JP2013249538A - 蒸発材料を用いてコーティングするための装置及び方法 - Google Patents
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 119
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 116
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 11
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims abstract description 46
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 46
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 52
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 49
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 27
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 abstract description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 5
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000007431 microscopic evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4485—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation without using carrier gas in contact with the source material
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/2853—Shadowing samples
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Abstract
【解決手段】少なくとも1つの試料103を配置するための試料テーブル100と、電流源に接続された、フィラメント状の蒸発材料102のための蒸発源101と、蒸着された材料層厚を測定するための水晶振動子105と、該水晶振動子に付設された評価装置とを含む、真空チャンバ内で試料に材料層を蒸着するための装置において、前記蒸発源101には、制御電子装置が付設されており、該制御電子装置は、前記電流源により提供され且つ1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスの形式の電流を、前記蒸発源101に供給するように構成されており、そして評価装置が、1つの電流パルスの終了直後の前記水晶振動子105の過渡的な減衰特性を、各電流パルス後に蒸着された材料層厚を導き出すために考慮するように構成する。
【選択図】図1
Description
本出願は、2012年6月4日出願のオーストリア特許出願第 A50219/2012 号の優先権主張に基づくものであり、同出願の全記載内容は、引用をもって本明細書に組み込み記載されているものとする。
本発明の第2の視点により、真空チャンバ内で少なくとも1つの試料に材料層を蒸着するための方法が提供される。該方法は、以下のステップ、即ち、
− 電流を用いた加熱によりフィラメント状の蒸発材料の少なくとも一部分を蒸発させるステップ、但し該電流は、前記フィラメント状の蒸発材料に対し、1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスとして供給され、これらの電流パルスは、前記フィラメント状の蒸発材料が断裂しないように選択されていること、
− 1つの電流パルスの終了直後の水晶振動子の過渡的な減衰特性を考慮し、水晶振動子を用い、1つの電流パルスの後に蒸着された材料層厚を測定するステップ
を含む。
尚、本願の特許請求の範囲に付記されている図面参照符号は、専ら本発明の理解の容易化のためのものであり、本発明を後続段落で説明する具体的な実施例、特に図示の態様に限定するものではないことを付言する。
(形態1)少なくとも1つの試料を配置するための試料テーブルと、電流源に接続された、フィラメント状(ファイバ状)の蒸発材料のための蒸発源と、蒸着された材料層厚を測定するための水晶振動子と、該水晶振動子に付設された評価装置とを含む、真空チャンバ内で試料に材料層を蒸着するための装置であって、前記蒸発源には、制御電子装置が付設されており、該制御電子装置は、前記電流源により提供され且つ1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスの形式の電流を、前記蒸発源に供給するように構成されており、そして評価装置が、1つの電流パルスの終了直後の前記水晶振動子の過渡的な減衰特性を、各電流パルス後に蒸着された材料層厚を導き出すために考慮するように構成されている。
(形態2)前記蒸発源のポジションに対して少なくとも1つの試料を位置決めするための前記試料テーブルは、電動式で可動の交換テーブルとして構成されていることが好ましい。
(形態3)前記試料テーブルは、回転軸線の周りで回転可能な回転ディスクを含み、少なくとも2つの試料が、好ましくは互いに同じ角度でずらされて、前記回転可能な回転ディスク上に配置されていることが好ましい。
(形態4)前記水晶振動子は、前記回転ディスクの中央に配設されていることが好ましい。
(形態5)前記蒸発源は、前記フィラメント状の蒸発材料のために、少なくとも2つの電気的な通電端子部材を有する保持器を含むことが好ましい。
(形態6)前記フィラメント状の蒸発材料用の前記保持器は、少なくとも3つ、好ましくは少なくとも5つの電気的な通電端子部材を含むことが好ましい。
(形態7)前記少なくとも1つの試料の少なくとも1つは、前記蒸発源から30mm〜100mmの間隔をおいて配置されていることが好ましい。
(形態8)前記フィラメント状(ファイバ状)の蒸発材料は、カーボンフィラメント(カーボンファイバ)であることが好ましい。
(形態9)真空チャンバ内で少なくとも1つの試料に材料層を蒸着(析着)するための方法であって、以下のステップ、即ち、
− 電流を用いた加熱によりフィラメント状の蒸発材料の少なくとも一部分を蒸発させるステップ、但し該電流は、前記フィラメント状の蒸発材料に対し、1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスとして供給され、これらの電流パルスは、前記フィラメント状の蒸発材料が断裂しないように選択されていること、
− 1つの電流パルスの終了直後の水晶振動子の過渡的な減衰特性を考慮し、水晶振動子を用い、1つの電流パルスの後に蒸着された材料層厚を測定するステップ
を含むこと。
(形態10)前記材料層厚の測定は、各電流パルスの終了直後に行なわれることが好ましい。
(形態11)前記材料層厚の測定前に、基本レベルへの前記水晶振動子の信号の減衰が待たれることが好ましい。
(形態12)前記材料層厚は、材料層の蒸着前の水晶振動子信号の基本レベルと、材料層の蒸着後の水晶振動子信号の基本レベルとの間の差から検出されることが好ましい。
(形態13)前記材料層厚の測定は、以下のステップ、即ち、
− 時間に依存した前記水晶振動子の周波数の経過を測定するステップ、
− この経過に対し、少なくとも1つのパラメータを用いてパラメータ化されているパラメータ化された関数を適合するステップ、及び、
− 前記少なくとも1つのパラメータから材料層厚を導き出すステップ
を含むことが好ましい。
(形態14)前記フィラメント状の蒸発材料は、カーボンフィラメントであることが好ましい。
(形態15)1つの電流パルスのパルス長は、20ms〜1sであり、好ましくは50ms〜500msの値をとることが好ましい。
(形態16)1つの電流パルスの電流の強さは、6A〜50Aの値をとることが好ましい。
(形態17)蒸着幾何学的配置により決定された層の不均一性が、蒸発すべき前記フィラメント状の蒸発材料に対する試料のポジションに対し、少なくとも1つの試料の位置決め状態を変更することにより補償されることが好ましい。
(形態18)2つ以上の試料が同時に処理されることが好ましい。
(形態19)前記試料の位置決め状態の変更は、連続する2つの電流パルスの間に行なわれることが好ましい。
(形態20)形態1〜8のいずれか一つに記載の装置を用いて実行される、形態9〜19のいずれか一つに記載の方法。
− 電流を用いた加熱によりフィラメント状の蒸発材料の少なくとも一部分(一区分 ein Abschnitt)を蒸発させるステップ、但し該電流は、フィラメント状の蒸発材料に対し、1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスとして供給され、これらの電流パルスは、フィラメント状の蒸発材料が断裂しないように選択されていること、
− 1つの電流パルスの終了直後の水晶振動子の過渡的な減衰特性を考慮し、水晶振動子を用い、1つの電流パルスの後に蒸着された材料層厚を測定するステップ
により特徴付けられている。
− 時間に依存した水晶振動子の周波数の経過を測定するステップ、
− この経過に対し、少なくとも1つのパラメータを用いてパラメータ化されているパラメータ化された関数を適合するステップ、及び、
− 前記少なくとも1つのパラメータから材料層厚を導き出すステップ。
− 試料テーブル(図1の試料テーブル100を参照)ないし所望の試料テーブルセグメントに試料を好ましくは均等に分配し、配置する。
− 蒸発源にカーボンフィラメントを張設して取り付ける(図1に図示されたように少なくとも1つのフィラメント部分、又は図2に図示されたように、例えば4つまでの、複数のフィラメント部分)。
− カーボンフィラメント蒸着の制御が、パルスモードに設定される。
− 利用者入力:
○ 所望の層厚
○ 試料高さの修正
○ テーブルセグメントの選択(全テーブル、180°のセグメント、90°のセグメント、回転なし)
− 真空チャンバを閉じ、真空ポンプのスタートにより、所望の真空状態が得られるまで真空排気する。
− 抵抗の測定により、取り付けられたフィラメントポジションとフィラメントタイプを自動的に決定し、それにより更なるプロセスパラメータが確定される。
− シャッタを閉じる。
− 400〜900℃への加熱によりフィラメント部分を洗浄する(それ自体既知のように、測定された抵抗に応じ、表からの設定値に従う)。
− シャッタを開く。
− 短い電流パルスによりカーボンフィラメント部分を蒸発させる。
○ フィラメントタイプに応じた電圧 12〜30V
○ パルス長 50〜500nm
○ 各電流パルス後に、蒸着された層厚の測定が、水晶センサ(例えば、好ましくはAT配向の慣例慣用の水晶振動子)を用い、上述のように水晶振動子の過渡的な減衰特性を考慮して実行される。
○ 全ての試料への均一(均等)な蒸着を保証するために、予め定められた配向ポジションへ試料テーブルを回転させる。例えば、
・ テーブル全体の選択時:40°の角度間隔をもった9つのポジションが、現在(実際)のフィラメント部分の蒸発を電流が検知させる(までの)間は、1−4−7−2−5−8−3−6−9の順番で周期的に進行する。
・ テーブルセグメントの選択時:対応してより少なく或いはより狭く並んでいるポジション;選択は常に、選択されたセグメントへの蒸着が各時点においてできるだけ補償(均一化)されているように行なわれる。
・ 現在のフィラメント部分の抵抗が更なる蒸発をもはや許さない場合には、次のフィラメント部分への変更(交換)が行なわれる。現在と次の両方のフィラメントの幾何学的配置のずれを修正するためにテーブルを調整し直す。その後、求められる層厚と層均一性が達成されるまで蒸発工程が続けられる。
・ 厚さ測定(複数)から、有効な均一分布の層厚を計算により検出し、所望の層厚の達成時にプロセスを終了する。
− オプションとして:所望であれば、プロセスの終了時にチャンバの自動換気を行なう。
101 蒸発源
102 蒸発材料/カーボンフィラメント(カーボンファイバ)
103a〜d 試料(プレパラート)
104a、b 通電端子部材(通電リード端子 Durchfuehrung)
105 水晶振動子(水晶発振器)
106 回転ディスク
107 軸受部
108 軸部材
109 モータ
110 駆動ギア装置
111 真空チャンバ
112 制御電子装置
113 評価装置
L 回転軸線
201 蒸発源
202 蒸発材料/カーボンフィラメント(カーボンファイバ)
204a〜e 通電端子部材(通電リード端子 Durchfuehrung)
Claims (20)
- 少なくとも1つの試料(103a、103b、103c、103d)を配置するための試料テーブル(100)と、電流源に接続された、フィラメント状の蒸発材料(102、202)のための蒸発源(101、201)と、蒸着された材料層厚を測定するための水晶振動子(105)と、該水晶振動子に付設された評価装置(113)とを含む、真空チャンバ内で試料に材料層を蒸着するための装置であって、
前記蒸発源(101、201)には、制御電子装置(112)が付設されており、該制御電子装置は、前記電流源により提供され且つ1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスの形式の電流を、前記蒸発源(101、201)に供給するように構成されており、そして評価装置(113)が、1つの電流パルスの終了直後の前記水晶振動子(105)の過渡的な減衰特性を、各電流パルス後に蒸着された材料層厚を導き出すために考慮するように構成されていること
を特徴とする装置。 - 前記蒸発源(101、201)のポジションに対して少なくとも1つの試料を位置決めするための前記試料テーブル(100)は、電動式で可動の交換テーブルとして構成されていること
を特徴とする、請求項1に記載の装置。 - 前記試料テーブル(100)は、回転軸線(L)の周りで回転可能な回転ディスク(106)を含み、少なくとも2つの試料(103a、103b、103c、103d)が、前記回転可能な回転ディスク(106)上に配置されていること
を特徴とする、請求項2に記載の装置。 - 前記水晶振動子(105)は、前記回転ディスク(106)の中央に配設されていること
を特徴とする、請求項3に記載の装置。 - 前記蒸発源(101、201)は、前記フィラメント状の蒸発材料(102、202)のために、少なくとも2つの電気的な通電端子部材(104a、104b;204a、204b、204c、204d、204e)を有する保持器を含むこと
を特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の装置。 - 前記フィラメント状の蒸発材料用の前記保持器は、少なくとも3つの電気的な通電端子部材(204a、204b、204c、204d、204e)を含むこと
を特徴とする、請求項5に記載の装置。 - 前記少なくとも1つの試料の少なくとも1つは、前記蒸発源から30mm〜100mmの間隔をおいて配置されていること
を特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の装置。 - 前記フィラメント状の蒸発材料は、カーボンフィラメントであること
を特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置。 - 真空チャンバ内で少なくとも1つの試料に材料層を蒸着するための方法であって、
以下のステップ、即ち、
− 電流を用いた加熱によりフィラメント状の蒸発材料の少なくとも一部分を蒸発させるステップ、但し該電流は、前記フィラメント状の蒸発材料に対し、1s以下のパルス長の少なくとも2つの電流パルスとして供給され、これらの電流パルスは、前記フィラメント状の蒸発材料が断裂しないように選択されていること、
− 1つの電流パルスの終了直後の水晶振動子の過渡的な減衰特性を考慮し、水晶振動子を用い、1つの電流パルスの後に蒸着された材料層厚を測定するステップ、
を含むこと
を特徴とする方法。 - 前記材料層厚の測定は、各電流パルスの終了直後に行なわれること
を特徴とする、請求項9に記載の方法。 - 前記材料層厚の測定前に、基本レベルへの前記水晶振動子の信号の減衰が待たれること
を特徴とする、請求項9又は10に記載の方法。 - 前記材料層厚は、材料層の蒸着前の水晶振動子信号の基本レベルと、材料層の蒸着後の水晶振動子信号の基本レベルとの間の差から検出されること
を特徴とする、請求項11に記載の方法。 - 前記材料層厚の測定は、以下のステップ、即ち、
− 時間に依存した前記水晶振動子の周波数の経過を測定するステップ、
− この経過に対し、少なくとも1つのパラメータを用いてパラメータ化されているパラメータ化された関数を適合するステップ、及び、
− 前記少なくとも1つのパラメータから材料層厚を導き出すステップ、
を含むこと
を特徴とする、請求項9又は10に記載の方法。 - 前記フィラメント状の蒸発材料は、カーボンフィラメントであること
を特徴とする、請求項9〜13のいずれか一項に記載の方法。 - 1つの電流パルスのパルス長は、20ms〜1sの値をとること
を特徴とする、請求項9〜14のいずれか一項に記載の方法。 - 1つの電流パルスの電流の強さは、6A〜50Aの値をとること
を特徴とする、請求項9〜15のいずれか一項に記載の方法。 - 蒸着幾何学的配置により決定された層の不均一性が、蒸発すべき前記フィラメント状の蒸発材料に対する試料のポジションに対し、少なくとも1つの試料の位置決め状態を変更することにより補償されること
を特徴とする、請求項9〜16のいずれか一項に記載の方法。 - 2つ以上の試料が同時に処理されること
を特徴とする、請求項17に記載の方法。 - 前記試料の位置決め状態の変更は、連続する2つの電流パルスの間に行なわれること
を特徴とする、請求項17又は18に記載の方法。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置を用いて実行されること
を特徴とする、請求項9〜19のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ATA50219/2012A AT512949B1 (de) | 2012-06-04 | 2012-06-04 | Verfahren zur Beschichtung mit einem Verdampfungsmaterial |
ATA50219/2012 | 2012-06-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013249538A true JP2013249538A (ja) | 2013-12-12 |
JP6267442B2 JP6267442B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=49579576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013116612A Active JP6267442B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-06-03 | 蒸発材料を用いてコーティングするための装置及び方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130323407A1 (ja) |
JP (1) | JP6267442B2 (ja) |
KR (1) | KR20130136385A (ja) |
AT (1) | AT512949B1 (ja) |
DE (1) | DE102013009203B4 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2017053713A (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | トヨタ自動車株式会社 | ガス検出装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3091561B1 (en) | 2015-05-06 | 2019-09-04 | safematic GmbH | Sputter unit |
EP3091101B1 (en) | 2015-05-06 | 2018-10-17 | safematic GmbH | Coating unit |
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-
2012
- 2012-06-04 AT ATA50219/2012A patent/AT512949B1/de active
-
2013
- 2013-05-27 KR KR1020130059515A patent/KR20130136385A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-05-31 US US13/906,469 patent/US20130323407A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-03 DE DE102013009203.5A patent/DE102013009203B4/de active Active
- 2013-06-03 JP JP2013116612A patent/JP6267442B2/ja active Active
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Also Published As
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---|---|
JP6267442B2 (ja) | 2018-01-24 |
DE102013009203A1 (de) | 2013-12-05 |
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KR20130136385A (ko) | 2013-12-12 |
DE102013009203B4 (de) | 2021-01-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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