JP2013211392A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】太陽電池10の製造方法は、エッチピット32を有する基板21上に、パターニング層であるn型領域25、p型領域26、及びアライメントマークである第1マーク71,81、第2マーク72,82を形成する第1の工程と、基板21上に照明光αを照射してアライメントマークを検出し、パターニング層同士の位置ずれを確認する第2の工程とを備える。そして、第2の工程では、照明光αの基板21に対する入射角θを60°以上90°未満の範囲で設定する。
【選択図】図13
Description
なお、実施形態において参照する図面は、模式的に記載されたものであり、図面に描画された構成要素の寸法比率などは、現物と異なる場合がある。具体的な寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
図5〜図11,19では、太陽電池10の製造途中におけるC‐C線断面に対応する断面を示す。また、以下では、i型非晶質半導体層22等の非晶質半導体層を非晶質シリコン層、保護層24及び絶縁層31をSiN層として説明する。
まず、図19に示すように、n側電極40及びp側電極50の形状に合わせてパターニングされた透明導電層43,53を形成する。透明導電層43,53は、重なり領域26*上で互いに分離されており、この分離部分が分離溝60となる。透明導電層43,53は、例えば、スパッタリング法やCVDにより、メタルマスク等を用いてパターニングされたTCO層を直接形成してもよいし、n型領域25及びp型領域26の全域にTCO層を形成してからエッチングして形成されてもよい。TCO層は、例えば、塩化水素(HCl)水溶液やシュウ酸水溶液を用いてエッチングできる。
Claims (8)
- 凹状部を有する半導体基板上に、複数のパターニング層及びアライメントマークを形成する第1の工程と、
前記半導体基板上に照明光を照射して前記アライメントマークを検出し、前記パターニング層同士の位置ずれを確認する第2の工程と、
を備え、
前記第2の工程では、前記照明光の前記半導体基板に対する入射角を60°以上90°未満の範囲で設定する、半導体装置の製造方法。 - 前記第2の工程では、前記凹状部の寸法に基づいて前記入射角を設定する、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の工程では、前記入射角を75°以上90°未満の範囲で設定する、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹状部は、平均深さが5μm以上10μm以下、底面の平均直径が2μm以上30μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の工程では、前記平均深さ及び前記平均直径の少なくとも一方に基づいて前記入射角を設定する、請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の工程では、前記平均直径に対する前記平均深さの比率が小さくなるほど、前記入射角を大きくする、請求項5に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体装置は、太陽電池である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記凹状部は、前記半導体基板の異方性エッチングにより形成されたエッチピットである、請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
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