JP2013529826A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013529826A5
JP2013529826A5 JP2013516787A JP2013516787A JP2013529826A5 JP 2013529826 A5 JP2013529826 A5 JP 2013529826A5 JP 2013516787 A JP2013516787 A JP 2013516787A JP 2013516787 A JP2013516787 A JP 2013516787A JP 2013529826 A5 JP2013529826 A5 JP 2013529826A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substituted
liquid composition
curable liquid
formula
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013516787A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5879341B2 (ja
JP2013529826A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US12/822,592 external-priority patent/US20110318534A1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2013529826A publication Critical patent/JP2013529826A/ja
Publication of JP2013529826A5 publication Critical patent/JP2013529826A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5879341B2 publication Critical patent/JP5879341B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2013516787A 2010-06-24 2011-06-24 光学テープをパターニングするための低粘度モノマー Active JP5879341B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/822,592 US20110318534A1 (en) 2010-06-24 2010-06-24 Low Viscosity Monomer for Patterning Optical Tape
US12/822,592 2010-06-24
PCT/US2011/041737 WO2011163543A1 (en) 2010-06-24 2011-06-24 Low viscosity monomer for patterning optical tape

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013529826A JP2013529826A (ja) 2013-07-22
JP2013529826A5 true JP2013529826A5 (https=) 2014-08-07
JP5879341B2 JP5879341B2 (ja) 2016-03-08

Family

ID=44453889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013516787A Active JP5879341B2 (ja) 2010-06-24 2011-06-24 光学テープをパターニングするための低粘度モノマー

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20110318534A1 (https=)
EP (1) EP2586027B1 (https=)
JP (1) JP5879341B2 (https=)
CA (1) CA2803281C (https=)
WO (1) WO2011163543A1 (https=)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9009745B2 (en) 2012-11-15 2015-04-14 Oracle International Corporation Thin web optical media guiding method
US8869180B2 (en) * 2012-11-27 2014-10-21 Oracle America, Inc. Rotary head multi-layer data storage and retrieval system and method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4198446A (en) * 1978-02-14 1980-04-15 Ncr Corporation Apparatus for the manufacture of a dual coated manifold sheet with pressure-rupturable materials
JP2708229B2 (ja) * 1989-05-31 1998-02-04 ホーヤ株式会社 光ディスク製造用モノマー組成物
EP0519629A1 (en) * 1991-06-11 1992-12-23 Imperial Chemical Industries Plc Recording media
US7106519B2 (en) * 2003-07-31 2006-09-12 Lucent Technologies Inc. Tunable micro-lens arrays
JP2007287227A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Toshiba Corp 追記型情報記録媒体及びディスク装置
JP2008165845A (ja) * 2006-12-26 2008-07-17 Hitachi Maxell Ltd テープ状光記録媒体、その製造方法及び製造装置
JP2008198296A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Hitachi Maxell Ltd 情報記録テープ用のサーボパターン層の製造方法、その製造装置、及び情報記録テープ
JP2009032380A (ja) * 2007-03-05 2009-02-12 Rohm & Haas Co 硬化性組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5671302B2 (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5611519B2 (ja) ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法
JP7243606B2 (ja) 表示装置の製造方法、チップ部品の移設方法、および感放射線性組成物
JP5665329B2 (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP2010186979A (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5511415B2 (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP5671377B2 (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
KR20140031910A (ko) 임프린트용 경화성 조성물, 패턴 형성 방법 및 패턴
JP2008268931A5 (https=)
JP2009543340A5 (https=)
TW201008996A (en) Curable composition for imprint, curing object using the same, manufacturing method thereof and member for liquid crystal display device
JP2013093552A (ja) インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法
JP5499596B2 (ja) パターン形成方法及び半導体素子
JP2012042836A5 (https=)
JP5712003B2 (ja) インプリント用硬化性組成物およびインプリント用重合性単量体の製造方法
KR20120031908A (ko) 임프린트용 경화성 조성물의 제조방법
US20140121292A1 (en) Curable composition for imprints, patterning method and pattern
JP2014146812A (ja) インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
JP2009191107A (ja) ナノインプリント用硬化性組成物およびパターン形成方法
JP2013529826A5 (https=)
JP2009184275A (ja) 微細樹脂構造体並びにその製造方法
JP2010106062A (ja) ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法
JP7017623B2 (ja) インプリント用下層膜形成組成物、インプリント用硬化性組成物、キット
TWI644958B (zh) Resin composition, resist mask for dry etching, and pattern forming method
JP2018177859A5 (https=)