JP2013239672A - ファイバレーザ発振器 - Google Patents

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【課題】励起光源に逆流して入射する戻り光を全励起光源に分配し、各半導体レーザモジュール当たりの入射戻り光を下げて、励起光源の破損を防止できるファイバレーザ発振器を提供することを目的とする。
【解決手段】高反射FBG13とカプラ12の接続部に、カプラ12に向かって漸減するコア径をもつファイバを備えている。この構成により戻り光はコアから漏洩し、カプラにより均等に分配されて特定の励起光源に集中して入射すことがなくなり、破損を抑制することとなる。
【選択図】図1

Description

本発明はファイバレーザ発振器に関し、特に、戻り光による励起光源破損抑制の技術に関するものである。
近年、ファイバレーザ発振器は高出力化し、材料加工に用いられている。被加工材の中にはレーザ光を反射する材料もあり、加工時に生じる反射光がファイバレーザ発振器に戻り、戻り光となってファイバレーザ発振器の励起光源を破損することがある。
更に、この高出力化に伴い、ファイバレーザ発振器内で発生する自然放出光によるASE(Amplified Spontaneous Emission)光も高出力化しており、このASE光も、戻り光として励起光源を破損する可能性がある。これらを防ぐ策が求められている。
従来技術のファイバレーザ発振器としては、アイソレータを具備しているものがある(例えば、特許文献1を参照)。
図4は上記従来技術に係るファイバレーザ発振器の概念構成図を示している。本図において、半導体レーザモジュール101を励起光光源とし、カプラ102は励起光注入手段である(カプラに関しては、例えば、特許文献2、3参照)。
レーザファイバ105はレーザ媒質をドープした希土類添加ダブルクラッドファイバで、高反射FBG(ファイバ・ブラッグ・グレーティング、Fiber Bragg Grating)103、低反射FBG104、と共に光共振器を形成する。レーザ光が出射する出力端には、アイソレータ106を備える。
以上のように構成されたファイバレーザ発振器について、その動作を説明する。半導体レーザモジュール101の出射する励起光は、カプラ102を介しレーザファイバ105に入射し、レーザファイバ105中の励起媒質を励起する。この励起により発生する光は、レーザファイバ105の両端に設ける高反射FBG103と低反射FBG104で形成する光共振器内で多重帰還増幅され、レーザ光として、アイソレータ106を通り出射し、加工に用いられる。
特開2007−042981号公報 米国特許第4763975号明細書 特表2007―506119号公報
しかし、従来のファイバレーザ発振器は、高反射FBG103のコアからカプラ102を介して半導体レーザモジュール101向かって逆流する戻り光を、カプラ102で均等に分配できず、戻り光の大部分が偏って、特定の(通常は、カプラ中央に接続している)半導体レーザモジュール101に入射し、特定の半導体レーザモジュール101を破損するという課題があった。
本発明は、励起光源に逆流して入射する戻り光を全励起光源に分配し、各半導体レーザモジュール当たりの入射戻り光を下げて、励起光源の破損を防止できるファイバレーザ発振器を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のファイバレーザ発振器は、カプラに向かって漸減するコア径をもつ高反射FBGを備えている。そして、この構成により戻り光はコアから漏洩し、カプラにより均等に分配されて特定の励起光源に集中して入射すことがなくなり、破損を抑制することとなる。
以上のように、本発明は、カプラに向かって漸減するコア径をもつ高反射FBGを備えることにより励起光源破損を抑制することができる。
本発明の実施の形態1における概念図 本発明の実施の形態2における製作前の概念図 本発明の実施の形態2における製作後の概念図 従来のファイバレーザ発振器の概念図
(実施の形態1)
図1は、本実施の形態1におけるファイバレーザ全体の構成を示す概念図である。以下、図1を用いて構成を説明する。
半導体レーザモジュール11は励起光光源であり、励起光波長940ナノメートルのレーザ光を出力する。
カプラ12は励起光注入手段であり、7本で構成し、各ファイバは合成石英のコア径φ105マイクロメートル、フッ素をドープした合成石英のクラッド径φ125マイクロメートルのシングルクラッド構造のファイバを稠密に束ねて一体化縮小したカプラ入力側と、1本の合成石英であるコア径φ200マイクロメートル、樹脂のクラッド径φ250マイクロメートルのシングルクラッド構造ファイバのカプラ出力側を融着接続して成る。前記カプラ入力側ファイバの各1本は、前記各1個の半導体レーザモジュール11に接続している。
レーザファイバ15はそのコアにレーザ媒質であるイッテルビウムをドープした希土類添加合成石英コア径φ7マイクロメートル、合成石英であるインナークラッド径φ200マイクロメートル、樹脂のアウタークラッド径φ250マイクロメートルのダブルクラッドファイバ構造である。
シングルモードのレーザ光波長1090ナノメートルを99.9%反射する高反射FBG13は、ゲルマニウムをドープした合成石英のコア径φ7マイクロメートル、合成石英のインナークラッド径φ200マイクロメートル、樹脂のアウタークラッド径φ250マイクロメートルのダブルクラッドファイバのコアに、そのコアの周期的な屈折率の差として描きこまれている。
同様に、シングルモードのレーザ光波長1090ナノメートルを7%反射する低反射FBG(Fiber Bragg Grating)14は、ゲルマニウムをドープした合成石英のコア径φ7マイクロメートル、合成石英のインナークラッド径φ200マイクロメートル、樹脂アウタークラッド径φ250マイクロメートルのダブルクラッドファイバのコアに、そのコアの周期的な屈折率の差として描きこまれている。
そして、前記レーザファイバ15の両端に、前記高反射FBG13の一端と、低反射FBG14の一端を融着接続し、光共振器を形成している。低反射FBG14の他端からは、低反射FBG14を描きこむファイバのインナークラッドに残存する前記励起光波長、および、前記レーザ光波長の光を、低反射FBG14を描きこむファイバ外に漏洩させるクラッドモード除去装置18を介して、レーザ光を出射する。
戻り光分散器19は、その中央部がくびれているキャピラリ(細管)51から成る。くびれ部製作前の前記キャピラリ51の形状は、長さ50ミリメートル、内径φ400マイクロメートル、外径φ800マイクロメートルであり、その材質は、前記高反射FBG13を描きこんだファイバのインナークラッド、および、前記カプラ出力側ファイバのコアと同じ屈折率を持つ合成石英である。くびれ部製作後の、そのくびれ部の形状は、長さ15ミリメートル、内径φ100マイクロメートル、外径φ200マイクロメートルである。
そして、前記高反射FBG13を描きこんだファイバの他端と前記カプラ出力側ファイバはテーパ形状で融着接続しており、その外周を、キャピラリ51の前記テーパ部が覆っている。前記高反射FBG13を描きこんだファイバのインナークラッドと、前記カプラ出力側ファイバのコアは共にφ100マイクロメートルまでテーパ化しており、前記テーパ部の外周は、前記キャピラリ51くびれ部の内壁と溶融一体化している。
このとき、前記高反射FBG13を描きこんだファイバのテーパ部におけるそのコア径はφ3.5マイクロメートルとなる。さらに、キャピラリ51は、その周囲を、前記合成石英の屈折率より低い屈折率をもつ図示略の樹脂によって覆われている。
以上のように構成されたファイバレーザ発振器装置について、その動作を説明する。
被加工物からの反射光の一部は、戻り光としてファイバレーザ発振器装置に入射し、ファイバを逆流する。その大部分は前記クラッドモード除去装置18で取り除かれるが、一部は低反射FBG14、あるいは、レーザファイバ15、あるいは、高反射FBG13のコアに入る。
このコアに閉じ込められた戻り光は、前記光共振器で増幅され、前記戻り光の一部、あるいは、前記戻り光のマルチモード成分が高反射FBG13で反射されず、戻り光分散器19に入射する。
前記戻り光は、戻り光分散器19のくびれ部の高反射FBG13を描きこんだファイバのテーパ部のコア内を伝送しようとするが、そのコア径はφ3.5マイクロメートルであり、前記戻り光波長1090ナノメートルの光に対して閉じ込めが弱く、前記戻り光をコアから漏洩する。
前記漏洩した戻り光は、戻り光分散器19のくびれ部に充満して伝播し、カプラ12の7本の入力側ファイバに均等に分配されて、半導体レーザモジュール11に入射する。
なお、カプラ12出力側のファイバはシングルクラッド構造としたが、ダブルクラッド構造であってもよい。また、本実施の形態では、キャピラリ51のくびれ部を、カプラ12出力側のファイバと高反射FBG13との接続部に設けたが、光共振器外の高反射FBG13を描きこんだファイバに設けても良い。
以上のように、光共振器外のカプラ側の高反射FBGのコア径を漸減することにより戻り光を均等に分配して励起光源に入射させ、破損を抑制することができる。
また、光共振器外のカプラ側の高反射FBGのコア径を漸減することにより、カプラ出力側ファイバコアと高反射FBGコアとの屈折率差に起因するフレネル反射率は不変であるが、反射量が小さくなり、出力の不安定性抑制や、寄生発振抑制の効果がある。
(実施の形態2)
本実施の形態において実施の形態1と同様の構成については同一の番号を付して詳細な説明を省略する。図2に、本実施の形態2製作前の概念図、図3に、本実施の形態2製作後の概念図を示す。
図2、および、図3において、コア22、クラッド32は、おのおの、実施の形態1記載のカプラ出力側ファイバの、径φ200マイクロメートルの合成石英のコア、径φ250マイクロメートルの樹脂のクラッドである。
また、コア23、インナークラッド33、アウタークラッド43は、おのおの、実施の形態1記載の高反射FBG13を描きこんでいるファイバの、径φ7マイクロメートルの、ゲルマニウムをドープした合成石英のコア、径φ200マイクロメートルの合成石英のインナークラッド、径φ250マイクロメートルの樹脂のアウタークラッドである。キャピラリ51は、合成石英の細管であり、形状は、長さ50ミリメートル、内径φ400マイクロメートル、外径φ800マイクロメートルである。実施の形態1と異なるのは、各ファイバの断面を記述した点である。
以上のように構成された戻り光分散器19について、その製造方法を説明する。
先ず、実施の形態1記載の高反射FBG13を描きこんでいるファイバにキャピラリ51を通し、キャピラリ51を融着部から離した状態で、実施の形態1記載のカプラ出力側ファイバと融着接続する。
その後、キャピラリ51を融着部に移動する。キャピラリ51の両端を把持し、融着機に装着する。このとき、キャピラリ51内の前記融着部は、径φ200マイクロメートルであり、前記両ファイバの最外径はともにφ250マイクロメートルであるので、キャピラリ51内径φ400マイクロメートルより十分細く、融着した前記ファイバを移動させることが出来る。
その後、前記融着機を用いて延伸する。延伸は、キャピラリ51の中央部に前記融着部を内包したまま、キャピラリ51くびれ部外径がφ200マイクロメータ、くびれ部長が15ミリメートルになるまで行う。
この延伸により、キャピラリ51くびれ部外径はφ200マイクロメートル、内径はφ100マイクロメートルとなり、前記融着部の両ファイバの外径もφ100マイクロメートルに縮小され、実施の形態1記載のカプラ出力側ファイバのコアと、実施の形態1記載の高反射FBG13を描きこんでいるファイバのインナークラッドと、キャピラリ51内壁とが溶融して一体化する。
その後、両ファイバと溶融一体化したキャピラリ51を融着機から取り出し、その周囲を、図示略のアウタークラッド43と同じ屈折率を持つ樹脂で充填して硬化する。
以上のように製作された戻り光分散器19について、その動作を説明する。
レーザファイバ15コアのイッテルビウムは、励起光を吸収して励起する。その後、レーザ光波長に比較して幅の広い波長を持つ自然放出光を放出し、このうちコアを伝播するものは、伝播しながら増幅され、ASE(Amplified Spontaneous Emission)光となり、戻り光として、そのままコアを伝播、逆流し、高反射FBG13のコアに入る。
このとき、高反射FBG13の反射波長1090ナノメートル近傍以外のASE光は、反射されず、戻り光分散器19に入射する。前記戻り光は、戻り光分散器19のくびれ部の高反射FBG13のテーパ部のコア内を伝送しようとするが、そのコア径はφ3.5マイクロメートルであり、前記戻り光波長1090ナノメートル近傍の光に対して閉じ込めが弱く、前記戻り光をコアから漏洩する。
前記漏洩した戻り光は、戻り光分散器19のくびれ部に充満して伝播し、カプラ12の7本の入力側ファイバに均等に分配されて、半導体レーザモジュール11に入射する。
なお、延伸には融着機ではなく、ヒータを用いた加熱装置であってもよい。
以上のように、キャピラリと、高反射FBGファイバのインナークラッドと、カプラ出口側ファイバコアの屈折率を等しくし、キャピラリくびれ部外径をレーザファイバのインナークラッド径と同一となるまで延伸することにより、実効的な励起光伝送断面を減じて伝送損失を増加することなく、効率よく励起でき、レーザ光が取り出せる。
本発明のファイバレーザ発振器は、戻り光が特定の励起光源に集中して破損することを防ぐことができ、材料加工などに有用である。
11 半導体レーザモジュール
12 カプラ
13 高反射FBG
14 低反射FBG
15 レーザファイバ
18 クラッドモード除去装置
19 戻り光分散器
22 コア
23 コア
32 クラッド
33 インナークラッド
43 アウタークラッド
51 キャピラリ

Claims (4)

  1. レーザ媒質をドープしたレーザファイバと、前記レーザファイバの両端にレーザ光帰還手段である、高反射FBGを描きこんだファイバと低反射FBGを描きこんだファイバを接続してファイバ型光共振器とし、前記レーザ媒質を励起する光を出射する複数の励起光源とを、励起光注入手段であるカプラを介して前記高反射FBG側の高反射FBGを描きこんだファイバに接続して成るファイバレーザ発振器において、
    前記高反射FBGを描きこんだファイバにおいてレーザ光を閉じ込めるコア径が、前記高反射FBGを描きこんだ部分以外の、前記カプラに接続した側において、前記カプラに向かって漸減する部分を有するファイバレーザ発振器。
  2. レーザ媒質をドープしたダブルクラッド構造のレーザファイバと、前記レーザファイバの両端にレーザ光帰還手段である、高反射FBGを描きこんだダブルクラッド構造のファイバと低反射FBGを描きこんだファイバを接続してファイバ型光共振器とし、前記レーザ媒質を励起する光を出射する複数の励起光源とを、励起光注入手段であるカプラを介して前記高反射FBG側の高反射FBGを描きこんだファイバに接続して成るファイバレーザ発振器において、
    前記高反射FBGを描きこんだファイバにおいてレーザ光を閉じ込めるコア径が、前記高反射FBGを描きこんだ部分以外の、前記カプラに接続した側において、前記カプラに向かって漸減し、かつ、前記漸減する高反射FBGを描きこんだファイバ部分において、励起光を閉じ込めるインナークラッド部の径が、縮小しないファイバレーザ発振器。
  3. 前記高反射FBGを描きこんだファイバにおいて励起光を閉じ込めるインナークラッドの屈折率と等しい屈折率を持つキャピラリ(細管)を、上記カプラと上記高反射FBGを描きこんだファイバとの接続部に設け、前記キャピラリの外径が、上記レーザファイバのインナークラッド径と等しいことを特徴とする請求項2記載のファイバレーザ発振器。
  4. 上記キャピラリの周囲を、上記レーザファイバのアウタークラッドと等しい屈折率を持つ樹脂で充填した請求項3記載のファイバレーザ発振器。
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