JP2013252361A - 調理器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】装置として、セラミック製の鍋と、該セラミック製の鍋を加熱する加熱手段と、該加熱手段の加熱状態を調理すべき調理メニューに応じて制御する加熱制御手段とを備えるとともに、制御工程として、調理開始後、上記鍋を沸騰するまで加熱する昇温工程と、沸騰後、所定時間内沸騰状態を維持する沸騰維持工程と、沸騰維持工程終了後、上記鍋を調理メニューに応じて所定の温度に制御する温調工程とを備えてなる調理器であって、上記温調工程は、上記沸騰温度よりも低い第1の温調温度で内鍋を加熱制御する第1の温調工程と、該第1の温調工程の第1の温調温度よりも低い第2の温調温度で内鍋を加熱する第2の温調工程よりなっており、段階的に温度を下げながら温調制御し得るようにした。
【選択図】 図6
Description
この発明の調理器は、装置として、セラミック製の鍋と、該セラミック製の鍋を加熱する加熱手段と、該加熱手段の加熱状態を調理すべき調理メニューに応じて制御する加熱制御手段とを備えるとともに、制御工程として、調理開始後、上記鍋を沸騰するまで加熱する昇温工程と、沸騰後、所定時間内沸騰状態を維持する沸騰維持工程と、沸騰維持工程終了後、上記鍋を調理メニューに応じて所定の温度に制御する温調工程とを備えてなる調理器であって、上記温調工程は、上記沸騰温度よりも低い第1の温調温度で内鍋を加熱制御する第1の温調工程と、該第1の温調工程の第1の温調温度よりも低い第2の温調温度で内鍋を加熱する第2の温調工程よりなることを特徴としている。
この発明の調理器は、上記請求項1記載の発明の構成において、第1,第2の温調工程における第1,第2の温調温度は、当該調理器周囲の周囲環境温度に応じて補正されるようになっていることを特徴としている。
この発明の調理器は、上記請求項2記載の発明の構成において、第1,第2の温調温度の補正は、所定の補正式により周囲環境温度が高い場合には高く、周囲環境温度が低い場合には低く補正されるようになっていることを特徴としている。
この発明の調理器は、上記請求項2又は3記載の発明の構成において、周囲環境温度は、調理開始時、加熱手段を作動させる前に検知するようになっていることを特徴としている。
この調理器1は、例えば図1に示すように、例えば内鍋(飯器ないし保温容器)3として非金属材料からなる蓄熱性の高い鍋(例えば、セラミック製の土鍋)が一例として採用されており、その底壁部3aの底部中央面(フラット面部)および該底壁部3a外周の湾曲面部(R面部)には、それぞれ内部に誘起されるうず電流によって自己発熱が可能な例えば銀ペースト等の金属製の第1,第2の誘導発熱体G1,G2が設けられている。
さらに図1中の符号2は上記蓋ユニットであり、該蓋ユニット2は、その外周面を構成するとともに中央部に調圧ユニット14を備えた合成樹脂製の外カバー2aと、該外カバー2aの外周部内側に嵌合一体化して設けられた合成樹脂製の内枠2bと、該内枠2bの内側開口部内に嵌合された金属製の放熱板2cと、放熱板2cの上面に設けられた蓋ヒータH2と、上記放熱板2cの下方に設けられた金属製の内蓋2dとを備えて構成されている。また、放熱板2cの外周縁部下方および内蓋2dの外周縁部下方には、それぞれパッキン19a,19bが設けられており、内蓋2dは、同パッキン19bを介して内鍋3の開口縁部3cの上面部に接触させられている。また、14dは、上記外カバー2aの調圧口2eに嵌合された調圧パイプ14a内の調圧弁(球体)、14cはその下部側の弁口部を有する弁座プレート、14bは調圧パイプ14aの下方側に拡大された開口部に嵌合された調圧キャップである。
次に図3は、上述のように構成された炊飯器本体側の調理および保温加熱制御、液晶表示部21の表示制御、その他の制御を行うマイコン制御ユニット32を中心とする制御回路部分の構成を示す。
次に図4のフローチャート、図5のタイムチャートは、それぞれスープメニューの場合の調理シーケンスを示している。
次に図6のフローチャート、図7のタイムチャートは、それぞれ煮込メニューの場合の調理シーケンスを示している。
上述のように、土鍋等セラミック製の鍋は熱伝導性が悪く、一度温まると冷めにくいため、煮込み等の調理に適しているが、他方内容物の温度が鍋の外面に伝わり難いため、鍋外面の温度を検知して内容物の温度を的確に判断することができない問題がある。
先ず図8のフローチャート、図9のタイムチャートは、それぞれスープメニューの場合の環境温度を考慮した調理シーケンスを示している。
次に図10のフローチャート、図11のタイムチャートは、それぞれ煮込メニューの場合の周囲環境温度を考慮した調理シーケンスを示している。
Claims (4)
- 装置として、セラミック製の鍋と、該セラミック製の鍋を加熱する加熱手段と、該加熱手段の加熱状態を調理すべき調理メニューに応じて制御する加熱制御手段とを備えるとともに、制御工程として、調理開始後、上記鍋を沸騰するまで加熱する昇温工程と、沸騰後、所定時間内沸騰状態を維持する沸騰維持工程と、沸騰維持工程終了後、上記鍋を調理メニューに応じて所定の温度に制御する温調工程とを備えてなる調理器であって、上記温調工程は、上記沸騰温度よりも低い第1の温調温度で内鍋を加熱制御する第1の温調工程と、該第1の温調工程の第1の温調温度よりも低い第2の温調温度で内鍋を加熱する第2の温調工程よりなることを特徴とする調理器。
- 第1,第2の温調工程における第1,第2の温調温度は、当該調理器周囲の周囲環境温度に応じて補正されるようになっていることを特徴とする請求項1記載の調理器。
- 第1,第2の温調温度の補正は、所定の補正式により周囲環境温度が高い場合には高く、周囲環境温度が低い場合には低く補正されるようになっていることを特徴とする請求項2記載の調理器。
- 周囲環境温度は、調理開始時、加熱手段を作動させる前に検知するようになっていることを特徴とする請求項2又は3記載の調理器。
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