JP2008068167A - 新規なキラルジルコニウム触媒とそれを用いる光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法 - Google Patents

新規なキラルジルコニウム触媒とそれを用いる光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2008068167A
JP2008068167A JP2006247245A JP2006247245A JP2008068167A JP 2008068167 A JP2008068167 A JP 2008068167A JP 2006247245 A JP2006247245 A JP 2006247245A JP 2006247245 A JP2006247245 A JP 2006247245A JP 2008068167 A JP2008068167 A JP 2008068167A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
zirconium catalyst
chiral zirconium
hydrocarbon group
aminocarbonyl compound
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006247245A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5158926B2 (ja
Inventor
Osamu Kobayashi
修 小林
Koichiro Saruhashi
康一郎 猿橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
University of Tokyo NUC
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
University of Tokyo NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp, University of Tokyo NUC filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2006247245A priority Critical patent/JP5158926B2/ja
Publication of JP2008068167A publication Critical patent/JP2008068167A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5158926B2 publication Critical patent/JP5158926B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】空気中でも安定であり、実用的な用途に適するキラルジルコニウム触媒の提供。
【解決手段】Zr(OR)4(ただし、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である)と(R)-6,6'-Br2BINOLとN−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾールとを混合して得られた粉末を、水を含む有機溶媒中で結晶化させるなどの方法により得られる新規キラルジルコニウム触媒。
【選択図】なし

Description

本発明は、極めて安定な新規なキラルジルコニウム触媒、およびそれを用いる光学活性のβ−アミノカルボニル化合物の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、新規なキラルジルコニウム触媒、およびそれを用いて、高エナンチオ選択的不斉Mannich型反応によりβ−アミノカルボニル化合物を製造する方法に関する。
従来、キラルジルコニウム触媒、および該触媒を用いた反応は、例えば、特許文献1〜11およびこれらの特許文献に記載された文献により知られている。
特開平11-33407号公報 特開平11-253813号公報 特開2001-252568号公報 特開2001-252569号公報 特開2002-201166号公報 特開2002-356454号公報 特開2003-261490号公報 特開2003-299962号公報 特開2006-22046号公報 国際特許出願公開03/076072号パンフレット 国際特許出願公開2005/084803号パンフレット
しかし、上記従来のキラルジルコニウム触媒におけるジルコニウム錯体が空気中で不安定であるか、または安定化するための高分子固定化等の技術を必要とする。
本発明は、かかる事情を鑑みてなされたものであり、極めて安定な新規なキラルジルコニウム触媒、およびそれを用いて光学活性のβ−アミノカルボニル化合物をエナンチオ選択性高く製造する方法を提供することを課題としている。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を進めた結果、本発明を完成させたものであり、本発明は、下記〔1〕〜〔7〕を要旨とするものである。
〔1〕次式(I)
Figure 2008068167
(但し、式(I)中、
Figure 2008068167
Figure 2008068167
(但し、X1およびX2は、同一または別異に水素原子、ハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基であり、X1およびX2のいずれか一方はハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基である。)を表す。)を有することを特徴とするキラルジルコニウム触媒。
〔2〕X1およびX2が臭素原子である、〔1〕に記載の新規キラルジルコニウム触媒。
〔3〕Zr(OR)4(ただし、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である)と、
Figure 2008068167
(式中、X1およびX2は、同一または別異に水素原子、ハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基であり、X1およびX2のいずれか一方はハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基である)で表される化合物と、N−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾールと、の混合粉末を、水を含む有機溶媒中で結晶化させて得られるキラルジルコニウム触媒。
〔4〕X1およびX2が臭素原子である、〔3〕に記載の新規キラルジルコニウム触媒。
〔5〕エナンチオ選択的に光学活性β−アミノカルボニル化合物を製造する方法であって、請求項1〜4のいずれかに記載のキラルジルコニウム触媒の存在下に、イミンとケイ素エノラートとを反応させることを特徴とする光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
〔6〕イミンが、次式 (II)
Figure 2008068167
(式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基や置換基を有していてもよい芳香族基を表し、R2は水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。)で表されるイミンである〔5〕に記載の光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
〔7〕ケイ素エノラートが、イソ酪酸由来のケイ素エノラートである〔5〕に記載の光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
本発明により、空気中でも安定に取り扱うことができる、実用的な広範な用途に適する新規なキラルジルコニウム触媒、および該触媒を用いる、光学活性β−アミノカルボニル化合物を、高いエナンチオ選択性で製造する方法が提供される。
本発明のキラルジルコニウム触媒(I)は、Zr(OR)4(ただし、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である)と、(R)-6,6'-Br2BINOLと、N−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾール(以下、総称してイミダゾールともいう)と、を混合して得られた粉末を、水を含んだ有機溶媒中で再結晶させることにより得られる。
上記の有機溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類;四塩化炭素、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のカルボン酸エステル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等の含窒素非プロトン性極性溶媒;ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄非プロトン性極性溶媒;またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、芳香族炭化水素類、またはカルボン酸エステル類が好ましく、溶解性や経済性等の観点から、トルエンまたは酢酸エチルが特に好ましい。
上記有機溶媒中には水が含まれていることが必須である。水の有機溶媒中における含有量は、好ましくは10〜1000ppm、特に好ましくは20〜100ppmである。従って、有機溶媒中の水の含有量は空気中の湿気を含んでいるという程度でもよく、このため、水を含んだモレキュラーシーブスを共存させてもよい。
上記の再結晶の方法としては、例えば、Zr(OR)4(ただし、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である)と
Figure 2008068167
で表される化合物、例えば、(R)-6,6'-Br2BINOLと、N−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾールとを混合して得られた粉末を、室温で飽和する程度の有機溶媒中に溶解し、有機溶媒を自然に蒸発させながら徐々に結晶を析出させるか、または、ヘキサン等の貧溶媒の蒸気に曝露させながら結晶を徐々に析出させるといった方法が好ましい。
本発明において、上記Zr(OR)4と、(R)-6,6'-Br2BINOLと、イミダゾールとの混合粉末におけるそれぞれの含有比率は、Zr(OR)4と、の100重量部に対して、(R)-6,6'-Br2BINOLが好ましくは150〜300重量部、特に好ましくは200〜220重量部と、イミダゾールが好ましくは100〜400重量部、特に好ましくは120〜220重量部であるのが適切である。
本発明では、上記キラルジルコニウム触媒の存在下に、イミンとケイ素エノラートとをMannich型反応させることにより前記式(I)で表される、光学活性β−アミノカルボニル化合物が製造できる。
かかる光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法において、イミンとしては各種のものが使用されるが、中でも次式(II)
Figure 2008068167
で表される化合物が好ましい。
上記式(II)において、R1は、置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族基から適宜選択される。中でも、フェニル基や置換フェニル基、ナフチル基や置換ナフチル基、あるいはメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル等のアルキル基、シクロヘキシル基等が好ましく例示される。また、R2は、水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基であり、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル等のアルキル基等が例示される。R1およびR2は、目的とするMannich型反応の生成物、すなわち光学活性アンチα−メチル−β−アミノカルボニル化合物に応じて適宜選択される。
また、このようなイミンとしては、試薬としてされている化合物や予め合成、精製、単離された化合物を用いてもよいが、単離が難しいものや不安定なものについては、Mannich型反応に際してin situで合成して用いてもよい。
上記本発明の光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法において、Mannich型反応は、前記の新規キラルジルコニウム触媒の存在下で行われるが、その反応条件は特に限定されない。例えば、反応は、各種の有機溶媒中で行われることが好ましい。有機溶媒は、出発物質であるイミン、求核剤であるケイ素エノラート、および触媒を溶解できるものであればよく、また、反応温度において固化あるいは分解しないものであればよく、とくに限定されない。例えば、クロロホルムやジクロロメタン等の含ハロゲン化炭化水素、アセトン等が例示される。反応温度は、各反応物質が安定で触媒が安定に作用する温度範囲であればよく、好ましくは室温以下の温度範囲、より好ましくは、−100℃〜室温程度とする。さらに、具体的な反応操作については、一般的な化学反応において実施される攪拌、分離、精製等の操作が適用できる。
以下、実施例を示して本発明についてさらに詳細に説明する。もちろん、本発明は、以下の実施例に限定して解釈されるものではないことは言うまでもない。
以下の実施例において、融点は補正せずに表示される。また、1Hおよび13CNMRスペクトルは、特記しない限り、CDCl3中でJEOL JNM-LA300、JNM-LA400、またはJNM-LA500スペクトロメーターにより測定した。1Hでは、テトラメチルシラン(TMS)を内部標準として用いた(δ=0)。また、13Cでは、CDCl3を内部標準として用いた(δ=77.0)。
高速液体クロマトグラフィーは、SHIMADZU LC-10AT(液体クロマトグラフ)、SHIMADZU SPD-10A(紫外線検知機)、およびSHIMADZU C-R6AまたはC-R8Aクロマトパックを用いて行った。
カラムクロマトグラフィーは、Silica gel 60 (Merck社製)で、また薄層クロマトグラフィーは、Wakogel B-5F(和光純薬社製)を用いて行った。
ジクロロメタンは、関東化学社製脱水品を、CaH上で蒸留し、さらにMS 4A上で乾燥した。他の溶媒や化合物は標準の方法により精製して用いた。
芳香族アルデヒド、およびヘテロ芳香族アルデヒドのアルジミンは、対応するアルデヒドおよび2−アミノフェノールを用いて一般的な方法により調製した。粗アルジミンは、エタノールから再結晶し、純物質とした。ケテンシリルアセタールは、公知の方法(Ireland, R.E.; Mueller, R.H.; Willard, A.K. J.Am.Chem.Soc.1976, 98, 2826)により調製した。
<実施例1>キラルジルコニウム触媒の合成
グローブボックス中で、(R)-6,6'-dibromo-1,1'-bi-2-naphthol((R)-6,6'-BrBINOL)(1.00 mmol)、Zr(OiPr)4(0.50 mmol)、およびN−ベンジルイミダゾール(1.00 mmol)を混合した後に、ジクロロメタン(2.0 mL)を加え、室温下、1時間撹拌した。この反応溶液に、モレキュラーシーブスで乾燥させたヘキサン(100 mL)を加え、室温で一晩撹拌した。生じた白色の沈殿物を、ろ過によって単離し、減圧下で乾燥させた。得られた白色粉末を水を含んだ酢酸エチルに溶解させ、遮光下、静置することにより、立方晶形を有する、目的のキラルジルコニウム触媒が得られた。
<実施例2>ケテンシリルアセタールとイミンとのMannich反応
(1)まず、次式にしたがって、イミン(2)とケテンシリルアセタール(3)とをキラルジルコニウム触媒(10 mol%)存在下で反応させた。
Figure 2008068167
上記実施例1で得られたジルコニウム触媒(0.01 mmol)をジクロロメタンに懸濁させた後、これに−45℃において化合物2(0.4 mmol)と3(E)(0.48 mmol)との混合物のジクロロメタン溶液を加え、−45℃で48時間攪拌し、ヘキサンを加えて反応を停止させた。ろ過によって触媒を除いたろ液を濃縮したものに、1N塩酸/テトラヒドロフラン混合液を氷冷下で加え、1時間撹拌した後に、重曹水を加えて、反応液を中和した。酢酸エチルで抽出した粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより分離して、化合物4を得た。光学純度はキラルカラムによるHPLC分析により求めた。
化合物4の収率、および光学純度(ee)を表1に示した(反応1)。
Figure 2008068167
(2)触媒量を0.02 mmolとし、(1)と同様の方法で化合物4を得た。化合物4aの収率、および光学純度(ee)を表1に示した(反応2)。
(3)触媒量を0.01 mmolとし、N-メチルイミダゾール(0.08 mmol)を共存させて、撹拌時間を24時間として(1)と同様の方法で化合物4を得た。化合物4の収率、および光学純度(ee)を表1に示した(反応3)。
(4)触媒量を0.01 mmolとし、N-メチルイミダゾール(0.08 mmol)を共存させて、(1)と同様の方法で化合物4を得た。化合物4の収率、および光学純度(ee)を表1に示した(反応4)。
本発明の新規なキラルジルコニウム触媒は、空気中でも安定に取り扱うことができ、実用的な用途に適する。このため、本発明のキラルジルコニウム触媒を用いることにより、高いエナンチオ選択性で光学活性β−アミノカルボニル化合物が製造される。得られる光学活性β−アミノカルボニル化合物は、各種の天然物質や生理活性物質の合成において重要な中間体であり、有用性が高い。

Claims (7)

  1. 次式(I)
    Figure 2008068167
    (但し、式(I)中、
    Figure 2008068167
    は、
    Figure 2008068167
    (但し、式中、X1およびX2は、同一または別異に水素原子、ハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基であり、X1およびX2のいずれか一方はハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基である。)を表す。)を有することを特徴とするキラルジルコニウム触媒。
  2. 1およびX2が臭素原子である、請求項1に記載のキラルジルコニウム触媒。
  3. Zr(OR)4(但し、Rは直鎖、あるいは分岐したアルキル基である)と
    Figure 2008068167
    (式中、X1およびX2は、同一または別異に水素原子、ハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基であり、X1およびX2のいずれか一方はハロゲン原子またはフッ素化炭化水素基である。)で表される化合物と、N−アルキルイミダゾールまたはN−ベンジルイミダゾールと、を混合した粉末を、水を含む有機溶媒中で結晶化させて得られることを特徴とするキラルジルコニウム触媒。
  4. 1およびX2が臭素原子である、請求項3に記載のキラルジルコニウム触媒。
  5. 光学活性β−アミノカルボニル化合物をエナンチオ選択的に製造する方法であって、請求項1から4のいずれかに記載のキラルジルコニウム触媒の存在下に、イミンとケイ素エノラートと、を反応させる光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
  6. イミンが、次式(II)
    Figure 2008068167
    (式中、R1は置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよい芳香族基を表し、R2は水素原子または置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。)で表されるイミンである、請求項5に記載の光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
  7. ケイ素エノラートが、イソ酪酸由来のケイ素エノラートである、請求項5に記載の光学活性β−アミノカルボニル化合物の製造方法。
JP2006247245A 2006-09-12 2006-09-12 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法 Expired - Fee Related JP5158926B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006247245A JP5158926B2 (ja) 2006-09-12 2006-09-12 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006247245A JP5158926B2 (ja) 2006-09-12 2006-09-12 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008068167A true JP2008068167A (ja) 2008-03-27
JP5158926B2 JP5158926B2 (ja) 2013-03-06

Family

ID=39290237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006247245A Expired - Fee Related JP5158926B2 (ja) 2006-09-12 2006-09-12 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5158926B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113200881A (zh) * 2021-04-16 2021-08-03 陕西师范大学 五甲基三氯一茂钛协同4-羟基苯甲酸催化合成β-氨基羧酸酯的方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1133407A (ja) * 1997-07-23 1999-02-09 Res Dev Corp Of Japan 不斉ジルコニウム触媒
JPH11253813A (ja) * 1998-03-09 1999-09-21 Japan Science & Technology Corp キラルジルコニウム触媒と光学活性α−アミノニトリル の製造方法
JP2003261490A (ja) * 2002-03-11 2003-09-16 Japan Science & Technology Corp 新規キラルジルコニウム触媒とそれを用いた光学活性アンチα−メチル−β−アミノカルボニル化合物の製造方法
WO2003076072A1 (fr) * 2002-03-11 2003-09-18 Japan Science And Technology Agency Catalyseur de zirconium chiral pratique
JP2008068168A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Nissan Chem Ind Ltd 空気中でも安定なキラルジルコニウム触媒、その製造方法および使用

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1133407A (ja) * 1997-07-23 1999-02-09 Res Dev Corp Of Japan 不斉ジルコニウム触媒
JPH11253813A (ja) * 1998-03-09 1999-09-21 Japan Science & Technology Corp キラルジルコニウム触媒と光学活性α−アミノニトリル の製造方法
JP2003261490A (ja) * 2002-03-11 2003-09-16 Japan Science & Technology Corp 新規キラルジルコニウム触媒とそれを用いた光学活性アンチα−メチル−β−アミノカルボニル化合物の製造方法
WO2003076072A1 (fr) * 2002-03-11 2003-09-18 Japan Science And Technology Agency Catalyseur de zirconium chiral pratique
JP2008068168A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Nissan Chem Ind Ltd 空気中でも安定なキラルジルコニウム触媒、その製造方法および使用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113200881A (zh) * 2021-04-16 2021-08-03 陕西师范大学 五甲基三氯一茂钛协同4-羟基苯甲酸催化合成β-氨基羧酸酯的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5158926B2 (ja) 2013-03-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU2006345861B2 (en) Process for the preparation of optically pure or optically enriched enantiomers of sulphoxide compounds
RU2324678C2 (ru) Способ получения динитрилов фенилмалоновой кислоты
EP2292579B1 (en) Process for production of halogenated alpha-fluoroethers
WO2003064420A1 (fr) Nouveaux composes optiquement actifs, procede de resolution optique cinetique de derives d'acide carboxylique, et catalyseurs y relatifs
JP6504530B2 (ja) 光学活性な2−(2−フルオロビフェニル−4−イル)プロパン酸の製造法
DK142765B (da) Fremgangsmåde til fremstilling af optisk aktive estere af chrysanthemsyre.
KR100598079B1 (ko) 신규의 보로네이트 에스테르
JP5880226B2 (ja) 重合性化合物の製造方法
JP4649645B2 (ja) 光学活性アルコール化合物の製法
JP5158926B2 (ja) 不斉マンニッヒ型反応用キラルジルコニウム触媒の製造方法
JP6676146B2 (ja) クロマノール誘導体の新規な製造方法
JP6027910B2 (ja) 触媒の製造方法、及び光学活性アンチ−1,2−ニトロアルカノール化合物の製造方法
JP5283867B2 (ja) 光学活性β−ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造方法
JP2007523098A (ja) 光学的に活性なα−ハロ−カルボニル化合物の触媒的不斉合成
JP2008007457A (ja) β−ヒドロキシカルボニル化合物の後処理方法
JP3432880B2 (ja) 光学活性アザスピロ化合物の製法
JP2003261490A (ja) 新規キラルジルコニウム触媒とそれを用いた光学活性アンチα−メチル−β−アミノカルボニル化合物の製造方法
JP2008068168A (ja) 空気中でも安定なキラルジルコニウム触媒、その製造方法および使用
JP2017075120A (ja) ジフルオロメチルチオ化試薬およびジフルオロメチルチオ−エナミン誘導体の製造方法
JP2011026201A (ja) 光学活性ピロリル−コハク酸イミド誘導体の立体選択的な製造方法
JP4215687B2 (ja) 光学活性なβ−ヒドロキシ−α−アミノ酸誘導体の製造方法
JPH02101064A (ja) ピラゾールカルボン酸アミド類の製造方法
JP2006096692A (ja) 光学活性トリフルオロメチルカルビノール誘導体の製造方法
WO2010098288A1 (ja) 光学活性含フッ素オキセタンの製造方法
EP3636625A1 (en) Method for producing optically active isomer, optically active isomer, method for producing chiral molecules, and chiral molecules

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090908

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110304

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120406

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120904

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121101

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121204

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121210

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151221

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees