JP2013213012A - 重合性化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記重合性化合物の製造方法の提供。
(式中、R1は水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基を表し、Arは置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。R2は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜12のアルケニル基、又は置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基を表し、Xは硫黄原子、酸素原子、又はN−R3を表す。R3は、炭素数1〜6のアルキル基、又は、炭素数2〜6のアルケニル基を表す。nは1〜20の整数を表す。)
【選択図】なし
Description
位相差板を薄層化する方法としては、フィルム基材に低分子重合性化合物を含有する重合性組成物を塗布することにより位相差板を作成する方法が、近年では最も有効な方法とされている。そして、優れた波長分散性を有する低分子重合性化合物又はそれを用いた重合性組成物の開発が多く行われている(特許文献1〜14等)。
しかしながら、これらの文献に記載された低分子重合性化合物又は重合性組成物の多くは、逆波長分散性が不十分である、融点が高くフィルムに塗布することが困難である、液晶性を示す温度範囲が極端に狭い、溶媒への溶解度が低い、非常に高価な試薬を用いる等の、多くの課題を有していた。
本発明は、下記式(1)で表される重合性化合物を工業的に有利に製造する方法を提供することを目的とする。
(i)テトラヒドロフラン中、後述する式(2)で表されるカルボン酸と、スルホン酸ハライド又はカルボン酸ハライドとを反応させて、混合酸無水物誘導体(3)を含む反応液を得、得られた反応液と、式(4)で表される化合物とを反応させて、式(5)で表される化合物を含む反応液を得た後、この反応液に、式(6)で表されるヒドラジン誘導体を添加して、このものと式(5)で表される化合物とを反応させて、式(1)で表される重合性化合物を含む反応液を得、次いで、
(ii)得られた反応液に、水及び酢酸エチルを添加して分液処理を行い、有機層に、水及びメタノールを添加するという簡便な操作により、効率よく目的とする式(1)で表される重合性化合物を単離することができることを見出した。そして、これらの知見を一般化することにより本発明を完成するに至った。
〔1〕有機溶媒A中、式(2)
で示される化合物とを反応させて、式(5)
で示される化合物を含む反応液を得、この反応液に、式(6)
で示されるヒドラジン誘導体を添加して、このものと前記式(5)で示される化合物とを反応させた後、得られた反応液に、水及び所望により水と非混和性の有機溶媒Bを添加して分液処理を行って、下記式(1)で示される重合性化合物を含む有機溶媒溶液を得る工程(I)、及び、
工程(I)で得られた有機溶媒溶液に、水及びアルコールDを添加して、下記式(1)で示される重合性化合物を結晶化させる工程(II)
を有することを特徴とする、式(1)
で示される重合性化合物の製造方法。
〔2〕さらに、前記工程(II)で得られた結晶を有機溶媒Cに溶解し、ろ過助剤による処理を行い、ろ過助剤をろ過により除去した後、ろ液に水及びアルコールEを添加して、前記式(1)で示される重合性化合物を再結晶化させる工程(III)を有する、〔1〕に記載の重合性化合物の製造方法。
〔3〕前記有機溶媒Aとして、エーテル類、エステル類、アミド類及び炭化水素類からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いる、〔1〕又は〔2〕に記載の重合性化合物の製造方法。
〔5〕前記アルコールD及びEとして、式:R−OH(式中、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で示されるアルコールを用いる、〔2〕〜〔4〕のいずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
本発明は、
工程(I):有機溶媒A中、前記式(2)で示されるカルボン酸(以下、「カルボン酸(2)」と略記することがある。)と、スルホン酸ハライド又はカルボン酸ハライドとを反応させて、混合酸無水物誘導体(3)を含む反応液を得、得られた反応液と前記式(4)で示される化合物(以下、「化合物(4)」と略記することがある。)を反応させて、前記式(5)で示される化合物(以下、「化合物(5)」と略記することがある。)を含む反応液を得、この反応液に、前記式(6)で示されるヒドラジン誘導体(以下、「ヒドラジン誘導体(6)」と略記することがある。)を添加して、このものと化合物(5)とを反応させた後、得られた反応液に、水及び所望により水と非混和性の有機溶媒Bを添加して分液処理を行って、前記式(1)で示される重合性化合物(以下、「重合性化合物(1)」と略記することがある。)を含む有機溶媒溶液を得る工程、及び、
工程(II):工程(I)で得られた有機溶媒溶液に、水及びアルコールDを添加して、重合性化合物(1)を結晶化させる工程、
を有することを特徴とする重合性化合物(1)の製造方法である。
先ず、有機溶媒A中、カルボン酸(2)と、スルホン酸ハライド又はカルボン酸ハライドとを反応させて、混合酸無水物誘導体(3)を含む反応液を得る。
カルボン酸(2)の多くは公知物質であり、公知の方法で製造し、入手することができる。また、市販品をそのままで、あるいは所望により精製して用いることもできる。
Ra、Rbは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基等の炭素数1〜20のアルキル基;フェニル基、4−メチルフェニル基、2−クロロフェニル基、3−メトキシフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基;を示す。
具体的には、メタンスルホニルクロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、フェニルスルホニルクロライド、パラトルエンスルホニルクロライド等が挙げられる。
用いるカルボン酸ハライドは、式:RbCOQ(Rb、Qは前記と同じ意味を表す。)で示される化合物である。
具体的には、アセチルクロライド、プロピオン酸クロライド、ベンゾイルクロライド等が挙げられる。
スルホン酸ハライド又は他のカルボン酸ハライドの使用量は、化合物(2)に対して、通常1〜5倍モルである。
用いる塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、フェニルジメチルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン等の有機塩基;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基;が挙げられる。
これらは1種単独で、或いは、2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、塩基としては、収率よく目的物が得られる観点から、有機塩基が好ましく、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミンがより好ましく、トリエチルアミンが特に好ましい。
塩基の使用量は、化合物(2)に対して、通常1〜5倍モルである。
エステル類としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等が挙げられる。
アミド類としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等が挙げられる。
炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒;シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒;等が挙げられる。
これらの溶媒は一種単独で、或いは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、収率よく目的物が得られ、目的物の単離がより容易であることなどの理由から、有機溶媒Aとしてはエーテル類が好ましく、THFが特に好ましい。
反応時間は、反応規模等にもよるが、通常、数分から数十時間、好ましくは数十分から数時間である。
目的とする混合酸無水物誘導体(3)が生成していることは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等により確認することができる。
また、上記のようにして得られた混合酸無水物誘導体(3)を含む反応液をそのまま次の反応に供することもできる。
混合酸無水物誘導体(3)として、式(3a)で表される化合物を用いる場合の、塩基の存在下での反応式を下記に示す。
置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基の炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−へキシル基等が挙げられる。
その置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−へキシルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;シアノ基;等が挙げられる。
これらの中でも、R1は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、OH基を便宜上記載している。また、[−]は結合手を表す(以下にて同じである。)。
また、市販品をそのままで、あるいは所望により精製して用いても良い。
塩基の使用量は、用いたカルボン酸(2)に対して、通常1〜5倍モルである。
また、上記の場合において、混合酸無水物誘導体(3)と化合物(4)とを反応させるに際し、反応系にさらに有機溶媒を追加してもよい。ここで追加する有機溶媒としては、前記有機溶媒Aとして例示したものが好ましい。
以上のようにして、化合物(5)を含む反応液を得ることができる。
目的とする化合物(5)が生成していることは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等により確認することができる。
置換基を有していてもよい炭素数3〜12のシクロアルキル基の炭素数3〜12のシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。
Xは、硫黄原子、酸素原子、又は、N−R3を表す。ここで、R3は、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基;又は、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基等の炭素数2〜6のアルケニル基;を表す。これらの中でも、Xは硫黄原子であるのが好ましい。
用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸等の無機酸;(±)−10−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸;これら有機酸の塩;等が挙げられる。
酸触媒の添加量は、カルボン酸(2)1モルに対して、通常0.001〜1モルである。
以上のようにして、重合性化合物(1)を含む反応液を得ることができる。
目的とする重合性化合物(1)が生成していることは、薄層クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等により確認することができる。
これらの中でも、アルコール類、エーテル類、及びアルコール類とエーテル類の混合溶媒が好ましい。
水と混和しない有機溶媒Bは、水と混合しても相溶することなく分離する性質を有する有機溶媒である。有機溶媒Bは、より効率よく分液操作を行うために添加される。例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;等を用いることができる。また、これらの有機溶媒は1種を単独で使用しても、2種以上を混合して用いても良い。
これらの中でも、エステル類を用いるのが好ましく、酢酸エチルが特に好ましい。
また、用いる水は、より分液性を高める観点から、食塩水、硫酸アンモニウム等の無機塩を水に溶解したものが好ましく、食塩水がより好ましい。
以上のようにして、重合性化合物(1)を含む有機溶媒溶液を得ることができる。
次いで、工程(I)で得られた有機溶媒溶液に、水及びアルコールDを添加して、重合性化合物(1)を結晶化させる。この工程により、純度の高い目的物を収率よく得ることができる。
これらの中でも、炭素数1〜3の一価のアルコールがより好ましく、メタノールが特に好ましい。
結晶化の温度は、アルコールDを添加する時点では、通常15〜40℃であり、好ましくは20〜30℃である。その後有機溶媒を冷却するが、その時点では、通常0〜20℃であり、好ましくは5〜15℃である。
本発明においては、かかるアルコールDの添加量を半経験的に定めることができる。具体的には、反応に用いた化合物(4)1質量部に対して、通常10〜200質量部、好ましくは20〜50質量部である。
水の添加量も、同様に、重合性化合物(1)の種類や用いた有機溶媒の種類にも依存するが、通常、アルコールDの添加量の0.1〜1質量倍である。
本発明においては、工程(II)の後に、さらに、以下の工程(III)を行うのが好ましい。すなわち、工程(II)で得られた結晶を有機溶媒(以下、「有機溶媒C」ということがある。)に溶解し、ろ過助剤による処理を行った後、ろ過助剤をろ過により除去し、ろ液に水及びアルコールEを添加して、再結晶化させる工程(III)を設けることにより、さらに純度の高い目的物を得ることができる。
ろ過助剤としては、例えば、珪藻土系、炭素系、セルロース系、パーライト系の多孔質微粒子を用いることができる。
再結晶化の温度は、アルコールEを添加する時点では、通常15〜40℃であり、好ましくは20〜30℃であり、その後有機溶媒を冷却を実施するが、その時点では、通常0〜20℃であり、好ましくは5〜15℃である。
工程(III)を行うことで、より純度の高い重合性化合物(1)を得ることができる。
本発明によって得られる重合性化合物(1)に含まれるSイオン分の残存量は、50ppm以下であることが好ましく、10ppm以下であることがより好ましい。
Sイオン分の残存量は、例えば、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
また、得られた重合性化合物(1)の純度は、ガスクロマトグラフィーやNMRスペクトルにより測定することができる。
実施例1及び比較例1で得られた重合性化合物の1質量部を、それぞれクロロホルム10質量部に溶解し、さらに超純水30質量部を加え3分間撹拌した。静置後、水層を分離し、その水層を試験液とした。
試験液を自動燃焼装置(ヤナコ社製)にセットし、950℃で燃焼させたガスを、水/1M NaHCO3水溶液/1M Na2CO3水溶液/30%H2O2水溶液=2000/0.6/5.4/0.4(vol/vol/vol/vol)の吸収液に吸収させ、吸収されたガスをイオンクロマト装置〔DIONEX社製:ICS−500、IonPaccAS12A(4.0x250mm)、IonPaccAG12A(4.0x50mm)〕を用いて測定し、Sイオン分残存量を測定した。
次に、得られた反応液に、酢酸エチル 183g、及び10%食塩水183gを加え、40℃で分液し、有機層を分取した。得られた有機層に水183gを加え、40℃で分液し、有機層を分取した。得られた有機層に、水 100g、及びメタノール 500gを加えて、全容を10℃に冷却して結晶化を行い、次いで、濾過を行って、重合性化合物(1a)の粗結晶を62.6g得た。
次いで、得られた粗結晶に、酢酸エチル 300g、及び、ろ過助剤としてパーライト(三井金属鉱業社製、商品名:ロカヘルプ479) 1.4gを添加し、40℃で1時間撹拌後、ろ過助剤及び不溶分をろ過により除去した。
得られたろ液に、水 60g、及びメタノール 300gを加えて、全容を10℃に冷却して再結晶化を行い、次いで、濾過を行って、重合性化合物(1a)を59.4g得た(収率71.2%)。
残存Sイオン分は9.8ppmであった。
窒素気流下、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸 73.1g(0.25mol)をTHF 183gに溶解させた。この溶液に、メタンスルホニルクロライド28.7g(0.25mol)を添加し、全容を0℃に冷却し、攪拌下、トリエチルアミン 26.3g(0.26mol)を滴下し、滴下終了後、さらに0℃で1時間撹拌した。
次いで、得られた反応混合物に、0℃で、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 1.5g(0.013mol)、及び、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 13.8g(0.10mol)を添加し、さらに、トリエチルアミン 23.3g(0.23mol)を滴下し、滴下終了後、全容を20℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液に、20℃で、1.0N塩酸50gを添加し、さらに、2−ヒドラジノベンゾチアゾール(東京化成工業社製)17.0g(0.10mol)を1時間かけて添加した。全容を20℃で1時間撹拌した。
得られた粗結晶に、酢酸エチル 300g、及びろ過助剤 1.4gを添加して、40℃で全容を撹拌したところ、大量の不溶分が残存していた。不溶分をろ別し、得られたろ液に、水 60g及びメタノール 300gを加えて、全容を10℃に冷却して再結晶化を行い、次いで、濾過を行って、重合性化合物(1a)の結晶を25.0g(収率30.0%)得た。
残存Sイオン分は950.8ppmであった。
窒素気流下、4−(6−アクリロイル−ヘクス−1−イルオキシ)安息香酸 73.1g(0.25mol)をTHF183gに溶解させ、そこへ、メタンスルホニルクロライド 28.7g(0.25mol)を添加し、0℃に冷却した。その溶液に、トリエチルアミン 26.3g(0.26mol)を滴下し、全容を0℃で1時間撹拌した。得られた反応混合物に、4−(ジメチルアミノ)ピリジン 1.5g(0.013mol)、2,5−ジヒドロキシベンズアルデヒド 13.8g(0.10mol)を添加し、さらに、トリエチルアミン 23.3g(0.23mol)を滴下し、全容を20℃で1時間撹拌した。反応終了後、反応液に1.0N塩酸を50g添加し、2−ヒドラジノベンゾチアゾール(東京化成工業社製)17.0g(0.10mol)を1時間かけて添加し、全容を20℃で1時間撹拌した。
以上の実施例及び比較例の結果を下記表1にまとめた。
工程(I)の分液処理を行わなかった比較例1では、目的物の収率が低く、残存Sイオン分が多かった。
工程(II)の結晶化の際にアルコールを用いなかった比較例2では、目的物を結晶として分離することはできなかった。
Claims (6)
- 有機溶媒A中、式(2)
で示されるカルボン酸と、スルホン酸ハライド又はカルボン酸ハライドとを反応させて、混合酸無水物誘導体(3)を含む反応液を得、得られた反応液と、式(4)
で示される化合物とを反応させて、式(5)
で示される化合物を含む反応液を得、この反応液に、式(6)
で示されるヒドラジン誘導体を添加して、このものと前記式(5)で示される化合物とを反応させた後、得られた反応液に、水及び所望により水と非混和性の有機溶媒Bを添加して分液処理を行って、下記式(1)で示される重合性化合物を含む有機溶媒溶液を得る工程(I)、及び、
工程(I)で得られた有機溶媒溶液に、水及びアルコールDを添加して、下記式(1)で示される重合性化合物を結晶化させる工程(II)
を有することを特徴とする、式(1)
で示される重合性化合物の製造方法。 - さらに、前記工程(II)で得られた結晶を有機溶媒Cに溶解し、ろ過助剤による処理を行い、ろ過助剤をろ過により除去した後、ろ液に水及びアルコールEを添加して、前記式(1)で示される重合性化合物を再結晶化させる工程(III)を有する、請求項1に記載の重合性化合物の製造方法。
- 前記有機溶媒Aとして、エーテル類、エステル類、アミド類及び炭化水素類からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いる、請求項1又は2に記載の重合性化合物の製造方法。
- 前記有機溶媒Aとして、テトラヒドロフランを用いる、請求項1又は2に記載の重合性化合物の製造方法。
- 前記アルコールD及びEとして、式:R−OH(式中、Rは置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で示されるアルコールを用いる、請求項2〜4のいずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
- 前記アルコールD及びEとして、メタノールを用いる、請求項2〜4のいずれかに記載の重合性化合物の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015064698A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2015122384A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
JPWO2014010325A1 (ja) * | 2012-07-09 | 2016-06-20 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 |
CN110431454A (zh) * | 2017-03-28 | 2019-11-08 | 日本瑞翁株式会社 | 相位差片、多层相位差片、偏振片、图像显示装置以及聚合性化合物 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002267838A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差膜 |
WO2012141245A1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2012147904A1 (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-01 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2013018526A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 日本ゼオン株式会社 | 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物 |
WO2013046781A1 (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-04 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 |
-
2012
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002267838A (ja) * | 2001-03-06 | 2002-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差膜 |
WO2012141245A1 (ja) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2012147904A1 (ja) * | 2011-04-27 | 2012-11-01 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2013018526A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 日本ゼオン株式会社 | 光学異方体の波長分散調整方法及び重合性組成物 |
WO2013046781A1 (ja) * | 2011-09-27 | 2013-04-04 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物の製造中間体及びその製造方法 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2014010325A1 (ja) * | 2012-07-09 | 2016-06-20 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学異方体、及び重合性化合物の製造方法 |
WO2015064698A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
CN105745233A (zh) * | 2013-10-31 | 2016-07-06 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、及光学各向异性体 |
JPWO2015064698A1 (ja) * | 2013-10-31 | 2017-03-09 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
CN105745233B (zh) * | 2013-10-31 | 2018-06-12 | 日本瑞翁株式会社 | 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、及光学各向异性体 |
JP2019077870A (ja) * | 2013-10-31 | 2019-05-23 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
WO2015122384A1 (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-20 | 日本ゼオン株式会社 | 重合性化合物、重合性組成物、高分子、及び光学異方体 |
CN110431454A (zh) * | 2017-03-28 | 2019-11-08 | 日本瑞翁株式会社 | 相位差片、多层相位差片、偏振片、图像显示装置以及聚合性化合物 |
JPWO2018180649A1 (ja) * | 2017-03-28 | 2020-02-06 | 日本ゼオン株式会社 | 位相差板、複層位相差板、偏光板、画像表示装置及び重合性化合物 |
TWI765011B (zh) * | 2017-03-28 | 2022-05-21 | 日商日本瑞翁股份有限公司 | 相位差板、多層相位差板、偏光板、影像顯示裝置及聚合性化合物 |
US12038650B2 (en) | 2017-03-28 | 2024-07-16 | Zeon Corporation | Multilayer phase difference plate, polarizing plate, and image display device |
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