JP2013206992A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013206992A5 JP2013206992A5 JP2012072455A JP2012072455A JP2013206992A5 JP 2013206992 A5 JP2013206992 A5 JP 2013206992A5 JP 2012072455 A JP2012072455 A JP 2012072455A JP 2012072455 A JP2012072455 A JP 2012072455A JP 2013206992 A5 JP2013206992 A5 JP 2013206992A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- rotating member
- cleaning
- air
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 40
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 21
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012072455A JP6061484B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
| US13/721,352 US9460941B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-12-20 | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus including the substrate cleaning apparatus |
| TW101150669A TWI525675B (zh) | 2012-03-27 | 2012-12-27 | 基板清潔裝置及具備其之基板處理裝置 |
| KR1020130024972A KR101895630B1 (ko) | 2012-03-27 | 2013-03-08 | 기판 세정 장치 및 그것을 구비한 기판 처리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012072455A JP6061484B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013206992A JP2013206992A (ja) | 2013-10-07 |
| JP2013206992A5 true JP2013206992A5 (enExample) | 2014-12-25 |
| JP6061484B2 JP6061484B2 (ja) | 2017-01-18 |
Family
ID=49232912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012072455A Expired - Fee Related JP6061484B2 (ja) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9460941B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6061484B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101895630B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI525675B (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5847743B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2016-01-27 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体およびガスバリアフィルム |
| JP6181438B2 (ja) * | 2013-06-24 | 2017-08-16 | 株式会社荏原製作所 | 基板保持装置および基板洗浄装置 |
| JP6339203B2 (ja) | 2013-12-23 | 2018-06-06 | コリア リサーチ インスティチュート オブ ケミカル テクノロジーKorea Research Institute Of Chemical Technology | 無機・有機ハイブリッドペロブスカイト化合物の前駆物質 |
| US10037902B2 (en) | 2015-03-27 | 2018-07-31 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing device and substrate processing method |
| JP6726575B2 (ja) * | 2016-02-01 | 2020-07-22 | 株式会社Screenホールディングス | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 |
| US10276365B2 (en) | 2016-02-01 | 2019-04-30 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate cleaning device, substrate processing apparatus, substrate cleaning method and substrate processing method |
| JP6684191B2 (ja) * | 2016-09-05 | 2020-04-22 | 株式会社Screenホールディングス | 基板洗浄装置およびそれを備える基板処理装置 |
| JP7558043B2 (ja) * | 2020-11-30 | 2024-09-30 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| CN116705661B (zh) * | 2023-06-27 | 2024-10-08 | 若名芯装备(苏州)有限公司 | 一种基板单面和侧面清洗装置以及清洗方法、清洗流水线 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128737A (ja) * | 1982-01-27 | 1983-08-01 | Toshiba Corp | ウエハ乾燥装置 |
| US5435075A (en) * | 1992-04-07 | 1995-07-25 | Tokyo Electron Limited | Spindrier |
| US5487768A (en) * | 1994-01-31 | 1996-01-30 | Zytka; Donald J. | Minienvironment for material handling |
| JP3380663B2 (ja) | 1995-11-27 | 2003-02-24 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP3794808B2 (ja) * | 1998-01-12 | 2006-07-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| JP2004515053A (ja) | 2000-06-26 | 2004-05-20 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ウェーハ洗浄方法及び装置 |
| JP2002164314A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-06-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 回転支持板およびそれを用いた基板処理装置 |
| KR100551863B1 (ko) * | 2002-01-22 | 2006-02-14 | 도호 카세이 가부시키가이샤 | 기판 건조방법 및 장치 |
| US7011715B2 (en) | 2003-04-03 | 2006-03-14 | Applied Materials, Inc. | Rotational thermophoretic drying |
| JP4649820B2 (ja) * | 2003-04-08 | 2011-03-16 | 凸版印刷株式会社 | 回転塗布装置への清浄な空気の供給方法 |
| JP2006019584A (ja) | 2004-07-02 | 2006-01-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP4410119B2 (ja) * | 2005-02-03 | 2010-02-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置、塗布、現像装置及び洗浄方法 |
| JP2007115795A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板裏面のドライ洗浄方法とその装置 |
| JP5192206B2 (ja) | 2007-09-13 | 2013-05-08 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP4939376B2 (ja) | 2007-11-13 | 2012-05-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5091687B2 (ja) | 2008-01-08 | 2012-12-05 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5117365B2 (ja) * | 2008-02-15 | 2013-01-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 |
| JP5430873B2 (ja) * | 2008-04-16 | 2014-03-05 | 株式会社Sokudo | 基板洗浄装置およびそれを備えた基板処理装置 |
| KR101068754B1 (ko) * | 2008-04-16 | 2011-09-28 | 가부시키가이샤 소쿠도 | 기판세정장치 및 기판처리장치 |
| KR101958874B1 (ko) | 2008-06-04 | 2019-03-15 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판처리장치, 기판처리방법, 기판 파지기구, 및 기판 파지방법 |
| TWI550760B (zh) | 2008-06-04 | 2016-09-21 | 荏原製作所股份有限公司 | 基板處理裝置、基板處理方法、基板保持機構及基板保持方法 |
-
2012
- 2012-03-27 JP JP2012072455A patent/JP6061484B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-20 US US13/721,352 patent/US9460941B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2012-12-27 TW TW101150669A patent/TWI525675B/zh not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-03-08 KR KR1020130024972A patent/KR101895630B1/ko not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013206992A5 (enExample) | ||
| CN110838457B (zh) | 晶圆清洁设备与晶圆清洁方法 | |
| JP5606471B2 (ja) | 基板回転保持装置および基板処理装置 | |
| TWI456644B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JP2007523463A5 (enExample) | ||
| JP6618334B2 (ja) | 基板処理装置、膜形成ユニット、基板処理方法および膜形成方法 | |
| KR20120095787A (ko) | 기판 세정 장치, 기판 세정 방법, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 | |
| TW200814178A (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
| JP2013206993A5 (enExample) | ||
| JP2010287686A (ja) | 塗布、現像装置及び基板の裏面洗浄方法。 | |
| US11660643B2 (en) | Substrate cleaning device and substrate cleaning method | |
| CN109048644B (zh) | 晶圆的处理装置及处理方法、化学机械抛光系统 | |
| JP2011125756A5 (enExample) | ||
| JP2011151418A (ja) | 基板現像方法及びこれを行うための装置 | |
| JP7290695B2 (ja) | 超音波洗浄装置および洗浄具のクリーニング装置 | |
| CN209551448U (zh) | 晶圆的处理装置、化学机械抛光系统 | |
| CN209036280U (zh) | 化学机械抛光系统及晶圆的后处理单元 | |
| JP2007053154A (ja) | マスク基板用の洗浄装置及びそれを用いたマスク基板の洗浄方法 | |
| JP2015015284A (ja) | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | |
| CN111048442B (zh) | 基板清洗部件及基板清洗装置 | |
| JP2005123353A (ja) | ブラシおよび洗浄装置 | |
| JP2004356517A (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
| JP2016096337A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| CN210907218U (zh) | 一种pi膜清洁装置 | |
| JP2005310941A (ja) | スピンコータのカップ洗浄方法及びスピンコータ、並びに、カップ洗浄用のブラシ治具 |