JP2013225669A - 圧電体膜の製造方法、圧電体膜、電気―機械変換素子の製造方法、および、液体吐出ヘッド、インクジェットプリンタ。 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板31上に設けられた第1の電極32表面にインクジェット方式によりゾル−ゲル液を部分的に塗布しパターン化されたゾル−ゲル膜53を形成する工程と、ゾル−ゲル膜53を加熱処理することでゾル−ゲル膜53を乾燥する工程と、を有しており、ゾル−ゲル膜53を乾燥する工程における、室温からの1分あたりの昇温速度が、ゾル−ゲル液を構成する主溶媒の沸点の45%以下である。
【選択図】図6
Description
(水熱合成法)水熱合成法を用いた場合、Ti金属上にPZTを選択成長させることができ、Ti電極を予めパターニングしておけば、その部位のみにPZT膜が成長することができる。しかし、この方法で十分な耐圧を有するPZT膜を得るには、膜厚が5μm以上の厚い膜とする必要であり、これ以下の膜厚では電界印加で容易に絶縁破壊してしまう。このため、所望する任意の薄膜とすることができない。またSi基板上に素子を形成する場合、水熱合成が強アルカリ性の水溶液下で合成されるため、Si基板の保護が必須となるという問題もあった。
(蒸着法)蒸着法により所定のパターンの圧電膜を形成するため、シャドウマスクを用いた方法が採用されている。そして、圧電性出現の為には成膜した複合酸化物が結晶化している必要があり、その結晶化膜を得るためには、PZT成膜の場合、基板温度500〜600℃に加熱した状態で実行する必要があった。
(AD法)あらかじめフォトリソグラフィーによりレジストパターンを形成し、レジストの無い部位にAD法によりPZTを成膜する方法が知られている。AD法は先述の水熱合成法と同様に厚膜に有利であるが、5μm以下の薄膜には不向きである。また、レジスト膜上にもPZT膜が堆積するので、研磨処理により一部の堆積膜を除去した後、リフトオフ工程を行う必要がある。さらに、大面積の均一研磨工程も煩雑であった。
(スピンコート法)スピンコート方式により、下部電極材料を成膜した基板全面にPZT前駆体であるゾル−ゲル液を塗布することで、均一な圧電体膜を形成することが可能である。ただし、圧電体膜にクラックを発生させず、かつ所望の膜厚を得るためには、ゾル−ゲル液の塗布工程の回数を数多くこなす必要がある。
[第1の実施形態]
本実施形態では、圧電体膜の製造方法について説明する。
[第2の実施形態]
本実施形態では、電気−機械変換素子の製造方法について説明する。
[第3の実施形態]
本実施形態では、液体吐出ヘッドについて説明する。
[第4の実施形態]
本実施形態では、第3の実施形態で説明した液体吐出ヘッドを備えたことを特徴とするインクジェットプリンタについて説明する。
[実施例1〜4]
本実施例1〜4においては、以下の手順により圧電体膜、電気−機械変換素子を形成し、その特性の評価を行った。実施例1〜4は以下に説明するように、乾燥工程における昇温速度が異なる点以外は同様の手順により圧電体膜を作製した。
[比較例1]
インクジェット方式により、ゾル−ゲル膜を塗布後、ゾル−ゲル膜の乾燥を行う工程の昇温速度を60℃/minとして室温から300℃まで温度上昇させて熱処理を実施した以外は実施例1と同様にして実験を行った。
54、54´、662 圧電体膜
663 第2の電極
66 電気−機械変換素子
60、67 液体吐出ヘッド
70 インクジェットプリンタ
Claims (9)
- 基板上に設けられた第1の電極表面にインクジェット方式によりゾル−ゲル液を部分的に塗布しパターン化されたゾル−ゲル膜を形成する工程と、
前記ゾル−ゲル膜を加熱処理することでゾル−ゲル膜を乾燥する工程と、を有しており、
前記ゾル−ゲル膜を乾燥する工程における、室温からの1分あたりの昇温速度が、前記ゾル−ゲル液を構成する主溶媒の沸点の45%以下であることを特徴とする圧電体膜の製造方法。 - 前記ゾル−ゲル膜を乾燥する工程の後に、
ゾル−ゲル膜を熱分解する工程および/またはゾル−ゲル膜を結晶化する工程を有することを特徴とする請求項1記載の圧電体膜の製造方法。 - 前記ゾル−ゲル液を乾燥する工程における、室温からの1分あたりの昇温速度が、前記ゾル−ゲル液を構成する主溶媒の沸点の8%以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電体膜の製造方法。
- 前記ゾル−ゲル液を乾燥する工程における、室温からの1分あたりの昇温速度が、前記ゾル−ゲル液を構成する主溶媒の沸点の25%以下であることを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の圧電体膜の製造方法。
- 請求項1乃至4いずれか一項に記載の圧電体膜の製造方法を繰り返し行うことにより、所望の膜厚の圧電体膜とすることを特徴とする圧電体膜の製造方法。
- 前記圧電体膜パターン上の端部/中央部における膜厚比が0.9〜1.4であることを特徴とする、圧電体膜。
- 請求項1乃至5いずれか一項に記載された圧電体膜の製造方法により製造された圧電体膜上に、第2の電極を配置する工程を有することを特徴とする電気―機械変換素子の製造方法。
- 請求項7に記載の電気−機械変換素子の製造方法により得られた電気―機械変換素子を備えたことを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 請求項8に記載の液体吐出ヘッドを備えたインクジェットプリンタ。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016088236A1 (ja) * | 2014-12-04 | 2017-09-21 | オリンパス株式会社 | 液体試料の成分分析方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006049792A (ja) * | 2003-12-11 | 2006-02-16 | Seiko Epson Corp | 誘電体膜の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2011009726A (ja) * | 2009-05-28 | 2011-01-13 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP2011146601A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換膜の製造方法、電気機械変換膜、電気機械変換膜群、電気機械変換素子の製造方法、電気機械変換素子、電気機械変換素子群、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、画像形成装置 |
JP2011155204A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Ricoh Co Ltd | ゾルゲル液、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2012195445A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Ricoh Co Ltd | 圧電アクチュエータおよびその作製方法液体吐出ヘッドおよびインクジェットプリンタ |
-
2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006049792A (ja) * | 2003-12-11 | 2006-02-16 | Seiko Epson Corp | 誘電体膜の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 |
JP2011009726A (ja) * | 2009-05-28 | 2011-01-13 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
JP2011146601A (ja) * | 2010-01-15 | 2011-07-28 | Ricoh Co Ltd | 電気機械変換膜の製造方法、電気機械変換膜、電気機械変換膜群、電気機械変換素子の製造方法、電気機械変換素子、電気機械変換素子群、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、画像形成装置 |
JP2011155204A (ja) * | 2010-01-28 | 2011-08-11 | Ricoh Co Ltd | ゾルゲル液、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2012195445A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Ricoh Co Ltd | 圧電アクチュエータおよびその作製方法液体吐出ヘッドおよびインクジェットプリンタ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016088236A1 (ja) * | 2014-12-04 | 2017-09-21 | オリンパス株式会社 | 液体試料の成分分析方法 |
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