JP2013524130A - 電磁弁 - Google Patents

Abstract

【課題】電磁弁の切替時、または、磁気アーマチャおよび／または弁要素の移動時の騒音発生を低減する。
【解決手段】本発明は、弁ハウジング（２）内に軸方向に移動可能に配置された磁気アーマチャ（３）と、磁気アーマチャ（３）と作用結合された少なくとも１つの弁要素（２５、２６）とを有する電磁弁（１）に関する。弁要素は、磁気アーマチャによって、電磁弁の少なくとも１つの弁座（１１、１３）を開放または閉鎖するように移動可能である。弁ハウジング（２）と、磁気アーマチャおよび／または弁要素との間に少なくとも１つの流動通路（２４）が形成される。流動通路内に流動絞り要素（２７）が設けられ、流動絞り要素は、特に磁気アーマチャから形成された第１の当接端部（２８）と、特に弁要素から形成された第２の当接端部（２９）との間に配置される。
【選択図】図１

Description

本発明は、弁ハウジング内に軸方向に移動可能に配置された磁気アーマチャおよび磁気アーマチャと作用結合された少なくとも１つの弁要素を有する電磁弁に関する。弁要素は、磁気アーマチャにより電磁弁の少なくとも１つの弁座を開放または閉鎖するように移動可能であり、弁ハウジングと、磁気アーマチャおよび／または弁要素との間に、少なくとも１つの流動通路が形成されている。

冒頭記載のタイプの電磁弁は従来技術から既知である。電磁弁の磁気アーマチャは、それが軸方向に移動されるように、例えば、少なくとも１つのコイルによって付勢可能であり、弁要素は、弁座を開放または閉鎖するように配置されている。磁気アーマチャまたは弁要素は、さらに、ばね力を与えるばね要素と作用結合されてもよく、ばね力は、磁気アーマチャないしは弁要素をそれぞれの静止位置または初期位置に押圧する。この場合、静止位置は、弁座が弁要素から少なくとも一部開放されている開放位置であってもよく、弁要素が弁座を閉鎖する閉鎖位置であってもよい。前者の場合、電磁弁は、無通電時において開放された電磁弁であり、後者の場合、無通電時において閉鎖された電磁弁である。電磁弁は、例えば、高圧切換弁（ＨＳＶ）として形成され、ドライバ支援装置内において使用されてもよい。ドライバ支援システムは、例えば、ＥＳＰシステム、ＡＳＲシステムまたはＡＢＳシステムである。

磁気アーマチャまたは弁要素の移動の間に、磁気アーマチャの両側に存在する流体室間の圧力均衡を可能にするために、流動通路が設けられている。流動通路は、弁ハウジングと、磁気アーマチャおよび／または弁要素との間に存在する。即ち、磁気アーマチャが移動したとき、電磁弁内に存在する流体は、流動通路に沿って流動可能であり、流体は、一方の流体室から他方の流体室内に到達する。流動通路は、通常小さい容積を有するに過ぎず、即ち、弁ハウジングと磁気アーマチャまたは弁要素との間の間隔は、比較的小さいので、流動通路に沿って流動する流体は著しく加速される。したがって、磁気アーマチャまたは弁要素が移動したとき、流体は、高い速度で流動通路内を流動する。ここで、流体が流体ストッパに衝突した場合、流体は急激に失速し、このとき、この位置に高い圧力が発生する。流体ストッパ（例えば、磁気アーマチャまたは弁座の領域）への流体のこの衝突は、圧力波を発生させ、これにより騒音を発生させる。この騒音は不快に感じられることがある。

これは、特に、電磁弁が多段式、特に二段式であり、前段および主段を有している場合であり、および／または、電磁弁が大きなリフトを有している場合である。電磁弁の入口および出口間の差圧が、例えば、３０バール以上に高い場合、前段のみが開放されてもよい。これにより、差圧は低下する。差圧が十分に低下したとき、例えば、差圧が１０バール以下になったとき、主段は、強制的に開放される。不快な騒音は、特に、常圧状態において、主段が開放または閉鎖するときに発生する。

これに対して、請求項１に記載の特徴を有する電磁弁は、電磁弁の切替時、または、磁気アーマチャおよび／または弁要素の移動時における騒音発生が低減されるという利点を有している。同時に、電磁弁の切替時間は、全く影響されるべきではなく、あるいは、少なくともほとんど影響されるべきではない。これは、本発明により、流動通路内に設けられた流動絞り要素であって、特に磁気アーマチャから形成された第１の当接端部と、特に弁要素から形成された第２の当接端部との間に配置されている、流動絞り要素により達成される。流動絞り要素は、流動通路内において流体ダンピングを生じさせる。このようにして、流体の速度が低減されるので、流体内における圧力波の発生または伝達が阻止されるか、あるいは、圧力波が減衰される。流動絞り要素は、第１および第２の当接端部間において自由に移動可能に、即ち、第１および第２の当接端部間において軸方向に移動可能に配置されていることが好ましい。しかしながら、流動絞り要素の移動は、両方の当接端部によって制限される。この場合、第１の当接端部は、磁気アーマチャから形成されていることが好ましく、また、第２の当接端部は、弁要素から形成されていることが好ましい。流動絞り要素は、流動通路内の隙間流動、即ち、弁ハウジングと磁気アーマチャおよび／または弁要素との間の隙間流動における絞り作用により、顕著なダンピングを生じさせる。したがって、磁気アーマチャまたは弁要素の移動により流体内に発生された圧力波は、もはや減衰されずに伝達されることはない。

特に、第１および第２の当接端部間の間隔を介して、流動絞り要素により生じさせられるダンピングの大きさを設定可能である。流動絞り要素が両方の当接端部間において位置固定に保持されている場合、磁気アーマチャまたは弁要素の移動において、流動絞り要素の絞り作用は、遅れなく発生する。これに対して、流動絞り要素が第１の当接端部のみならず第２の当接端部にも常には当接せず、これらの間で可動なように、第１および第２の当接端部が相互に間隔を有している場合、流動絞り要素が第１または第２の当接端部と接触するまで磁気アーマチャまたは弁要素が移動したときにはじめて、流動絞り要素は、その絞り作用を実行し始める。流動絞り要素が軸方向に移動する可能性は、流動絞り要素が第１および第２の当接端部と同時には接触せず、両方の当接端部の１つのみと接触したときにだけ存在する。このような実施形態においては、流動絞り要素は、当接端部間において位置固定に保持されずに、むしろ、これらの間で移動可能に保持されている。

流動絞り要素は、簡単な形状に、例えば、リング・ディスクとして形成されていることが好ましい。流動絞り要素は、既存の量産品の構造を変化させることなく、電磁弁内に組込み可能である。したがって、電磁弁内の騒音発生を低減させるために追加する流動絞り要素は、極めてコスト的に有利、かつ、有効な解決手段である。電磁弁の組立において、追加の作業工程、即ち、電磁弁内への流動絞り要素の組込みのみが必要であるに過ぎない。

本発明の一変形態様は、弁要素が、弁座に付属された少なくとも１つの閉鎖要素を有し、特に、弁要素の中間部材が、磁気アーマチャと閉鎖要素との間の作用結合を形成するように構成されている。閉鎖要素は、弁要素の構成部品である。閉鎖要素は、弁座と協働して、弁座を開放または閉鎖する。前者の場合、閉鎖要素は、好ましくは、電磁弁の軸方向に弁座から離れて間隔をなし、後者の場合、閉鎖要素は、気密をなして弁座内に当接する。電磁弁の各弁座に対して、弁要素にそれぞれ付属された閉鎖要素が設けられていることが好ましい。弁要素は、さらに、中間部材を有していてもよく、中間部材を介して、磁気アーマチャと閉鎖要素との間の作用結合が形成されている。これは、磁気アーマチャが移動したとき、この移動が少なくとも部分的に閉鎖要素に伝達されることを意味する。しかしながら、閉鎖要素は、中間部材が必要ないように、磁気アーマチャに固定されていてもよい。複数の閉鎖要素が設けられている場合、例えば、閉鎖要素の１つが磁気アーマチャに固定され、閉鎖要素の他の１つが磁気アーマチャと作用結合されていてもよい。

本発明の一変形態様は、弁要素が複数の閉鎖要素を有するように構成され、各閉鎖要素は、それぞれ１つの弁座を開放または閉鎖するように設けられている。この場合、はじめに、弁座が流動方向に相互に相前後して配置されているか、または、相互に並列に配置されているかは問題ではない。この場合、電磁弁は、多段式の電磁弁として形成されている。

本発明の一変形態様は、閉鎖要素の一方が電磁弁の前段に付属され、閉鎖要素の他方が電磁弁の主段に付属されているように構成されている。したがって、電磁弁は、多段式、特に二段式である。上記のように、電磁弁の入口および出口間の差圧が高いとき、はじめに前段の閉鎖要素が移動されて、対応する弁座が開放される。このようにして、電磁弁の入口および出口間が連通し、これにより、差圧は低下する。差圧が十分に低下した場合、最後に主段の閉鎖要素が移動され、これにより、主段もまた、対応する弁座を開放する。

本発明の一変形態様は、中間部材が、磁気アーマチャの少なくとも一部の領域を包囲するか、および／または、磁気アーマチャに固定されているように構成されている。即ち、中間部材は、例えば、保持アームを有し、保持アームは、磁気アーマチャに係合しているか、または、磁気アーマチャを包囲するように、少なくともその一部の領域がスリーブ状に形成されている。中間部材は、磁気アーマチャと固定結合されていることが好ましく、これにより、磁気アーマチャの移動は、直接中間部材に作用し、それに対応して中間部材が移動される。

本発明の一変形態様は、流動絞り要素がリング・ディスクとして形成されているように構成されている。この場合、リング・ディスクは、電磁弁の軸方向に見て、円形断面および中心開口を有し、中心開口は、同様に円形断面を有している。リング・ディスクは、磁気アーマチャの少なくとも一部の領域が中心開口を貫通するように配置されていることが好ましい。即ち、この場合、リング・ディスクは、磁気アーマチャに支持されているので、軸方向に案内部が存在する。リング・ディスクは、少なくとも１つの軸方向内孔を有していてもよく、軸方向内孔の大きさを介して、リング・ディスクの絞り作用が設定可能である。軸方向内孔の代わりに、または、これに追加して、リング・ディスクの外側輪郭または内側輪郭に、例えば、ノッチとして形成される、縁が開いた、少なくとも１つの軸方向切欠部が存在していてもよい。

本発明の一変形態様は、第１の当接端部が磁気アーマチャのリング段から形成されているか、および／または、第２の当接端部が中間部材の端面に存在するように構成されている。この場合、リング段は、磁気アーマチャの断面寸法の変化により形成されている。リング段が磁気アーマチャの直径変化の形で存在するように、磁気アーマチャは、電磁弁の軸方向に見て、断面が円形であることが好ましい。流動絞り要素がリング・ディスクとして形成されている場合、磁気アーマチャの小さい方の直径の領域がリング・ディスクの中心開口を貫通係合可能であり、同時に、磁気アーマチャは、第１の当接端部を、直径変化の領域内またはリング段の領域内において提供可能である。追加態様または代替態様として、第２の当接端部は、中間部材の端面に存在している。

本発明の一変形態様は、流動絞り要素が、その外壁と弁ハウジングとの間、および／または、その内壁と磁気アーマチャとの間に流動通路を有するように構成されている。即ち、流動絞り要素は、磁気アーマチャまたは弁要素が移動したときに、流体がそれを介して流動可能な流動通路が存在するように、弁ハウジングおよび／または磁気アーマチャから間隔をなしている。このかぎりにおいて、流動絞り要素は、流体の流動を絞る働きのみをなし、この場合、流体の流動速度は低下されるが、流動絞り要素は、流動通路を塞ぐことはない。

本発明の一変形態様は、外壁と弁ハウジングとの間の間隔、内壁と磁気アーマチャとの間の間隔、および／または、流動絞り要素の軸方向長さが、流動絞り要素の所望の絞り作用に対応して選択されるように構成されている。流動絞り要素の絞り作用は、磁気アーマチャの流動絞り要素に対する直径比、および、流動絞り要素の弁ハウジングに対する直径比に依存する。同様に、流動絞り要素の軸方向長さが重要である。流動絞り要素の対応する構成により、絞り作用は、流動絞り要素を弁ハウジング内において案内することによりもたらされてもよく、この場合、流動通路は、内壁と磁気アーマチャとの間に存在する。あるいは、磁気アーマチャにおいて案内することによりもたらされてもよく、この場合、流動通路は、外壁と弁ハウジングとの間に存在する。流動絞り要素の絞り作用を決定するために、流動絞り要素の間隔の少なくとも１つ、および／または、軸方向長さがそれに対応して選択される。

本発明の一変形態様は、第１および第２の当接端部間の間隔が、電磁弁のリフト、特に主段のリフトより小さいか、または、それに等しく、および／または、第１および第２の当接端部間の間隔が、前段のリフトより大きいか、または、それに等しいように構成されている。流動絞り要素が第１の当接端部と第２の当接端部との間で軸方向に移動可能な距離は、前段のリフトより大きいが、主段のリフトよりは小さくなるように決定されている。リフトとは、それぞれ、前段の閉鎖要素または主段の閉鎖要素が移動可能な距離と理解される。これにより、前段またはその閉鎖要素が対応する開放位置に既に存在するときにはじめて、流動絞り要素が流体的に有効となることが達成される。したがって、電磁弁の前段は、流動絞り要素により影響されないので、電磁弁の応答時間（切換時間ｔａｎないしはｔａｂ）は、不利な影響を受けない。流動絞り要素の絞り作用は、むしろ、前段が開放され、且つ、主段またはその閉鎖要素が開放位置に移動されるべきときにはじめて発生する。これは、当接端部間の間隔が、はじめは電磁弁の前段のリフトより大きいか、または、それに等しく、同時に、電磁弁の主段のリフトより小さいか、または、それに等しいことにより達成される。

以下に、本発明が、図面に示されている実施例によって、より詳細に説明されるが、本発明は、これに制限されない。

それぞれ当接端部を形成する磁気アーマチャおよび弁要素を有する電磁弁であって、当接端部間に流動絞り要素が配置されている、電磁弁の側断面図を示す。 流動絞り要素の領域内の電磁弁の詳細図を示す。

図１は、電磁弁１の断面図を示す。電磁弁１は、弁ハウジング２を備え、弁ハウジング２内に磁気アーマチャ３が軸方向に移動可能に配置されている。図１には、電磁弁１が外部装置の取付部４内に弁ハウジング２によってどのように配置され、または、固定されているかが示されている。電磁弁１は、複数の入口５を備えているが、この場合、代替態様として、ただ１つの入口５のみが設けられていてもよく、ここでは、入口５の２つのみが図示されている。入口５を介しての電磁弁１への流入は、半径方向に行われる。これに対して、出口６を介しての電磁弁１からの流出は、軸方向に行われる。ここで、軸方向とは、電磁弁１の縦軸と理解され、縦軸は、ここでは線７により示されている。流動方向において入口５の手前にフィルタ要素８が設けられ、フィルタ要素８は、同様に、電磁弁１に付属されている。

電磁弁１は、二段式電磁弁として形成されている。したがって、電磁弁１は、前段９および主段１０を備えている。前段９に弁座１１および閉鎖要素１２が付属され、これに対して、主段１０に弁座１３および閉鎖要素１４が付属されている。この場合、閉鎖要素１４は、弁体１５の一部であり、弁体１５には、前段９の弁座１１もまた設けられている。弁体１５は、軸方向に流体通路１６によって貫通され、閉鎖要素１２が弁座１１を開放したとき、流体通路１６を介して、入口５と出口６との間が連通する。しかしながら、流体通路１６は、少なくともその一部の領域において小さい直径のみを有するので、流体通路１６は、単位時間当たり少量の流体を流動可能にするに過ぎない。

したがって、電磁弁１を全開させるためには、さらに、閉鎖要素１４もまた、弁座１３を開放することが必要である。通常、入口５と出口６との間の差圧が高い場合、前段９のみが開放されるだけでよい。この開放により、差圧の低下が達成される。差圧が十分な程度に低下した場合、閉鎖要素１４が弁座１３から持ち上げられることにより、主段１０もまた、開放可能である。閉鎖要素１２の移動のみならず閉鎖要素１４の移動もまた、磁気アーマチャ３の移動によって行われる。その目的のために、閉鎖要素１２は、直接磁気アーマチャ３に固定されているので、ここに直接作用結合が存在する。磁気アーマチャ３と閉鎖要素１４との間の作用結合は、中間部材１７を介して形成される。この場合、中間部材１７は、少なくともその一部の領域においてスリーブ状に形成され、磁気アーマチャ３の下部領域１８の少なくとも一部を包囲している。この包囲により、中間部材１７は、磁気アーマチャ３と固定結合されている。例えば、中間部材１７は、下部領域１８上に圧着締めされる。

図１に示された電磁弁１の閉鎖位置において、磁気アーマチャ３は、弁座１１および１３を閉鎖するように配置されている。これは、閉鎖要素１２が弁座１１内に、また、閉鎖要素１４が弁座１３内に、気密をなして当接しているので、入口５と出口６との間に連通が存在しないことを意味する。磁気アーマチャ３を閉鎖位置に保持するために、ばね１９が設けられ、ばね１９は、磁気アーマチャ３をこの位置に押圧する。この場合、閉鎖位置は、電磁弁１の初期位置であるので、このことは、無通電時において閉鎖された電磁弁を示している。電磁弁１を開放するために、磁気アーマチャ３は、開放位置に、または、開放位置の方向に移動される。この場合、はじめに閉鎖要素１２が弁座１１から離れるように移動され、これにより、流体通路１６を介して連通する。磁気アーマチャ３および閉鎖要素１４の間の作用結合を、それを介して形成可能な中間部材１７の案内装置２０は、閉鎖要素１４の対向面２１から軸方向に十分に大きい間隔を有しているので、閉鎖要素１４は、はじめは弁座１３内に留まったままである。これにより、案内装置２０は、前段９が全開される、磁気アーマチャ３の位置においてはじめて、対向面２１と接触する。前段９が開放され、且つ、磁気アーマチャ３が開放位置の方向にさらに移動されたときにはじめて、閉鎖要素１４が弁座１３から離れるように移動されることにより、主段１０もまた開放可能である。

磁気アーマチャ３の上方に流体室２２が存在し、磁気アーマチャ３の下方に流体室２３が存在する。磁気アーマチャ３が移動したとき、圧力均衡を達成させるために、流体室２２から流体室２３内に、または、その反対に、流体が到達可能でなければならない。このために、弁ハウジング２と、磁気アーマチャ３または弁要素２５との間に、流動通路２４が設けられている。この場合、弁要素２５は、閉鎖要素１４および中間部材１７を有している。これに対して、閉鎖要素１２は、他の弁要素２６に付属されている。特に、電磁弁１の圧力がない状態において、主段１０が開放および閉鎖したときに圧力波が発生可能であり、この圧力波は、不快な騒音を導く。この騒音は、流体が、流体室２２および２３の間を流動するために、小さい断面積を有する流動通路２４内を流動したときに発生する。したがって、流体は著しく加速される。ここで、流体が流体ストッパに衝突した場合、この位置において高い圧力が発生し、不快な騒音が発生する。

これを阻止するために、電磁弁１に流動絞り要素２７が付属され、ここに示された実施形態においては、流動絞り要素２７は、リング・ディスクとして存在する。流動絞り要素２７は、流動通路２４内に配置され、第１の当接端部２８と第２の当接端部２９との間で軸方向に移動可能である。ここに示された実施形態においては、第１の当接端部２８は、磁気アーマチャ３から形成され、第２の当接端部２９は、中間部材１７または弁要素２５から形成される。流動絞り要素２７が磁気アーマチャ３の下部領域１８を周方向に完全に包囲することにより、流動絞り要素２７の案内が得られる。第１の当接端部２８は、磁気アーマチャ３のリング段３０の形で存在する。ここでは、リング段３０は、下部領域１８と上部領域３１との間の、磁気アーマチャ３の直径変化から形成される。したがって、上部領域３１は、下部領域１８よりも大きい直径を有している。これに対して、第２の当接端部２９は、中間部材１７または弁要素２５の端面３２に存在する。

この場合、流動絞り要素２７は、その外壁と弁ハウジング２との間に流動通路３３が存在するように構成されている。この流動通路３３内を流体が流動可能であり、同時に、流動絞り要素２７の絞り作用が発生する。流動絞り要素２７が電磁弁１の切換時間に負の影響を与えるように、第１の当接端部２８と第２の当接端部２９との間の間隔は、前段９のリフトより大きいか、または、それに等しいように選択される。このような実施形態において、流動絞り要素２７は、通常、前段９が既に全開したときにはじめて、第１の当接端部２８または第２の当接端部２９と接触する。したがって、流動絞り要素２７の絞り作用は、主段１０に対してのみ存在する。即ち、流動絞り要素２７が軸方向に移動可能なことにより、流動絞り要素２７は、磁気アーマチャ３の移動の開始時においては、電磁弁１の開放において前段９が全開するまで、または、電磁弁１の閉鎖において主段１０が全閉するまで、流体室２２および２３の間の流体流動に対してはいかなる作用も有しておらず、むしろ、磁気アーマチャ３が妨害されずに上昇運動または下降運動することを可能にする。したがって、電磁弁１の応答時間は変化しない。

しかしながら、磁気アーマチャ３の移動がさらに進行したとき、流動絞り要素２７は、第１の当接端部２８または第２の当接端部２９に当接し、その結果、流体絞りまたは流体ダンピングを生じさせる。流動絞り要素２７が当接端部２８および２９の１つと接触する時点は、中間部材１７を磁気アーマチャ３上に所定の間隔値で適切に配置または押圧することにより得られる。代替態様として、当接端部２８および２９は、それぞれ独立の要素により、例えば、磁気アーマチャ３上に装着された保持リングにより形成されてもよいことは明らかである。しかしながら、磁気アーマチャ３または中間部材１７による当接端部２８および２９の形成が好ましく、その理由は、このようにして（流動絞り要素２７は別として）、追加の部品なしに、電磁弁１の簡単かつコスト的に有利な製造が可能であるからである。電磁弁１の製造または組立において、当接端部２８および２９の間の間隔は、中間部材１７の軸方向長さをそれに対応して選択することにより達成される。この中間部材１７の軸方向長さは、前段９のリフトを設定した後に、流動絞り要素２７に必要な移動可能なことが保証されるように選択される。

図２は、流動絞り要素２７の領域内の電磁弁１の詳細断面図を示す。ここに示された実施形態は、図１により示された実施形態に対応している。したがって、上記の説明を参照されたい。

１…電磁弁
２…弁ハウジング
３…磁気アーマチャ
４…取付部
５…入口
６…出口
８…フィルタ要素
９…前段
１０…主段
１１…弁座
１２…閉鎖要素
１３…弁座
１４…閉鎖要素
１５…弁体
１６…流体通路
１７…中間部材
１８…下部領域
１９…ばね
２０…案内装置
２１…対向面
２２．２３…流体室
２４…流動通路
２５…弁要素
２６…他の弁要素
２７…流動絞り要素
２８…第１の当接端部
２９…第２の当接端部
３０…リング段
３１…上部領域
３２…端面
３３…流動通路

Claims (10)

1. 弁ハウジング（２）内に軸方向に移動可能に配置された磁気アーマチャ（３）と、該磁気アーマチャ（３）と作用結合された少なくとも１つの弁要素（２５、２６）とを有する電磁弁（１）であって、
   前記弁要素（２５、２６）は、前記磁気アーマチャ（３）によって、前記電磁弁（１）の少なくとも１つの弁座（１１、１３）を開放または閉鎖するように移動可能であり、
   前記弁ハウジング（２）と、前記磁気アーマチャ（３）および前記弁要素（２５、２６）のうちの少なくとも一方と、の間に、少なくとも１つの流動通路（２４）が形成されており、
   前記流動通路（２４）内に設けられた流動絞り要素（２７）であって、特に前記磁気アーマチャ（３）から形成された第１の当接端部（２８）と、特に前記弁要素（２５、２６）から形成された第２の当接端部（２９）との間に配置される流動絞り要素（２７）を備えた
   電磁弁（１）。
2. 請求項１に記載の電磁弁であって、
   前記弁要素（２５、２６）は、弁座（１１、１３）に付属された少なくとも１つの閉鎖要素（１２、１４）を有し、
   特に、前記弁要素（２５、２６）の中間部材（１７）が、前記磁気アーマチャ（３）と前記閉鎖要素（１２、１４）との間の作用結合を形成する
   電磁弁。
3. 請求項１または２に記載の電磁弁であって、
   前記弁要素（２５、２６）は、複数の閉鎖要素（１２、１４）を有し、
   前記閉鎖要素（１２、１４）の各々は、それぞれ１つの弁座（１１、１３）を開放または閉鎖するように設けられている
   電磁弁。
4. 請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記閉鎖要素（１２、１４）の一方は、前記電磁弁（１）の前段（９）に付属され、
   前記閉鎖要素（１２、１４）の他方は、前記電磁弁（１）の主段（１０）に付属されている
   電磁弁。
5. 請求項１ないし４のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記中間部材（１７）は、前記磁気アーマチャ（３）の少なくとも一部の領域を包囲する構成と、前記磁気アーマチャ（３）に固定されている構成と、のうちの少なくとも一方の構成を有する
   電磁弁。
6. 請求項１ないし５のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記流動絞り要素（２７）は、リング・ディスクとして形成されている
   電磁弁。
7. 請求項１ないし６のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記第１の当接端部（２８）が、前記磁気アーマチャ（３）のリング段（３０）から形成されている構成と、前記第２の当接端部（２９）が、中間部材（１７）の端面（３２）に存在する構成と、のうちの少なくとも一方の構成を有する
   電磁弁。
8. 請求項１ないし７のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記流動絞り要素（２７）は、該流動絞り要素（２７）の外壁と前記弁ハウジング（２）との間、および、前記流動絞り要素（２７）の内壁と前記磁気アーマチャ（３）との間、の少なくとも一方に流動通路（３３）を有する
   電磁弁。
9. 請求項１ないし８のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
   前記外壁と弁ハウジング（２）との間の間隔、前記内壁と磁気アーマチャ（３）との間の間隔、および、前記流動絞り要素（２７）の軸方向長さ、のうちの少なくとも１つは、前記流動絞り要素（２７）の所望される絞り作用に応じて選択される
   電磁弁。
10. 請求項１ないし９のいずれか一項に記載の電磁弁であって、
    前記第１および第２の当接端部（２８、２９）間の間隔が、前記電磁弁（１）のリフト、特に前記主段（１０）のリフトより小さいか、または、それに等しいこと、および、前記第１および第２の当接端部（２８、２９）間の間隔が、前記前段（９）のリフトより大きいか、または、それに等しいこと、とのうちの少なくとも一方を満たす
    電磁弁。

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