JP4105821B2 - ジアゾ化合物 - Google Patents

ジアゾ化合物 Download PDF

Info

Publication number
JP4105821B2
JP4105821B2 JP13549399A JP13549399A JP4105821B2 JP 4105821 B2 JP4105821 B2 JP 4105821B2 JP 13549399 A JP13549399 A JP 13549399A JP 13549399 A JP13549399 A JP 13549399A JP 4105821 B2 JP4105821 B2 JP 4105821B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mol
added
water
crystals
filtration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP13549399A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000327648A (ja
Inventor
一人 國田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP13549399A priority Critical patent/JP4105821B2/ja
Priority to US09/572,568 priority patent/US6451497B1/en
Priority to AT00110208T priority patent/ATE256106T1/de
Priority to DE60007023T priority patent/DE60007023T2/de
Priority to EP00110208A priority patent/EP1053999B1/en
Publication of JP2000327648A publication Critical patent/JP2000327648A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4105821B2 publication Critical patent/JP4105821B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は新規なジアゾ化合物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
近年におけるレーザの発展は目ざましく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザおよび半導体レーザ(以下、「赤外線レーザ」という場合がある。)は、高出力かつ小型のものが容易に入手できるようになった。これらの赤外線レーザは、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印刷版を製版する際の記録光源として非常に有用である。従って、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高い画像記録材料に使用する材料、特にヒートモードレーザ用の画像記録材料に使用できる材料への要望が近年高まっている。
【0003】
【課題を解決するための手段】
本発明のジアゾ化合物は、下記構造(A−1),(A−10)、(B−1)又は(C−1)で表されることを特徴とする。
【0004】
【化2】
Figure 0004105821
【0005】
【化3】
Figure 0004105821
【0006】
〔一般式(1)中、ZはPh−NH−Zの解離性HのpKaが14以下となる有機基を示し、Q1及びQ2は有機基を示し、Q1及びQ2が連結して脂肪環又は芳香環を形成してもよい。〕
ここで、有機基Zが−SO21又は−COR2(R1は炭化水素基を表し、R2は電子吸引性置換基を有する炭化水素基を表す。)であることが好ましく、炭化水素基R2が、ハロゲン原子、置換スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、及びヒドロキシ基からなる群から選択されるいずれかの電子吸引性置換基を有する。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明のジアゾ化合物は、下記構造(A−1),(A−10)、(B−1)又は(C−3)で表されることを特徴とする。
【0008】
【化4】
Figure 0004105821
【0009】
前記構造(A−1),(A−10)、(B−1)又は(C−3)に記載のように、本発明の新規ジアゾ化合物は、Ph−NH2のアミノ基に、該アミノ基をZで置換した化合物Ph−NH−Zの解離性HのpKaが14以下となるように選択された有機基を有する。該有機基は、−SO21及び−COR2におけるR1やR2の位置に電子吸引性置換基を有する炭化水素基である。
【0010】
子吸引性置換基として、ハロゲン原子、置換スルホニル基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシ基、及びヒドロキシ基を有するものが好ましい。
【0011】
本発明の新規ジアゾ化合物の一般的な合成を以下のスキームで示す。
【0012】
【化5】
Figure 0004105821
(スキーム1) 対応するアミンのジアゾ化を経由する方法
【0013】
【化6】
Figure 0004105821
(スキーム2) 対応するオキシムのForster反応による方法
【0014】
【化7】
Figure 0004105821
(スキーム3) 対応するケトンのBamford−Stevens反応による方法
【0015】
この中で最も一般的で汎用性があるのはスキーム1の方法である。
以上の方法は「The Chemistry of functional groups−The Chemistry of diazonium and diazo groups PART1 and PART2」SAUL PATAI著、JOHN WILEY & SINS発行1978年の専門書の中の特に14、15、17章に詳細に記載されている。
本発明のジアゾ化合物はポジ型平版印刷用材料に使用することができ、特に水分の少ないヒートモード記録用のポジ型平版印刷用材料に適している。
【実施例】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例には何ら制限されるものではない。
【0016】
<実施例1 化合物A−1の合成>
下記の合成スキームに従い、化合物A−1を合成した。
【0017】
【化8】
Figure 0004105821
【0018】
500mlのナスフラスコに、p−トシルクロライド(0.1モル)、ピリジン(100ml)を入れ、α−ナフチルアミンA−1−x(0.1モル)を加え撹拌した。α−ナフチルアミンA−1−xの添加により反応混合物は赤色に変化し、添加から30分後に発熱が見られた。この反応混合物を放冷すると、結晶が析出し、反応混合物の色がオレンジ色に変化した。2時間攪拌した後、反応混合物に水300mlを加え、攪拌下でHClaqをpH<5となるまで加えてpH調整を行い、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、HClaqで洗浄後、メタノール500mlで再結晶して、A−1−yが23g得られた。A−1−yの構造はNMR等により確認した。
【0019】
次に、500mlの三つ口フラスコに、A−1−y(0.07モル)、酢酸(100ml)を入れ、70%HNO3aq(0.07モル)を滴下すると、反応混合物が黄色化した。室温で1日放置後、水(300ml)、HCl(10ml)を加えて撹拌すると結晶が析出した。析出した結晶を濾取し、得られた粗結晶を酢酸で再結晶し、さらにメタノールで再結晶化して、A−1−zが1g得られた。A−1−zの構造はNMR等により確認した。
【0020】
次に、100mlの三つ口フラスコに、還元Fe(0.012モル)、NH4Cl(0.001モル)、水(0.5ml)を入れ、90℃で撹拌した。ここへA−1−z(0.002モル)をイソプロピルアルコール(30ml)に溶かしたものを滴下し、2時間撹拌した後、反応混合物をセライトを使用して濾過した。得られた濾液にHClaq(2ml)を加えて減圧下で濃縮することにより、A−1−αの白色粉末が0.69g得られた。A−1−αの構造はNMR等により確認した。
【0021】
次に、100mlのビーカーに、A−1−α(0.002モル)、メタノール(30ml)を入れ、氷浴下でNaNO2(0.0025モル)を水(3ml)に溶解したものを加えると赤色沈殿が生成した(このときのpHは4である)。1時間撹拌後、NaHCO3aqを加えてpHを8とすると、黄色沈殿が生成した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、目的物であるジアゾ化合物A−1が0.6g得られた。NMR等により構造を確認した。ジアゾ化合物A−1の同定データを以下に記載する。
【0022】
1HNMR(CDCl3,300MHz):
δ2.40ppm(s,3H,CH3)、7.30ppm(d,2H,J=11.0Hz,ArH(y))、7.33ppm(m,1H,ArH(4))、7.44ppm(m,1H,ArH(5))、7.68ppm(m,3H,ArH(3),ArH(6),ArH(7))、7.78ppm(d,2H,J=11.0Hz,ArH(x)、8.62ppm(d,1H,J=8.7Hz,ArH(8))
【0023】
【化9】
Figure 0004105821
【0024】
IRスペクトル(KBr透過法):ν(C=N+=N-)=2120cm-1
UVスペクトル(CHCl3溶液):λmax=421nm
融点(分解点):158℃
化合物Ph−NH−Zの解離性HのpKaは、12〜13である。
【0025】
<実施例2 化合物A−10の合成>
下記の合成スキームに従い、化合物A−10を合成した。
【0026】
【化10】
Figure 0004105821
【0027】
500mlのナスフラスコに、トリフルオロ酢酸クロライド(0.1モル)、ピリジン(100ml)を入れ、α−ナフチルアミンA−1−x(0.1モル)を加え撹拌した。2時間攪拌した後、反応混合物に水300mlを加え、攪拌下でHClaqをpH<5となるまで加えてpH調整を行い、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、HClaqで洗浄後、メタノールで再結晶してA−10−xが17g得られた。A−10−xの構造はNMR等により確認した。
【0028】
次に、500mlの三つ口フラスコに、A−10−x(0.07モル)、酢酸(100ml)を入れ、70%HNO3aq(0.07モル)を滴下した。反応混合物を室温で1日放置後、水(300ml)、HCl(10ml)を加えて撹拌すると結晶が析出した。析出した結晶を濾取し、得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン=25/75)で分離し、減圧下で濃縮することによりA−10−yが5g得られた。A−10−yの構造はNMR等により確認した。
【0029】
次に、300mlの三つ口フラスコに、還元Fe(0.04モル)、NH4Cl(0.004モル)、水(2ml)を入れ、90℃で撹拌した。ここへA−10−y(0.008モル)をイソプロピルアルコール(100ml)に溶かしたものを滴下し、2時間攪拌した後、反応混合物をセライトを使用してろ過した。得られたろ液にHClaq(8ml)を加えて減圧下で濃縮することにより、A−10−zの白色粉末が2.1g得られた。A−10−zの構造はNMR等により確認した。
【0030】
次に、100mlのビーカーに、A−10−z(0.002モル)、メタノール(30ml)を入れ、氷浴下でNaNO2(0.0025モル)を水(3ml)に溶解したものを加えた。1時間撹拌した後、NaHCO3aqを加えてpHを9とすることにより黄色沈澱が生成した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、目的物であるジアゾ化合物A−10が0.5g得られた。化合物Ph−NH−Zの解離性HのpKaは、13〜14である。
【0031】
<実施例3、化合物B−1の合成>
下記の合成スキームに従い、化合物B−1を合成した。
【0032】
【化11】
Figure 0004105821
【0033】
500mlのナスフラスコに、p−トルエンスルホニルクロライド(0.1モル)、ピリジン(100ml)を入れ、β−ナフチルアミンB−1−x(0.1モル)を加え撹拌した。2時間攪拌した後、反応混合物に水300mlを加え、攪拌下でHClaqをpH<5となるまで加えてpH調整を行い、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、HClaqで洗浄した後、メタノールで再結晶して、B−1−yが18g得られた。B−1−yの構造はNMR等により確認した。
【0034】
次に、500mlのビーカーに、B−1−y(0.05モル)、酢酸(100ml)を入れ、NaNO2(0.06モル)を加えた。3時間撹拌した後、水300mlを加えて結晶を析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、メタノールで再結晶して、B−1−zが8g得られた。B−1−zの構造はNMR等により確認した。
【0035】
次に、500mlのビーカーに、B−1−z(0.02モル)、NaOH(0.04モル)、水(200ml)を入れて撹拌した。反応混合物に、Na224(0.04モル)を添加し、3時間撹拌した後、析出した結晶をろ過により取り出した。得られた粗結晶を水で洗浄後アセトンに溶解し、HClaq(3ml)を加えると再び結晶が析出した。さらに酢酸エチルを加えて、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、酢酸エチルで洗浄して、B−1−αが6g得られた。B−1−αの構造はNMR等により確認した。
【0036】
次に、100mlのビーカーに、B−1−α(0.002モル)メタノール(30ml)を入れ、氷浴下でNaNO2(0.0025モル)を水(3ml)に溶解したものを加えた。1時間撹拌した後、NaHCO3aqを加え、pHを8とすると黄色沈澱が生成した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、目的物であるB−1が0.6g得られた。化合物Ph−NH−Zの解離性HのpKaは、12〜13である。
【0037】
<実施例4、化合物C−3の合成>
下記の合成スキームに従い、化合物C−3を合成した。
【0038】
【化12】
Figure 0004105821
【0039】
500mlのナスフラスコに、p−トルエンスルホニルクロリド(0.1モル)、ピリジン(100ml)を入れ、C−3−x(0.1モル)を加え撹拌した。1日放置後、この反応混合物に水300mlを加え、攪拌下でHClaqをpH<5となるまで加えてpH調整を行い、NaClを加えて結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、飽和NaCl水で再結晶化して、C−3−yが20g得られた。C−3−yの構造はNMR等により確認した。
【0040】
次に、500mlの三つ口フラスコに、C−3−y(0.05モル)、酢酸(100ml)を入れ、70%HNO3aq(0.05モル)を滴下した。室温で1日放置後、飽和NaCl水(300ml)を加えて攪拌すると結晶が析出した。得られた粗結晶を再度飽和NaCl水で再結晶化して、C−3−zが7g得られた。C−3−zの構造はNMR等により確認した。
【0041】
次に、300mlの三つ口フラスコに、還元Fe(0.04モル)、NH4Cl(0.004モル)、イソプロピルアルコール(100ml)を入れ、90℃で撹拌した。ここへC−3−z(0.008モル)を水(10ml)に溶解したものを少しずつ加えた。2時間撹拌した後、反応混合物をセライトを使用してろ過した。得られたろ液にHClaq(8ml)を加えると結晶が析出した。析出した結晶をろ過により取り出し、C−3−αが3.5g得られた。C−3−αの構造はNMR等により確認した。
【0042】
次に、200mlのビーカーに、C−3−α(0.004モル)、水(30ml)を入れ、氷冷下でNaNO2(0.005モル)を水(6ml)に溶解したものを加えた。1時間撹拌した後、NaHCO3aqを加えてpHを9とすると、黄色沈澱が生成した。沈殿物をろ過により取り出し、乾燥して、C−3−βが1.0g得られた。C−3−βの構造はNMR等により確認した。
【0043】
次に、200mlのナスフラスコに、クロロスルホン酸(0.005モル)、チオニルクロライド(0.002モル)を入れ、氷冷下でC−3−β(0.002モル)を加えると、ただちに反応し、反応混合物が溶液化した。1時間撹拌した後、反応混合物を氷水に投入し、析出した結晶をろ過により取り出し、乾燥してC−3−γが0.7g得られた。C−3−γの構造はNMR等により確認した。
【0044】
次に、100mlのビーカーに、C−3−γ(0.001モル)、アセトン(30ml)、p−クレゾール(0.001モル)を入れ、氷冷下でトリエチルアミン(0.001モル)を加えた。1時間撹拌した後、反応混合物に水50mlを加えて、結晶を十分に析出させた。析出した結晶をろ過により取り出し、乾燥して目的物であるC−3が0.4g得られた。
【発明の効果】
本発明によれば、ヒートモード記録用のポジ型平版印刷用材料に適した新規なジアゾ化合物を提供することができる。

Claims (1)

  1. 下記構造(A−1),(A−10)、(B−1)又は(C−3)で表されるジアゾ化合物。
    Figure 0004105821
JP13549399A 1999-05-17 1999-05-17 ジアゾ化合物 Expired - Fee Related JP4105821B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13549399A JP4105821B2 (ja) 1999-05-17 1999-05-17 ジアゾ化合物
US09/572,568 US6451497B1 (en) 1999-05-17 2000-05-15 Positive photosensitive composition
AT00110208T ATE256106T1 (de) 1999-05-17 2000-05-17 Positiv arbeitende lichtempfindliche zusammensetzung
DE60007023T DE60007023T2 (de) 1999-05-17 2000-05-17 Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung
EP00110208A EP1053999B1 (en) 1999-05-17 2000-05-17 Positive photosensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13549399A JP4105821B2 (ja) 1999-05-17 1999-05-17 ジアゾ化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000327648A JP2000327648A (ja) 2000-11-28
JP4105821B2 true JP4105821B2 (ja) 2008-06-25

Family

ID=15153036

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13549399A Expired - Fee Related JP4105821B2 (ja) 1999-05-17 1999-05-17 ジアゾ化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4105821B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7087751B2 (en) 2001-01-18 2006-08-08 Schering Corporation Synthesis of temozolomide and analogs

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000327648A (ja) 2000-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6345254A (ja) アルデヒト官能基を有するカルバゾ−ルおよびその製造方法
KR20060129007A (ko) 복소다환 화합물 및 색소
EA004244B1 (ru) Новый стабильный кристалл производного тиазолидиндиона и способ его получения
JP4105821B2 (ja) ジアゾ化合物
TW455573B (en) Process for preparing 0-(3-amino-2-hydroxy-propyl)-hydroxymic acid halides
JPH10195319A (ja) ポリメチンシアニン化合物の製造方法
JPH06184109A (ja) スクアリリウム系化合物
JP3432880B2 (ja) 光学活性アザスピロ化合物の製法
RU2379283C2 (ru) Способ получения устойчивых солей арилдиазония
JPS60132951A (ja) スルホンアミド誘導体の改良された製造方法
JPS60136572A (ja) トリアゾロン誘導体の製造方法
JP4162320B2 (ja) ベンゾイソチアゾール誘導体の製造方法
JP3986065B2 (ja) 新規なアジド基を有するシンナムアルデヒド化合物
JP2004300137A (ja) 2−(ジクロロフェニル)−4−フェニルイミダゾール化合物
JP3711625B2 (ja) 1H−ピラゾロ[3,2−c]−1,2,4−トリアゾール系化合物の製造方法
JP3810820B2 (ja) オキサジン誘導体の製造方法
JPH10251259A (ja) 1,4,6,9−テトラアザ−5,10−デヒドロフェナジン誘導体及びその製造法
JP2006052355A (ja) オキソノール化合物の製造方法
JP2006282542A (ja) クロコン酸またはその塩の製造方法
JP2004224771A (ja) 1,1,5,5−テトラアルキルカルボヒドラジド類の合成方法
JPS585183B2 (ja) ホウコウゾクアミンノ セイゾウホウホウ
JPH08151374A (ja) 5−ブロモ−2−フルフラール誘導体の製造方法
JPS6284068A (ja) 3−位が置換された2(3h)−ベンズチアゾロン類の製造方法
JP2006036683A (ja) フェニルナフチルイミダゾール化合物
JPH0713060B2 (ja) フェニルセリン誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040820

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070731

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071001

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071023

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080325

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080328

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees