であり、
    は、保護基であり、
    は、水素又は重水素である方法。
  9. 保護基Rには、tert−ブチルジメチルシリル(TBDMS)が含まれる、請求項8に記載の方法。
  10. 保護基Rは、スキームIIIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間の全ての反応条件に対して安定している、請求項8に記載の方法。
  11. 保護基Rは別の保護基と置換され、該別の保護基は、スキームIIIに示す反応シーケンスへの導入と、適切な脱保護条件による必要な除去との間で安定している、請求項8に記載の方法。
  12. テトラノール−PGAMを形成する方法であって、スキームIVに示す以下の反応ステップを含み、
    Figure 2013530185
    前記酸は有機酸又は無機酸からなり、Rは水素又は重水素からなる方法。
  13. 前記有機酸はトリフルオロ酢酸からなる、請求項12に記載の方法。
  14. 前記化合物27A/Bは、以下のスキームIIIに従って形成され、
    Figure 2013530185
    DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドであり、
    THFは、テトラヒドロフランであり、
    Etは、エチル基であり、
    DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、
    t−BuOKは、カリウムtert−ブトキシドであり、
    9−BBNは、9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナンであり、
    TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、
    は、C1−4アルキル基であり、
    各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、
    各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、
    は、メチル基又はエチル基であり、
    は、保護基であり、
    は、水素又は重水素である、請求項12に記載の方法。
  15. テトラノール−PGFMを生成する方法であって、スキームVに示す以下のステップを含み、
    Figure 2013530185
    DMFは、N,N−ジメチルホルムアミドであり、
    THFは、テトラヒドロフランであり、
    Etは、エチル基であり、
    DIBALは、ジイソブチルアルミニウムであり、
    t−BuOKは、カリウムtert−ブトキシドであり、
    9−BBNは、9−ボラビシクロ[3.3.1]ノナンであり、
    TBAFは、フッ化テトラブチルアンモニウムであり、
    TBDMSは、tert−ブチルジメチルシリルであり、
    Acは、アセチル基であり、
    THPは、テトラヒドロピランであり、
    は、C1−4アルキル基であり、
    各Rは個々に、C1−5アルキル基又はフェニル基であり、
    各Rは個々に、C1−4アルキル基であり、
    は、メチル基又はエチル基であり、
    は、保護基であり、
    は、水素又は重水素である方法。
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