JP2013210680A - 回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 - Google Patents
回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013210680A JP2013210680A JP2013130998A JP2013130998A JP2013210680A JP 2013210680 A JP2013210680 A JP 2013210680A JP 2013130998 A JP2013130998 A JP 2013130998A JP 2013130998 A JP2013130998 A JP 2013130998A JP 2013210680 A JP2013210680 A JP 2013210680A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- substrate
- convex portions
- photosensitive film
- diffractive optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
- B23K26/0673—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing into independently operating sub-beams, e.g. beam multiplexing to provide laser beams for several stations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/083—Devices involving movement of the workpiece in at least one axial direction
- B23K26/0853—Devices involving movement of the workpiece in at least in two axial directions, e.g. in a plane
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1838—Diffraction gratings for use with ultraviolet radiation or X-rays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明に係る回折光学素子は、入射光に対して透明な基板(2)と、複数の凸部(3b)及び凹部(3a)を含み、上記基板の一面側に設けられた回折構造部(3)と、上記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部(4a)を含み、上記回折構造部の上面又は上記基板の他面側の少なくとも何れかに設けられたグリッド部(4)と、を含み、上記回折構造部の断面形状が矩形であり、上記グリッド部が誘電体材料からなる、回折光学素子(1)である。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明を適用した一実施形態の回折光学素子の断面構造を示す模式図である。図1に示す本実施形態の回折光学素子(光学素子)1は、基板2と、回折構造部3と、グリッド部(非回折構造部)4と、を備える。
本実施形態では、各微小凸部4aの構成材料は石英ガラスである。
このような効率の差異が生じるのは、各凹部3a及び凸部3bと各微小凸部4aとを平行とした構成では、凹部3aと凸部3bとの間の不連続な段差の近傍で、微小凸部4aの形成不良が発生しやすくなるためであると考えられる。
図示のように、回折構造部3の各凸部3bの相互間隔(凹凸構造の周期)をδ(nm)、グリッド部4の各微小凸部4aの相互間隔(グリッド周期)をd(nm)、入射光の波長をλ(nm)とする。
d<λ/n かつ λ<δ (1)
ただし、nは回折構造部3を構成する素材の屈折率である。この素材が石英ガラスの場合、可視光に対する屈折率nは1.46前後である。
また、凹凸構造の周期δは、入射光の波長λの数倍〜10倍程度であればよい。これらの関係を満たすことにより、凸部3bよりもサイズの小さい微小凸部4aを実現できる。
h=0.25λ/neff (2)
ただし、neffはグリッド部4における、波長λに対する等価屈折率である。
このような条件でグリッド部4を形成すれば、グリッド部4によって反射光をほぼゼロとすることができる。例えば、λ=532nmとすると、グリッド(微小凸部4a)の延在方向と平行な直線偏光に対してneff=1.25となり、h=108nmとなる。なお、等価屈折率の算出方法については、後段の第2実施形態において詳細に説明している。
g=λ/2(n−1) (3)
ただし、回折構造部3の素材の屈折率をnとする。(3)式は、波長λに対する適正な深さが存在することを意味する。例えば、λ=532nm、n=1.46とすると、g=578nmとなる。
本実施形態の回折光学素子1は以上のような構成を有しており、次にこの回折光学素子1の製造方法の一例について説明する。
図6は、回折光学素子1の製造方法の一例を示す模式工程図である。回折光学素子1の断面の一部が拡大して示されている。
感光膜9は、例えばネガ型又はポジ型のレジスト膜である。感光膜9は、例えばスピンコート法を用いて形成することができる。この感光膜9の膜厚は適宜設定すればよいが、少なくとも各凹部3a及び凸部3bに重畳する領域を全て覆い、かつ図示のように膜表面がほぼ平坦となるようにすることが望ましい。この場合、回折構造部3の上部(凸部3bに対応する領域)における感光膜9の膜厚と回折構造部3の下部(凹部3aに対応する領域)における感光膜9の膜厚との差は、上記した回折構造部3の深さgとほぼ等しい。
このような回折光学素子は、特に、現時点において適当な反射防止膜の素材が存在しない、紫外線あるいは赤外線領域の光を利用する場合に適している。
なお、説明のために、図中では分岐ビームの入射角度を実際よりも大きく描いてある。実際には、各分岐ビームは、ほぼ垂直に近い角度で入射する。
具体的には、基板の一面上に、使用する光波長に対して透明なポリマー(高分子樹脂)膜を形成し、その後このポリマー膜に対してフォトマスク露光及びウェットエッチングを行うことによって、上記と同様な光学素子を形成することも可能である。この方法によって形成した光学素子の構造例を図9に示す。図9に示す光学素子201は、ガラス等の基板202の一面側に、ポリマー膜を用いて形成された回折構造部203及びグリッド部204が配置されている。回折構造部203は凹部203a及び凸部203bを含み、これらの凹部203a及び凸部203bの表面に沿って、複数の微小凸部204aからなるグリッド部204が配置されている。
なお、図9に示した回折光学素子201においても、上記図7に示した実施形態と同様に基板の両面にグリッド部を設けてもよい。
また、基板上に他の膜(例えば、SiO2などの無機膜)を形成し、この膜を選択的にエッチングすることにより回折構造部を形成することもできる。この方法によって形成された光学素子の構造例を図10に示す。図10に示す光学素子301は、ガラス等の基板302の一面側に、SiO2などの膜を用いて形成された回折構造部303が配置されている。回折構造部303は凹部303a及び凸部303bを含み、これらの凹部303a及び凸部303bの表面に沿って、複数の微小凸部304aからなるグリッド部304が配置されている。
なお、図10に示した回折光学素子301においても、上記図7に示した実施形態と同様に基板の両面にグリッド部を設けてもよい。
次に、本発明に係る回折光学素子の製造方法の第1及び第2変形例について、図11から図13を参照しつつ説明する。
図11及び図12は、回折光学素子の製造方法の変形例を示す模式工程図である。これらの図には、回折光学素子1の断面の一部が拡大して示されている。
基板2は、例えば上記のように石英ガラス基板であり、その板厚は例えば1.2mmである。また、凹部3aと凸部3bとの段差(すなわち回折構造部3の深さ)は、例えば上記のように578nmである。この深さgは、エッチング時間等によって制御する。
平行平板11の少なくとも液体10と接する面は、高い平坦性(例えば、数nmレベル)を有することが望ましい。平行平板11は、例えば石英ガラス基板からなる。また、図示のように、平行平板11は、後述する複数のレーザービームが入射する側の面上に反射防止膜13を有することも好ましい。反射防止膜13とは、例えば誘電体多層膜などである。
なお、例示した各屈折率は後述するレーザーの波長(266nm)における値である。
その後、感光膜パターン9aが除去される(図12(B))。これにより、図示のように基板2の一面上に、回折構造部3の各凹部3a及び凸部3bの表面に沿ってグリッド部4(すなわち、各微小凸部4a)が形成される。
すなわち、図11(C)に示したレーザー干渉露光を行う際に、干渉光に対する基板2の一面の相対的位置を90度違えて2度の露光を行う。具体的には、干渉光と基板2の一面との相対的位置を変えて2度のレーザー干渉露光を行うにより、感光膜9に二次元格子状の潜像パターンを形成することができる。このような潜像パターンを用いてエッチングを行うことにより、二次元グリッドのグリッド部4を形成することができる。
また、上述した第1変形例に係る製造方法では、平行平板11を用いて高屈折率の液体10を保持していたが、この液体10に代えて高屈折率の水溶性膜を用いることもできる。これにより、平行平板11の使用を省略することが可能となる。以下、製造方法の第2変形例として、水溶性膜を用いた製造方法を図13を参照しつつ説明する。
これにより得られた感光膜パターン9aをマスクとしてエッチングが行われ(図12(A)参照)、感光膜パターン9aのパターンが基板2に転写される。その後感光膜パターン9aが除去される(図12(B)参照)。それにより、基板2の一面上に、回折構造部3の各凹部3a及び凸部3bの表面に沿ってグリッド部4(すなわち、各微小凸部4a)が形成される。
したがって、変形例に係る製造方法によれば、凹部3a及び凸部3bが形成されていることにより平坦性が低くなっている表面においても良好な露光を実現し、良質な回折光学素子を製造することが可能である。
次に、本発明の第2の実施形態である回折光学素子について、図面を参照しつつ説明する。
図14は、第2の実施形態に係る回折光学素子の断面構造を示す模式図である。図14に示す本実施形態の回折光学素子401は、基板402と、回折構造部403と、グリッド部(非回折構造部)404と、を備えている。
図15(A)に示すように、回折構造部403は、一方向(図示のY方向)に延在する複数の凹部403a及び凸部403bを有する。凹部403a及び凸部403bは、図示のようにストライプ形状となっており、X方向に沿って周期的に配列されている。
なお、凹部403a及び凸部403bは、図15(A)に示す一次元状の配列(一次元グリッド)に限定されず、図15(B)に示す二次元状の配列(二次元グリッド)であってもよい。
図16の各図に示すように、本実施形態の回折光学素子401においても、回折構造部403とグリッド部404との相互の配置関係は、図16(A)〜図16(C)に示す各態様を採用することができる。
図16(B)に示す例の回折構造部403では、それぞれ図示のY方向に沿って延在する凹部403a及び凸部403bがX方向に沿って配置されている。一方、グリッド部404では、図示Y方向に対して45°の角度で交差する方向に延在する微小凸部4aが、この交差方向と直交する方向に沿って配置されている。
図17は、回折構造部403及びグリッド部404の一部を拡大して示した模式断面図である。なお、説明の便宜上、ハッチングが省略されている。
図示のように、回折構造部403の凸部403bの相互間隔(凹凸構造の周期)をδ(nm)、グリッド部404の微小凸部404aの相互間隔(グリッド周期)をd(nm)、入射光の波長をλ(nm)とする。
d<λ/n かつ λ<δ (4)
ただし、nは回折構造部403を構成する素材の屈折率である。この素材が石英ガラスの場合、可視光に対する屈折率nは1.46前後である。また、入射光は回折光学素子401に対して垂直に入射するものとする。
すなわち、グリッド周期dは、入射光の波長λを屈折率nで割った値より小さい値であればよい。また、凹凸構造の周期δは、入射光の波長λより大きな値であればよい。これらの関係を満たすことにより、凸部403bよりもサイズの小さい微小凸部404aを実現できる。
h=0.25λ/neff (5)
ただし、neffは波長λに対するグリッド部404の等価屈折率であり、以下の(6)式、(7)式により定められる値である。
n(TM)=1/√[f/e1+(1−f)/e2] (7)
ただし、n(TE)はTE偏光(電場方向が微小凸部404aの延在方向である偏光)に対する等価屈折率(=neff)、n(TM)はTM偏光に対する等価屈折率(=neff)である。また、fはグリッド部404の充填率であり、微小凸部404aのピッチPと幅wとを用いたf=w/Pなる式で表される(図18(C)参照)。また、e1はグリッド部404の誘電率、e2はグリッド部404の周囲の媒体の誘電率である。
図18のグラフは、グリッド部404が図2(A)に示した一次元グリッドであり、その断面形状が矩形である条件において、厳密な結合波解析により算出したものである。
g≧λ/(n−1) (8)
ただし、nは回折構造部403の素材の屈折率である。(8)式は、波長λに対する適正な深さが存在することを意味する。例えば、λ=266nm、n=1.50とすると、g≧532nmとなる。
「参考文献2」 M.N.Vesperinas, R.Navarro, and F.J.Fuentes: J.Opt.Soc.A.A5(1988)30.
本実施形態の回折光学素子401は以上のような構成を有しており、次にこの回折光学素子401の製造方法の一例について説明する。
図20は、回折光学素子401の製造方法の一例を示す模式工程図である。同図には、回折光学素子401の断面の一部が拡大して示されている。
より詳しくは、微小凸部404aの高さが大きい場合には、図20(C)に示した工程で基板402に深い溝を形成する必要があり、図20(B)において厚い感光膜パターン409aを形成しなければならない。そうすると、感光膜409を露光する際の露光ムラが生じやすくなり、また感光膜パターン409aが厚さ方向に細長い形状となって傾きやすくなる。その結果、基板402上に形成される微小凸部404aの高さが不均一になりやすくなる。
さらに、本実施形態の回折光学素子401では、高次の回折光の強度が十分に弱いことから、高次の回折光によるワーク(被加工物)のキズも発生しないため、高次の回折光をワークから遮断するための遮光マスクが不要になるという利点もある。
具体的には、基板の一面上に、使用する光波長に対して透明なポリマー(高分子樹脂)膜を形成し、その後このポリマー膜に対してフォトマスク露光及びウェットエッチングを行うことによって、上記と同様な光学素子を形成することも可能である。この方法によって形成した光学素子の構造例を図22に示す。図22に示す光学素子601では、ガラス等の基板602の一面側に、ポリマー膜を用いて形成された回折構造部603及びグリッド部604が配置されている。回折構造部603は凹部603a及び凸部603bを含み、これらの凹部603a及び凸部603bの表面に沿って、複数の微小凸部604aからなるグリッド部604が配置されている。
なお、図22に示した回折光学素子601においても、図21に示した実施形態と同様に基板の両面にグリッド部を設けることができる。
また、基板上に他の膜(例えば、SiO2などの無機膜)を形成し、この膜を選択的にエッチングすることにより回折構造部を形成することもできる。この方法によって形成された光学素子の構造例を図23に示す。図23に示す光学素子701では、ガラス等の基板702の一面側に、SiO2などの膜を用いて形成された回折構造部703が配置されている。回折構造部703は凹部703a及び凸部703bを含み、これらの凹部703a及び凸部703bの表面に沿って、複数の微小凸部704aからなるグリッド部704が配置されている。
なお、図23に示した回折光学素子701においても、図21に示した実施形態と同様に基板の両面にグリッド部を設けることができる。
また、回折光学素子は、(a)基板と、(b)複数の凸部又は複数の凹部を含み、上記基板の一面側に設けられた回折構造部と、(c)上記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含み、上記回折構造部の上面又は上記基板の他面の少なくとも何れかに設けられたグリッド部と、を含み、上記回折構造部の断面形状が矩形であり、上記グリッド部が誘電体材料からなる、回折光学素子である。
また、基板と、上記基板の一面側に設けられた複数の凸部を含む回折構造部と、上記回折構造部の上面又は上記基板の他面の少なくとも一方に誘電体材料を用いて形成され、上記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、上記基板上に複数の上記凸部を覆う感光膜を形成する工程と、屈折率が1より大きく上記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である液体を上記感光膜を覆うように配置する工程と、上記液体を挟んで、透明な平行平板を上記基板と対向配置する工程と、上記平行平板及び上記液体を介して上記感光膜を露光する工程と、上記液体及び上記平行平板を除去した後に上記感光膜を現像する工程と、上記感光膜のパターンをマスクとして上記基板をエッチングする工程と、を有する回折光学素子の製造方法である。
また、基板と、上記基板の一面側に設けられた複数の凸部を含む回折構造部と、上記回折構造部の上面又は上記基板の他面の少なくとも一方に誘電体材料を用いて形成され、上記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、上記基板上に複数の上記凸部を覆う感光膜を形成する工程と、屈折率が1より大きく上記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である水溶性膜を上記感光膜を覆うように配置する工程と、上記水溶性膜を介して上記感光膜を露光する工程と、上記感光膜を現像する工程と、上記感光膜のパターンをマスクとして上記基板をエッチングする工程と、を有する回折光学素子の製造方法である。
Claims (13)
- 基板と、
前記基板の一面側に設けられた、複数の凸部を含む回折構造部と、
前記回折構造部の上面又は前記基板の他面の少なくとも何れかに設けられた、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、
を含み、前記回折構造部の断面形状が矩形であり、前記グリッド部が誘電体材料からなる、
回折光学素子。 - 基板と、
前記基板の一面側に設けられた周期的な曲面形状を有する複数の凸部を含む回折構造部と、
前記回折構造部の上面又は前記基板の他面の少なくとも一方に設けられ、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、
を有する回折光学素子。 - 前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々が一方向に延在する、
請求項1又は2に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々の延在方向とが略平行である、
請求項3に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々の延在方向とが交差する、
請求項3に記載の回折光学素子。 - 前記グリッド部の前記複数の微小凸部の各々が平面的に分布して配列される、
請求項1又は2に記載の回折光学素子。 - 前記グリッド部の深さが前記回折構造部の深さよりも浅い、
請求項1又は2に記載の回折光学素子。 - 前記回折構造部は、前記入射光を複数のビームに分岐する、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の回折光学素子。 - 請求項8に記載の回折光学素子にレーザー光を入射させて当該レーザー光を複数のビームに分岐し、当該複数のビームを対象体へ照射する、
レーザー加工方法。 - 基板と、前記基板の一面側に設けられた複数の凸部を含む回折構造部と、前記回折構造部の上面又は前記基板の他面の少なくとも一方に誘電体材料を用いて形成され、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、
前記基板上に複数の前記凸部を覆う感光膜を形成する工程と、
屈折率が1より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である液体を前記感光膜を覆うように配置する工程と、
前記液体を挟んで、透明な平行平板を前記基板と対向配置する工程と、
前記平行平板及び前記液体を介して前記感光膜を露光する工程と、
前記液体及び前記平行平板を除去した後に前記感光膜を現像する工程と、
前記感光膜のパターンをマスクとして前記基板をエッチングする工程と、
を有する回折光学素子の製造方法。 - 一面側に反射防止膜が形成された前記平行平板を用いる、請求項10に記載の回折光学素子の製造方法。
- 基板と、前記基板の一面側に設けられた複数の凸部を含む回折構造部と、前記回折構造部の上面又は前記基板の他面の少なくとも一方に誘電体材料を用いて形成され、前記複数の凸部の各々よりも小さい複数の微小凸部を含むグリッド部と、を有する回折光学素子の製造方法であって、
前記基板上に複数の前記凸部を覆う感光膜を形成する工程と、
屈折率が1より大きく前記感光膜の屈折率と同等かそれより低い値である水溶性膜を前記感光膜を覆うように配置する工程と、
前記水溶性膜を介して前記感光膜を露光する工程と、
前記感光膜を現像する工程と、
前記感光膜のパターンをマスクとして前記基板をエッチングする工程と、
を有する回折光学素子の製造方法。 - 前記感光膜を現像する工程を前記水溶性膜を除去した後に行う、請求項12に記載の回折光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013130998A JP2013210680A (ja) | 2007-11-06 | 2013-06-21 | 回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007289050 | 2007-11-06 | ||
JP2007289050 | 2007-11-06 | ||
JP2013130998A JP2013210680A (ja) | 2007-11-06 | 2013-06-21 | 回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008281269A Division JP5487592B2 (ja) | 2007-11-06 | 2008-10-31 | レーザー加工方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013210680A true JP2013210680A (ja) | 2013-10-10 |
Family
ID=40866153
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008281269A Expired - Fee Related JP5487592B2 (ja) | 2007-11-06 | 2008-10-31 | レーザー加工方法 |
JP2013130998A Withdrawn JP2013210680A (ja) | 2007-11-06 | 2013-06-21 | 回折光学素子とその製造方法、及びレーザー加工方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008281269A Expired - Fee Related JP5487592B2 (ja) | 2007-11-06 | 2008-10-31 | レーザー加工方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100020400A1 (ja) |
JP (2) | JP5487592B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018072386A (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-10 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子、保持具、光照射装置 |
JP2022506595A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | グレートーンリソグラフィと傾斜エッチングを使用した、深さ調節された傾斜格子 |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI453398B (zh) * | 2009-11-19 | 2014-09-21 | Seiko Epson Corp | 感知晶片、感知器匣及分析裝置 |
EP2325634B1 (en) | 2009-11-19 | 2015-03-18 | Seiko Epson Corporation | Sensor chip, sensor cartridge, and analysis apparatus |
JP5560891B2 (ja) | 2010-05-13 | 2014-07-30 | セイコーエプソン株式会社 | 光デバイス及び分析装置 |
US20130089662A1 (en) * | 2010-07-12 | 2013-04-11 | Dexerials Corporation | Method of producing master plate, method of producing alignment film, method of producing retardation film, and method of producing display device |
JP5965194B2 (ja) * | 2012-04-06 | 2016-08-03 | 株式会社フジクラ | 微細構造体の形成方法 |
KR101389320B1 (ko) * | 2012-08-09 | 2014-04-29 | 한국표준과학연구원 | 직접레이저 노광법을 이용한 위상회절소자 제조장치, 위상회절소자 제조방법 및 직접레이저 노광법을 이용한 위상회절소자 |
KR101576016B1 (ko) | 2014-05-29 | 2015-12-10 | 한국기계연구원 | 교류전장원을 이용한 레이저 가공 장치 및 방법 |
JP6357892B2 (ja) * | 2014-06-09 | 2018-07-18 | 凸版印刷株式会社 | 光学素子 |
US10241244B2 (en) | 2016-07-29 | 2019-03-26 | Lumentum Operations Llc | Thin film total internal reflection diffraction grating for single polarization or dual polarization |
US10473834B2 (en) * | 2016-11-21 | 2019-11-12 | Stmicroelectronics (Research & Development) Limited | Wafer level microstructures for an optical lens |
FR3059110A1 (fr) | 2016-11-21 | 2018-05-25 | Stmicroelectronics (Crolles 2) Sas | Diffuseur optique et son procede de fabrication |
US20190067049A1 (en) * | 2017-08-23 | 2019-02-28 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Radiative wafer cutting using selective focusing depths |
CN108802881B (zh) * | 2018-05-21 | 2022-03-08 | 苏州大学 | 一种高衍射效率光栅结构和制备方法 |
US11391957B2 (en) | 2018-10-29 | 2022-07-19 | Stmicroelectronics (Research & Development) Limited | Embedded transmissive diffractive optical elements |
KR102070524B1 (ko) * | 2018-12-31 | 2020-01-29 | 조정기 | 시야각 제한 필름을 제조하기 위한 방법 및 장치 |
CN111830605A (zh) * | 2019-04-18 | 2020-10-27 | 上旸光学股份有限公司 | 具有激光诱发周期表面微结构的光学镜片 |
US12019252B2 (en) | 2019-11-26 | 2024-06-25 | Analog Devices, Inc. | Optical element with diffractive focusing features and diffractive anti-reflection features |
CN111055009B (zh) * | 2019-12-29 | 2020-11-17 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 倒四棱锥台/四棱锥形状减反微纳结构的制造方法及系统 |
US11662524B2 (en) * | 2020-03-13 | 2023-05-30 | Applied Materials, Inc. | Forming variable depth structures with laser ablation |
JP2022144381A (ja) * | 2021-03-19 | 2022-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 照明装置およびプロジェクター |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01246509A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-10-02 | Kuraray Co Ltd | 偏光素子を含む光学系からなる装置 |
JPH01252902A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-09 | Kuraray Co Ltd | 低反射回折格子およびその作製方法 |
JPH06265710A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-09-22 | Canon Inc | 回折格子 |
JPH0895253A (ja) * | 1994-09-21 | 1996-04-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水溶性膜材料 |
JPH08240802A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Omron Corp | 光学素子およびその製造方法 |
JPH09153446A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Sharp Corp | 干渉露光装置およびそれを用いた干渉露光方法 |
JP2002062419A (ja) * | 2000-06-07 | 2002-02-28 | Canon Inc | 回折光学素子、該回折光学素子を有する光学機器 |
JP2002341124A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Alps Electric Co Ltd | 回折格子部材 |
JP2003025085A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-01-28 | Seiko Epson Corp | レーザー加工方法及びレーザー加工装置 |
JP2003121619A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-04-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光学素子及びその製造方法 |
JP2003344630A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Alps Electric Co Ltd | 光学部材 |
JP2004145064A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折光学素子の製造方法、回折光学素子、光学系、及び光ピックアップ装置 |
JP2005259235A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ピックアップ |
JP2006185562A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ピックアップ用の光学素子 |
WO2008156009A1 (ja) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Alps Electric Co., Ltd. | 光学素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4920236B1 (ja) * | 1970-07-28 | 1974-05-23 | ||
JP2002263876A (ja) * | 1993-06-04 | 2002-09-17 | Seiko Epson Corp | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
EP0730746A1 (en) * | 1994-05-02 | 1996-09-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical transmissive component with anti-reflection gratings |
JPH0829604A (ja) * | 1994-07-11 | 1996-02-02 | Canon Inc | 領域を限定した回折格子パターンの作製方法 |
JPH0936017A (ja) * | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Hitachi Ltd | パタン形成方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 |
JP3460580B2 (ja) * | 1998-05-25 | 2003-10-27 | 日本ビクター株式会社 | ホログラムレンズの製造方法 |
JP3368225B2 (ja) * | 1999-03-11 | 2003-01-20 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子の製造方法 |
JP3371846B2 (ja) * | 1999-04-06 | 2003-01-27 | 日本電気株式会社 | ホログラム素子 |
US6590695B1 (en) * | 2002-02-26 | 2003-07-08 | Eastman Kodak Company | Micro-mechanical polarization-based modulator |
JP4250906B2 (ja) * | 2002-04-23 | 2009-04-08 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光学素子 |
EP1529230A4 (en) * | 2002-06-28 | 2010-06-16 | Technion Res & Dev Foundation | GEOMETRICAL PHASE OPTICAL ELEMENTS WITH SPACE VARIATION DIFFERENTIAL WAVE SUBGENER DIFFRACTION NETWORKS |
TWI230834B (en) * | 2003-12-31 | 2005-04-11 | Ind Tech Res Inst | High-transmissivity polarizing module constituted with sub-wavelength structure |
US7619816B2 (en) * | 2004-12-15 | 2009-11-17 | Api Nanofabrication And Research Corp. | Structures for polarization and beam control |
JP2006178312A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Canon Inc | 表面反射型位相格子 |
KR100707165B1 (ko) * | 2005-06-11 | 2007-04-13 | 삼성전기주식회사 | 평면표시소자용 조명장치 및 이를 구비한 평면표시장치 |
JP5380796B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2014-01-08 | ソニー株式会社 | 偏光素子及び液晶プロジェクター |
US7944544B2 (en) * | 2007-06-07 | 2011-05-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device having a diffraction function layer that includes a flat portion and a non-flat portion with a grid disposed in the non-flat portion |
-
2008
- 2008-10-31 JP JP2008281269A patent/JP5487592B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-06 US US12/265,761 patent/US20100020400A1/en not_active Abandoned
-
2013
- 2013-06-21 JP JP2013130998A patent/JP2013210680A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01246509A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-10-02 | Kuraray Co Ltd | 偏光素子を含む光学系からなる装置 |
JPH01252902A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-09 | Kuraray Co Ltd | 低反射回折格子およびその作製方法 |
JPH06265710A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-09-22 | Canon Inc | 回折格子 |
JPH0895253A (ja) * | 1994-09-21 | 1996-04-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水溶性膜材料 |
JPH08240802A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Omron Corp | 光学素子およびその製造方法 |
JPH09153446A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Sharp Corp | 干渉露光装置およびそれを用いた干渉露光方法 |
JP2002062419A (ja) * | 2000-06-07 | 2002-02-28 | Canon Inc | 回折光学素子、該回折光学素子を有する光学機器 |
JP2002341124A (ja) * | 2001-05-18 | 2002-11-27 | Alps Electric Co Ltd | 回折格子部材 |
JP2003025085A (ja) * | 2001-07-12 | 2003-01-28 | Seiko Epson Corp | レーザー加工方法及びレーザー加工装置 |
JP2003121619A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-04-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光学素子及びその製造方法 |
JP2003344630A (ja) * | 2002-05-29 | 2003-12-03 | Alps Electric Co Ltd | 光学部材 |
JP2004145064A (ja) * | 2002-10-25 | 2004-05-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折光学素子の製造方法、回折光学素子、光学系、及び光ピックアップ装置 |
JP2005259235A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ピックアップ |
JP2006185562A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ピックアップ用の光学素子 |
WO2008156009A1 (ja) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Alps Electric Co., Ltd. | 光学素子及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018072386A (ja) * | 2016-10-24 | 2018-05-10 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子、保持具、光照射装置 |
JP2022506595A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-01-17 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | グレートーンリソグラフィと傾斜エッチングを使用した、深さ調節された傾斜格子 |
JP7277581B2 (ja) | 2018-11-07 | 2023-05-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | グレートーンリソグラフィと傾斜エッチングを使用した、深さ調節された傾斜格子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100020400A1 (en) | 2010-01-28 |
JP2009134287A (ja) | 2009-06-18 |
JP5487592B2 (ja) | 2014-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5487592B2 (ja) | レーザー加工方法 | |
US11855348B2 (en) | Metasurface-assisted 3D beam shaping using array of scatterers | |
KR100693024B1 (ko) | 미세 구조체의 제조 방법, 노광 장치, 전자 기기 | |
TWI764107B (zh) | 繞射光導板以及眼用佩戴品 | |
US10809435B2 (en) | Backlight unit, method for manufacturing the same and display device | |
US11086218B1 (en) | Method and apparatus for fabrication of large area 3D photonic crystals with embedded waveguides | |
JP6882316B2 (ja) | ワイヤグリッド偏光板製造方法 | |
JP2007057622A (ja) | 光学素子及びその製造方法、光学素子用形状転写型の製造方法及び光学素子用転写型 | |
JP5391670B2 (ja) | 微細構造体の製造方法 | |
WO2021230324A1 (ja) | 光学系装置および光学素子製造方法 | |
Lalanne et al. | Artificial media optical properties-subwavelength scale | |
US10509327B1 (en) | Variable neutral density filter for multi-beam interference lithography exposure | |
JP2022536694A (ja) | 格子結合器の片側パターン化を使用した光学接眼レンズ | |
JP2008170679A (ja) | 光束分岐素子および光束干渉光学系および光束干渉露光装置 | |
JP6221849B2 (ja) | 露光方法、微細周期構造体の製造方法、グリッド偏光素子の製造方法及び露光装置 | |
KR100471380B1 (ko) | 레이저 직접 묘화법을 이용한 광 도파로 제작방법 및 이를이용한 광 도파로 | |
US20150198812A1 (en) | Photo-Mask and Accessory Optical Components for Fabrication of Three-Dimensional Structures | |
JP5838622B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
JP2005084485A (ja) | 回折光学素子 | |
JP6259858B2 (ja) | ホログラフィック光学素子の製造方法及びこの方法によるホログラフィック光学素子を含む表示装置 | |
JPS62111203A (ja) | 形態屈折率双変調型位相格子 | |
JP2016111056A (ja) | 基板上構造体の製造方法及び基板上構造体 | |
JP2013011757A (ja) | 位相変調マスク、露光装置および露光方法 | |
US10914944B1 (en) | Anti-refraction cancelling prism for multi-beam interference lithography exposure | |
JP2017054006A (ja) | 光照射方法、基板上構造体の製造方法および基板上構造体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130719 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130719 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140515 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140603 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141219 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20150206 |