JP2013200529A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013200529A5
JP2013200529A5 JP2012070292A JP2012070292A JP2013200529A5 JP 2013200529 A5 JP2013200529 A5 JP 2013200529A5 JP 2012070292 A JP2012070292 A JP 2012070292A JP 2012070292 A JP2012070292 A JP 2012070292A JP 2013200529 A5 JP2013200529 A5 JP 2013200529A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure light
exposure
eye lens
fly
lenses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012070292A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2013200529A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2012070292A priority Critical patent/JP2013200529A/ja
Priority claimed from JP2012070292A external-priority patent/JP2013200529A/ja
Publication of JP2013200529A publication Critical patent/JP2013200529A/ja
Publication of JP2013200529A5 publication Critical patent/JP2013200529A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (8)

  1. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、前記露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
    前記露光光照射装置は、
    露光光を発生する光源と、
    縦横に配列された複数のレンズを有し、該複数のレンズにより前記光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、
    前記フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、
    記フライアイレンズの近傍に配置され、露光光の一部を遮光する開口絞りとを備え、
    露光するパターンの細密度に応じ、前記開口絞りにより前記フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
  2. 前記開口絞りは、露光光を通過させる開口が、前記フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応して形成されたことを特徴とする請求項1に記載のプロキシミティ露光装置。
  3. 前記開口絞りは、前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置され、前記フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、前記フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプロキシミティ露光装置。
  4. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、
    露光光照射装置に、露光光を発生する光源と、縦横に配列された複数のレンズを有し、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、フライアイレンズの近傍に配置され、露光光の一部を遮光する開口絞りとを設け、
    露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
  5. 開口絞りに、露光光を通過させる開口を、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成することを特徴とする請求項4に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
  6. 開口絞りを、光源とフライアイレンズとの間に配置し、フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とする請求項4又は請求項5に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
  7. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
  8. 請求項4乃至請求項6のいずれか一項に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
JP2012070292A 2012-03-26 2012-03-26 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 Pending JP2013200529A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012070292A JP2013200529A (ja) 2012-03-26 2012-03-26 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012070292A JP2013200529A (ja) 2012-03-26 2012-03-26 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013200529A JP2013200529A (ja) 2013-10-03
JP2013200529A5 true JP2013200529A5 (ja) 2014-10-16

Family

ID=49520793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012070292A Pending JP2013200529A (ja) 2012-03-26 2012-03-26 プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013200529A (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4268813B2 (ja) * 2003-02-14 2009-05-27 大日本印刷株式会社 露光方法及び露光装置
JP5012002B2 (ja) * 2006-12-25 2012-08-29 凸版印刷株式会社 近接露光方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200734800A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2012129556A5 (ja) 露光装置、デバイス製造方法、及び露光方法。
JP2018156096A5 (ja)
MX2019009157A (es) Dispositivo de inspeccion y sistema de fundicion.
WO2016049143A3 (en) Room decontamination apparatus and method
JP2013098262A5 (ja) 光学装置、位置検出装置、顕微鏡装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2012138619A5 (ja) 液浸露光装置、液浸露光方法、デバイス製造方法、及び液浸露光装置の製造方法
TW200942991A (en) Metrology method and apparatus, lithographic apparatus, and device manufacturing method
JP2013074299A5 (ja)
TW201612582A (en) Illumination method, exposure method, device manufacturing method, illumination optical system, and exposure apparatus
JP2014068909A5 (ja)
TW201333550A (zh) 偏光光線照射裝置
JP2007311085A (ja) 擬似太陽光照射装置
JP2016013255A5 (ja)
TW201144948A (en) Exposure apparatus
JP2015062256A5 (ja)
JP2015176457A5 (ja)
WO2015124457A8 (en) Lithographic apparatus and method
JP2008147314A5 (ja)
TW200942975A (en) Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device fabrication method
TW200741362A (en) Projection exposure device
JP2013191628A5 (ja)
JP2013200529A5 (ja)
JP2012253093A5 (ja)
JP2016027604A5 (ja)