JP2013500228A - 飽和誘起吸収石英ガラス及び作製方法 - Google Patents
飽和誘起吸収石英ガラス及び作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013500228A JP2013500228A JP2012521804A JP2012521804A JP2013500228A JP 2013500228 A JP2013500228 A JP 2013500228A JP 2012521804 A JP2012521804 A JP 2012521804A JP 2012521804 A JP2012521804 A JP 2012521804A JP 2013500228 A JP2013500228 A JP 2013500228A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- glass article
- sih
- molecular hydrogen
- induced absorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0071—Compositions for glass with special properties for laserable glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0085—Compositions for glass with special properties for UV-transmitting glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/21—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/21—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/23—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
- C03C2203/52—Heat-treatment
- C03C2203/54—Heat-treatment in a dopant containing atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
Description
約250nmより短い波長を有する紫外光に露光されるとE'中心を形成する、複数のSi-O欠陥を有する石英ガラス品を提供する工程、
石英ガラス品内のSi-O欠陥のそれぞれにおいてSiHを形成することによって複数のSi-O欠陥の少なくとも一部を除去する工程、及び
石英ガラス品内のSiHの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する工程、
を含む。石英ガラス品は、約250nmより短い波長を有する紫外光に露光されると、約250nmより短い波長において飽和誘起吸収を示す。
石英ガラス品を提供する工程、
初めにSiHを形成するために第1の温度で石英ガラス品を分子水素処理する工程、
−第1の温度は少なくとも約475℃である、
及び
第1の温度における処理後、第2の温度で石英ガラス製品をさらに分子水素処理する工程、
−第2の温度は475℃より低い、
を含む。石英ガラス品は、約250nmより短い波長を有する紫外光に露光されると、約250nmより短い波長において飽和誘起吸収を示す。
石英ガラス品内の複数のSi-O欠陥の少なくとも一部を除去するためにSi-O欠陥のそれぞれにおいてSiHを形成する工程、及び
石英ガラス品が約250nmより短い波長を有する紫外光に露光されると石英ガラス品内におけるSi-Hの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する工程、
を含む。石英ガラス品は約250nmより短い波長において飽和誘起吸収を有する。
寸法が3cm×1.5cm×12cmであり、検出限界(重量で0.1ppm)以下であるOH濃度及び約5×1015O2分子/cm3と想定されるO2濃度を有する、石英ガラス試料を作製した。指針として、1,2または3次元の数値解析格子について水素濃度を時間の関数として計算するために有限差分法を用いる2次元拡散/反応モデルを用い、石英ガラスを、フォーミングガス(〜5%H2/N2)内700℃で70時間、高温分子水素処理した。高温処理により、ラマン分光法で決定すると、比較的平坦な水素濃度プロファイルが得られ、雰囲気H2の内の95%が試料の中央にあった。処理後のSiH濃度を計算すると約1×1014SiH種/cm3であった。高温処理後、350℃で52日間低温処理した。高温処理後及び低温処理後に測定した水素濃度及びSiH濃度を表1に挙げておく。低温処理は、ガラスのH2含有量は増大させたが、SiH含有量は増大させていない。表1に報告されるSiH濃度は、種/cm3ではなく、任意単位で表してある。
様々なH2処理条件下で作製した石英ガラス試料について、図1に誘導吸収を比較して示す。22mJ/cm2・パルスのフルーエンスを有するArFレーザの140パルス/秒で露光された、分で表される、時間の関数として、それぞれの試料についての215nmにおける誘起吸収(1/cm)をグラフにしてある。全てのガラスがOHをほぼ60ppm含有していた。H2で処理していない石英ガラス試料(図1の試料1)のIAは、露光量の増加にともない恒常的に大きくなる。800℃でH2処理した試料(図1の試料2)は、初めは急速であり、次いで概ね60分の(ほぼ0.5×106パルスに相当する)露光後に、実質的に平準すなわち一定になる、誘起吸収すなわち暗化率を示す。試料2は図1に示される他の石英ガラスに比較して大きな(約0.0600/cmの)IAを有する。続いて、試料2からとった2つのガラス試料を、低温(本明細書に説明されるように、<475℃)で、低温H2処理した。試料2aは第2の工程において、最終濃度が1×1017分子/cm3になるまで、350℃で低温処理した。試料2bは第2の工程において、最終濃度が2×1019分子/cm3になるまで、30気圧のH2下で350℃で低温処理した。試料2a及び2bはいずれも、試料2について見られた挙動と同じ飽和挙動を示したが、誘起吸収レベルはかなり低くなっている。高温処理を行わず、代わりに、30気圧のH2下で試料を350℃に加熱することにより低温分子水素処理した試料3は、本明細書に説明した方法(すなわち高温処理及び引き続く低温処理)を用いて処理した試料2a及び2bのいずれの誘起吸収より大きい、緩やかに大きくなるIAを示す。
Claims (10)
- 石英ガラス品を作製する方法において、前記石英ガラス品が飽和誘起吸収を有し、前記方法が、
a.石英ガラス品を提供する工程であって、前記石英ガラス品は、250nmより短い波長を有する紫外光に露光されるとE'中心を形成する複数のSi-O欠陥を有するものである工程、
b.前記石英ガラス品内の前記複数のSi-O欠陥のそれぞれにおいてSiHを形成することで前記複数のSi-O欠陥の少なくとも一部を除去するために分子水素を供給する工程、及び
c.前記石英ガラス内のSiHの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する工程であって、SiH光分解により生じるE'中心の誘起吸収は定常状態値に達して飽和し、22mJ/cm2・パルスのフルーエンスでの193nmレーザ光の200000パルスへの露光後の前記石英ガラス品の前記誘起吸収は0.01/cmより小さい、工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記Si-O欠陥においてSiHを形成する前記工程が第1の処理工程を含み、前記第1の処理工程が水素含有雰囲気内において475℃から1000℃までの範囲の第1の温度で前記石英ガラス品を加熱する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記石英ガラス品が、前記第1の処理工程後に、1×1014SiH種/cm3から2×1016SiH種/cm3までの範囲にあるSiH濃度を有することを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記石英ガラス品内のSiHの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する前記工程が第2の処理工程を含み、前記第2の処理工程が、水素含有雰囲気内において475℃より低く300℃以上の第2の温度で前記石英ガラス品内のH2濃度が1×1016H2分子/cm3から2×1018H2分子/cm3までの範囲になるまで前記石英ガラス製品を分子水素で処理する工程を含むことを特徴とする請求項1,2または3に記載の方法。
- 250nmより短い波長を有する紫外光に露光されるとE'中心を形成する複数のSi-O欠陥を有する石英ガラス品内の誘起吸収を飽和させる方法において、前記方法が、
a.前記石英ガラス品内の前記複数のSi-O欠陥の少なくとも一部を除去するために前記Si-O欠陥のそれぞれにおいてSiHを形成する工程、及び
b.250nmより短い波長を有する紫外光に前記石英ガラス品が露光されたときに前記石英ガラス品内の前記SiHの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する工程であって、前記石英ガラス品は250nmより短い波長において飽和誘起吸収を有するものである工程、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記複数のSi-O欠陥の少なくとも一部を除去するために前記Si-O欠陥のそれぞれにおいてSiHを形成する前記工程が第1の処理工程を含み、前記第1の処理工程が、水素含有雰囲気の存在の下で475℃から1000℃までの範囲の第1の温度で前記石英ガラス品を加熱する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記石英ガラス品内の前記SiHの光分解によって形成されるE'中心と反応させるために分子水素を供給する前記工程が第2の処理工程をさらに含み、前記第2の処理工程が、水素含有雰囲気の存在の下に475℃より低く300℃以上の第2の温度で前記石英ガラス製品を加熱することによって前記石英ガラス品に分子水素を導入する工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 前記飽和誘起吸収が、22mJ/cm2・パルスのフルーエンスでの193nmレーザ光の200000パルスへの露光後、0.01/cmより小さいことを特徴とする請求項5から7のいずれかに記載の方法。
- 石英ガラス品において、前記石英ガラス品が2×1016SiH種/cm3までのSiH濃度及び2×1018H2分子/cm3までの分子水素濃度を有し、前記石英ガラス品が、250nmより短い波長を有する紫外光に露光される場合、22mJ/cm2・パルスのフルーエンスでの193nmレーザ光の200000パルスへの露光後の前記石英ガラス品が0.01/cmより小さい飽和誘起吸収を有することを特徴とする石英ガラス品。
- 前記石英ガラス品が、初めにSiHを形成するために475℃から1000℃までの範囲の第1の温度において分子水素処理され、次いで475℃より低く300℃以上の第2の温度において分子水素処理されることを特徴とする請求項9に記載の石英ガラス品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/507,950 | 2009-07-23 | ||
US12/507,950 US8176752B2 (en) | 2009-07-23 | 2009-07-23 | Silica glass with saturated induced absorption and method of making |
PCT/US2010/043015 WO2011011662A2 (en) | 2009-07-23 | 2010-07-23 | Silica glass with saturated induced absorption and method of making |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013500228A true JP2013500228A (ja) | 2013-01-07 |
Family
ID=43334644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012521804A Pending JP2013500228A (ja) | 2009-07-23 | 2010-07-23 | 飽和誘起吸収石英ガラス及び作製方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8176752B2 (ja) |
EP (1) | EP2456726B1 (ja) |
JP (1) | JP2013500228A (ja) |
WO (1) | WO2011011662A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016531825A (ja) * | 2013-08-02 | 2016-10-13 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 溶融シリカから構成されたブランクに水素を添加する方法、レンズ素子および投影レンズ |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5336039B2 (ja) | 2006-07-21 | 2013-11-06 | ダイキン工業株式会社 | 二酸化炭素を冷媒として用いる冷凍装置における冷媒充填方法 |
DE102014212711A1 (de) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Plattenförmiges optisches Element, optischer Manipulator, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002053331A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-19 | Tosoh Corp | ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
JP2003176141A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学機器部品用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 |
JP2003183037A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-07-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学部材用石英ガラスブランクおよびその使用 |
JP2003246641A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-09-02 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学部材用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 |
JP2009190958A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 合成石英ガラス体及びその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2971686B2 (ja) | 1992-11-30 | 1999-11-08 | 信越石英株式会社 | 耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法 |
US6619073B2 (en) * | 1996-03-05 | 2003-09-16 | Corning Incorporated | Method of increasing the initial transmittance of optical glass |
US6403508B1 (en) | 2000-05-31 | 2002-06-11 | Corning Incorporated | Fused silica with constant induced absorption |
JP4104338B2 (ja) | 2002-01-31 | 2008-06-18 | 信越石英株式会社 | ArF露光装置用合成石英ガラス素材 |
DE102004017031B4 (de) * | 2004-04-02 | 2008-10-23 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Optisches Bauteil aus Quarzglas, Verfahren zur Herstellung des Bauteils und Verwendung desselben |
WO2006111185A1 (en) * | 2005-04-16 | 2006-10-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Method for connecting two elements and optical component |
US7928026B2 (en) | 2005-06-30 | 2011-04-19 | Corning Incorporated | Synthetic silica material with low fluence-dependent-transmission and method of making the same |
US7635658B2 (en) | 2005-11-07 | 2009-12-22 | Corning Inc | Deuteroxyl-doped silica glass, optical member and lithographic system comprising same and method of making same |
US8261578B2 (en) | 2007-10-31 | 2012-09-11 | Corning Incorporated | Hydrogen loading of near net shape optics |
-
2009
- 2009-07-23 US US12/507,950 patent/US8176752B2/en active Active
-
2010
- 2010-07-23 EP EP10736946.4A patent/EP2456726B1/en active Active
- 2010-07-23 JP JP2012521804A patent/JP2013500228A/ja active Pending
- 2010-07-23 WO PCT/US2010/043015 patent/WO2011011662A2/en active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002053331A (ja) * | 2000-08-07 | 2002-02-19 | Tosoh Corp | ArFエキシマレーザー用合成石英ガラス及びその製造方法並びにその用途 |
JP2003176141A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-24 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学機器部品用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 |
JP2003183037A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-07-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学部材用石英ガラスブランクおよびその使用 |
JP2003246641A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-09-02 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学部材用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 |
JP2009190958A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 合成石英ガラス体及びその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016531825A (ja) * | 2013-08-02 | 2016-10-13 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 溶融シリカから構成されたブランクに水素を添加する方法、レンズ素子および投影レンズ |
US10427965B2 (en) | 2013-08-02 | 2019-10-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for loading a blank composed of fused silica with hydrogen, lens element and projection lens |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110021339A1 (en) | 2011-01-27 |
EP2456726B1 (en) | 2020-11-11 |
US8176752B2 (en) | 2012-05-15 |
EP2456726A2 (en) | 2012-05-30 |
WO2011011662A2 (en) | 2011-01-27 |
WO2011011662A3 (en) | 2011-04-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102086673B1 (ko) | ArF 엑시머 레이저 리소그래피에서의 사용을 위한 석영 유리로 만들어진 광학 컴포넌트 및 그 컴포넌트를 제조하는 방법 | |
JP4874700B2 (ja) | 石英ガラスの光学部材、この光学部材の製造方法そしてそれの利用 | |
EP2118026B1 (en) | Optical component made from synthetic quartz glass with enhanced radiation resistance, and method for producing the component | |
US7980098B2 (en) | Method for producing an optical component of synthetic quartz glass with enhanced radiation resistance, and blank for producing the component | |
JPH04195101A (ja) | 欠陥濃度低減方法、紫外線透過用光学ガラスの製造方法及び紫外線透過用光学ガラス | |
WO2006071936A2 (en) | High refractive index homogeneity fused silica glass and method of making same | |
KR20060045422A (ko) | 석영유리의 광소자, 광소자의 제조방법 및 그 용도 | |
TW583150B (en) | Quartz glass blank for an optical component, and manufacturing procedure and use thereof | |
JP2003246641A (ja) | 光学部材用石英ガラスブランク、その製造方法及びその使用 | |
JP4778138B2 (ja) | 光学部品のための石英ガラス体およびその製造法 | |
TW201038497A (en) | Method of producing synthetic quartz glass for excimer laser | |
JP2013500228A (ja) | 飽和誘起吸収石英ガラス及び作製方法 | |
JP2007084427A (ja) | 溶融シリカガラスおよびその製造方法 | |
JP4193358B2 (ja) | 合成石英ガラス光学部材およびその製造方法 | |
JP4493060B2 (ja) | エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法 | |
JP4437886B2 (ja) | 光学部材用石英ガラスブランクおよびその使用 | |
JP2002524382A (ja) | 石英ガラス製光学部材及びその製法 | |
JP3368932B2 (ja) | 透明石英ガラスとその製造方法 | |
JP2835540B2 (ja) | エキシマレーザー用石英ガラス部材の製造方法 | |
JP2009057274A (ja) | 重水素を充填した溶融シリカ物品及びその製造方法 | |
JP2004345902A (ja) | 石英ガラスの製造方法、石英ガラス、光学部品及び光ファイバ | |
JP2005001932A (ja) | 石英ガラス及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141118 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150218 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150318 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150420 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150518 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150915 |