JP2013200529A - プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行う。
【解決手段】露光光照射装置３０に、縦横に配列された複数のレンズ３４ａを有し、複数のレンズ３４ａにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズ３４と、光源とフライアイレンズ３４との間に配置され、フライアイレンズ３４へ入射する露光光の一部を遮光する開口絞り３６とを設ける。露光するパターンの細密度に応じ、開口絞り３６によりフライアイレンズ３４へ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａから照射される露光光の広がりを調整する。
【選択図】図６

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、プロキシミティ方式を用いて基板の露光を行うプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、露光光を照射する露光光照射装置に、オプティカルインテグレータとしてフライアイレンズを用いたプロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。

表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造は、露光装置を用いて、フォトリソグラフィー技術により基板上にパターンを形成して行われる。露光装置としては、レンズ又は鏡を用いてマスクのパターンを基板上に投影するプロジェクション方式と、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能は劣るが、照射光学系の構成が簡単で、かつ処理能力が高く量産用に適している。

プロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクホルダに保持されたマスクとチャックに支持された基板とを、数百μｍ〜数十μｍ程度のプロキシミティギャップまで接近させて、露光を行う。プロキシミティ方式では、マスクのパターンを基板に一対一で転写する等倍露光を行うため、プロキシミティ露光装置の露光光照射装置には、露光光を平行光線束にするための光学部品が設けられている。従来、平行光線束を作成する光学部品としては、コリメーションレンズと凹面鏡とが知られている。表示用パネルの大画面化に伴い露光領域が大きくなると、これらの光学部品も大型化されるが、コリメーションレンズは特に大型になると高価となるので、主に大型の基板の露光を行うプロキシミティ露光装置では、凹面鏡が多く使われている。特許文献１には、プロキシミティ露光装置において、露光光の波長を制限し、さらにコリメーション半角を最適な角度に調節することによって、解像度を向上させる技術が開示されている。

特開２００７−９４３１０号公報

近年、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネルは、テレビ等の大型画面の装置から、モバイルフォンやタブレット端末等の中小型画面の装置まで、様々な用途に使用されている。そのため、表示用パネル基板のパターンの細密度には、基板の種類に応じて種々の相違があり、露光装置に要求される露光精度は、露光する基板の種類によって様々に異なる。

プロキシミティ露光装置の露光光を照射する露光光照射装置では、通常、オプティカルインテグレータとしてフライアイレンズが使用されている。フライアイレンズは、複数のレンズを縦横に配列したレンズアレイであり、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて、露光光の強度分布を均一化する。このとき、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきが適切でないと、必要な露光精度で露光を行うことができない。

本発明の課題は、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行うことである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を製造することである。

本発明のプロキシミティ露光装置は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、露光光照射装置が、露光光を発生する光源と、縦横に配列された複数のレンズを有し、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、光源とフライアイレンズとの間に配置され、フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りとを備え、露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整したものである。

また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、露光光照射装置に、露光光を発生する光源と、縦横に配列された複数のレンズを有し、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、光源とフライアイレンズとの間に配置され、フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りとを設け、露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整するものである。

フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりが大きいと、各レンズから照射される露光光の重なる部分が小さくなって、露光光の強度分布のばらつきが大きくなる。フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりが小さくなると、各レンズから照射される露光光の重なる部分が多くなって、露光光の強度分布のばらつきが小さくなる。フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りを設け、露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整するので、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきが適切に調整されて、パターンの露光が精度良く行われる。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置は、開口絞りの露光光を通過させる開口が、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応して形成されたものである。また、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法は、開口絞りに、露光光を通過させる開口を、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成するものである。開口絞りにより、フライアイレンズの複数のレンズが、開口を通過した露光光が透過するものと、開口絞りにさえぎられて露光光が透過しないものとに分けられて、露光光の広がりが効率良く調整される。

本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、上記のいずれかのプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うものである。上記のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いることにより、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきが適切に調整されて、パターンの露光が精度良く行われるので、高品質な表示用パネル基板が製造される。

本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りを設け、露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することにより、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行うことができる。

さらに、本発明のプロキシミティ露光装置及びプロキシミティ露光装置の露光光照射方法によれば、開口絞りに、露光光を通過させる開口を、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成することにより、フライアイレンズの複数のレンズを、開口を通過した露光光が透過するものと、開口絞りにさえぎられて露光光が透過しないものとに分けて、露光光の広がりを効率良く調整することができる。

本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。 第１平面鏡、凹面鏡及び第２平面鏡の配置を上方から見た図である。 図３（ａ）はフライアイレンズの正面図、図３（ｂ）はフライアイレンズの側面図である。 図４（ａ）は本発明の一実施の形態による開口絞りの正面図、図４（ｂ）は開口絞り及びフライアイレンズを正面から見た図である。 図５（ａ）は本発明の他の実施の形態による開口絞りの正面図、図５（ｂ）は開口絞り及びフライアイレンズを正面から見た図である。 開口絞りの動作を説明する図である。 液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。 液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。

図１は、本発明の一実施の形態によるプロキシミティ露光装置の概略構成を示す図である。プロキシミティ露光装置は、ベース３、Ｘガイド４、Ｘステージ５、Ｙガイド６、Ｙステージ７、θステージ８、チャック支持台９、チャック１０、マスクホルダ２０、及び露光光照射装置３０を含んで構成されている。プロキシミティ露光装置は、これらの他に、基板１をチャック１０へ搬入し、また基板１をチャック１０から搬出する基板搬送ロボット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。

なお、以下に説明する実施の形態におけるＸＹ方向は例示であって、Ｘ方向とＹ方向とを入れ替えてもよい。

図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスク２を保持するマスクホルダ２０が設置されている。マスクホルダ２０には、露光光が通過する通過口が設けられている。マスクホルダ２０は、通過口の周囲に設けられた図示しない吸着溝により、マスク２の周辺部を真空吸着して保持している。マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上空には、露光光照射装置３０が配置されている。露光時、露光光照射装置３０からの露光光がマスク２を透過して基板１へ照射されることにより、マスク２のパターンが基板１の表面に転写され、基板１上にパターンが形成される。

チャック１０は、Ｘステージ５及びＹステージ７により、露光位置から離れたロード／アンロード位置へ移動される。ロード／アンロード位置において、図示しない基板搬送ロボットにより、基板１がチャック１０へ搬入され、また基板１がチャック１０から搬出される。チャック１０への基板１のロード及びチャック１０からの基板１のアンロードは、チャック１０に設けた複数の突き上げピンを用いて行われる。突き上げピンは、チャック１０の内部に収納されており、チャック１０の内部から上昇して、基板１をチャック１０にロードする際、基板搬送ロボットから基板１を受け取り、基板１をチャック１０からアンロードする際、基板搬送ロボットへ基板１を受け渡す。チャック１０は、基板１の裏面を真空吸着して支持する。基板１の表面には、フォトレジストが塗布されている。

チャック１０は、チャック支持台９を介してθステージ８に搭載されており、θステージ８の下にはＹステージ７及びＸステージ５が設けられている。Ｘステージ５は、ベース３に設けられたＸガイド４に搭載され、Ｘガイド４に沿ってＸ方向（図１の図面横方向）へ移動する。Ｙステージ７は、Ｘステージ５に設けられたＹガイド６に搭載され、Ｙガイド６に沿ってＹ方向（図１の図面奥行き方向）へ移動する。θステージ８は、Ｙステージ７に搭載され、θ方向へ回転する。チャック支持台９は、θステージ８に搭載され、チャック１０を複数箇所で支持する。

Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０は、ロード／アンロード位置と露光位置との間を移動される。ロード／アンロード位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、チャック１０に搭載された基板１のプリアライメントが行われる。露光位置において、Ｘステージ５のＸ方向への移動及びＹステージ７のＹ方向への移動により、チャック１０に搭載された基板１のＸＹ方向へのステップ移動が行われる。また、図示しないＺ−チルト機構により、マスクホルダ２０をＺ方向（図１の図面上下方向）へ移動及びチルトすることによって、マスク２と基板１とのギャップ合わせが行われる。そして、Ｘステージ５のＸ方向への移動、Ｙステージ７のＹ方向への移動、及びθステージ８のθ方向への回転により、基板１のアライメントが行われる。

なお、本実施の形態では、マスクホルダ２０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行っているが、チャック支持台９にＺ−チルト機構を設けて、チャック１０をＺ方向へ移動及びチルトすることにより、マスク２と基板１とのギャップ合わせを行ってもよい。

露光光照射装置３０は、ランプ３１、集光鏡３２、第１平面鏡３３、フライアイレンズ３４、シャッター３５、開口絞り３６、凹面鏡３７、第２平面鏡３８、照度センサー３９、光源制御装置４０、及び電源４１を含んで構成されている。ランプ３１には、水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ等の様に、高圧ガスをバルブ内に封入した放電型のランプが使用されている。ランプ３１の周囲には、ランプ３１から発生した光を集光する集光鏡３２が設けられている。ランプ３１から発生した光は、集光鏡３２により集光され、第１平面鏡３３へ照射される。

図２は、第１平面鏡、凹面鏡及び第２平面鏡の配置を上方から見た図である。シャッター３５は、基板１の露光を行う時に開き、基板１の露光を行わない時に閉じる。シャッター３５が開いているとき、第１平面鏡３３で反射された光は、フライアイレンズ３４へ入射する。フライアイレンズ３４を透過した光は、凹面鏡３７で反射されて平行光線束となる。図１において、凹面鏡３７で反射されて平行光線束となった光は、第２平面鏡３８で反射されて、マスク２へ照射される。マスク２へ照射された露光光により、マスク２のパターンが基板１へ転写され、基板１の露光が行われる。シャッター３５が閉じているとき、第１平面鏡３３からフライアイレンズ３４へ照射される光は、シャッター３５に遮断され、基板１の露光は行われない。

第２平面鏡３８の裏側近傍には、照度センサー３９が配置されている。第２平面鏡３８には、露光光の一部を通過させる小さな窓が設けられている。照度センサー３９は、第２平面鏡３８の窓を通過した光を受光して、露光光の照度を測定する。照度センサー３９の測定結果は、光源制御装置４０へ入力される。光源制御装置４０は、照度センサー３９の測定結果に基づき、電源４１からランプ３１へ供給される電力を制御して、露光光の照度を調節する。

図３（ａ）はフライアイレンズの正面図、図３（ｂ）はフライアイレンズの側面図である。図３（ａ），（ｂ）に示す様に、フライアイレンズ３４は、複数のレンズ３４ａを縦横に配列したレンズアレイである。第１平面鏡３３からフライアイレンズ３４へ入射した光は、複数のレンズ３４ａにより、凹面鏡３７へ重ね合わせて照射され、露光光の強度分布が均一化される。

図４（ａ）は本発明の一実施の形態による開口絞りの正面図、図４（ｂ）は開口絞り及びフライアイレンズを正面から見た図である。図４（ａ）において、開口絞り３６は、平らな板３６ａに、露光光を通過させる開口３６ｂを形成して構成されている。図４（ｂ）に示す様に、本実施の形態の開口絞り３６は、露光光を通過させる開口３６ｂが、フライアイレンズ３４の縦横に配列された複数のレンズ３４ａの一部に対応して形成されている。なお、図４（ｂ）では、フライアイレンズ３４の開口絞り３６で隠れて見えない部分が、破線で示されている。

図５（ａ）は本発明の他の実施の形態による開口絞りの正面図、図５（ｂ）は開口絞り及びフライアイレンズを正面から見た図である。図５（ａ）に示す様に、本実施の形態の開口絞り３６は、露光光を通過させる開口３６ｂが、図４に示した実施の形態よりも小さい。図５（ｂ）に示す様に、本実施の形態の開口絞り３６も、露光光を通過させる開口３６ｂが、フライアイレンズ３４の縦横に配列された複数のレンズ３４ａの一部に対応して形成されている。なお、図５（ｂ）では、図４（ｂ）と同様に、フライアイレンズ３４の開口絞り３６で隠れて見えない部分が、破線で示されている。

開口絞り３６に、露光光を通過させる開口３６ｂを、フライアイレンズ３４の縦横に配列された複数のレンズ３４ａの一部に対応させて形成することにより、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａが、開口３６ｂを通過した露光光が透過するものと、開口絞り３６にさえぎられて露光光が透過しないものとに分けられる。

以下、本実施の形態によるプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を説明する。本実施の形態では、図４及び図５に示す様に、露光光を通過させる開口３６ｂの大きさがそれぞれ異なる複数の開口絞り３６を用意する。そして、第１平面鏡３３とフライアイレンズ３４との間に、露光するパターンの細密度に応じて、開口３６ｂの大きさがそれぞれ異なる複数の開口絞り３６を、切り替えて設置する。設置した開口絞り３６により、ランプ３１から発生して第１平面鏡３３で反射され、フライアイレンズ３４へ入射する露光光の入射角が調節されて、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａから照射される露光光の広がりが調整される。

図６は、開口絞りの動作を説明する図である。図６（ａ）は図４（ａ）に示した開口絞り３６を設置した状態を示し、図６（ｂ）は図５（ａ）に示した開口絞り３６を設置した状態を示している。開口絞り３６の開口３６ｂを通過した露光光が透過するレンズ３４ａの内、上端及び下端にあるものについて、各レンズ３４ａへの露光光の入射角を比較すると、図６（ａ）の場合に比べて図６（ｂ）の場合の方が、各レンズ３４ａへの露光光の入射角が小さい。従って、図６（ａ）の場合に比べて図６（ｂ）の場合の方が、各レンズ３４ａから凹面鏡３７へ照射される露光光の広がりが小さく、露光光の重なる部分が多くなって、露光光の強度分布のばらつきが小さくなる。一方、図６（ａ）の場合に比べて図６（ｂ）の場合の方が、露光光を透過させるレンズ３４ａの数が少ない分、露光光全体の光量は小さくなる。

本実施の形態では、露光するパターンの細密度に応じ、開口３６ｂの大きさがそれぞれ異なる複数の開口絞り３６を切り替えて設置し、開口絞り３６によりフライアイレンズ３４へ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａから照射される露光光の広がりを調整するので、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきが適切に調整されて、パターンの露光が精度良く行われる。

そして、開口絞り３６に、露光光を通過させる開口３６ｂを、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成するので、開口絞り３６により、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａが、開口３６ｂを通過した露光光が透過するものと、開口絞り３６にさえぎられて露光光が透過しないものとに分けられて、露光光の広がりが効率良く調整される。

しかしながら、本発明は上述した実施の形態に限らず、例えば、開口絞りに開口の大きさを変更する可動機構を設け、露光するパターンの細密度に応じ、可動機構により開口の大きさを変更して、フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節してもよい。

以上説明した実施の形態によれば、フライアイレンズ３４へ入射する露光光の一部を遮光する開口絞り３６を設け、露光するパターンの細密度に応じ、開口絞り３６によりフライアイレンズ３４へ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａから照射される露光光の広がりを調整することにより、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行うことができる。

さらに、開口絞り３６に、露光光を通過させる開口３６ｂを、フライアイレンズ３４の縦横に配列された複数のレンズ３４ａの一部に対応させて形成することにより、フライアイレンズ３４の複数のレンズ３４ａを、開口３６ｂを通過した露光光が透過するものと、開口絞り３６にさえぎられて露光光が透過しないものとに分けて、露光光の広がりを効率良く調整することができる。

本発明のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行い、あるいは、本発明のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことにより、露光するパターンの細密度に応じ、露光光の強度分布のばらつきを適切に調整して、パターンの露光を精度良く行うことができるので、高品質な表示用パネル基板を製造することができる。

例えば、図７は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。

また、図８は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法や顔料分散法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄／乾燥工程が実施される。

図７に示したＴＦＴ基板の製造工程では、露光工程（ステップ１０３）において、図８に示したカラーフィルタ基板の製造工程では、ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）及び着色パターン形成工程（ステップ２０２）の露光処理において、本発明のプロキシミティ露光装置又はプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を適用することができる。

１ 基板
２ マスク
３ ベース
４ Ｘガイド
５ Ｘステージ
６ Ｙガイド
７ Ｙステージ
８ θステージ
９ チャック支持台
１０ チャック
２０ マスクホルダ
３０ 露光光照射装置
３１ ランプ
３２ 集光鏡
３３ 第１平面鏡
３４ フライアイレンズ
３５ シャッター
３６ 開口絞り
３６ａ 板
３６ｂ 開口
３７ 凹面鏡
３８ 第２平面鏡
３９ 照度センサー
４０ 光源制御装置
４１ 電源

Claims (6)

1. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、前記露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
   前記露光光照射装置は、
   露光光を発生する光源と、
   縦横に配列された複数のレンズを有し、該複数のレンズにより前記光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、
   前記フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、
   前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置され、前記フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りとを備え、
   露光するパターンの細密度に応じ、前記開口絞りにより前記フライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、前記フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
2. 前記開口絞りは、露光光を通過させる開口が、前記フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応して形成されたことを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
3. 基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダと、露光光を照射する露光光照射装置とを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設け、露光光照射装置から露光光をマスクへ照射して、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置の露光光照射方法であって、
   露光光照射装置に、露光光を発生する光源と、縦横に配列された複数のレンズを有し、複数のレンズにより光源から発生した露光光を重ね合わせて照射するフライアイレンズと、フライアイレンズの複数のレンズから照射された露光光を反射して、露光光を平行にする凹面鏡と、光源とフライアイレンズとの間に配置され、フライアイレンズへ入射する露光光の一部を遮光する開口絞りとを設け、
   露光するパターンの細密度に応じ、開口絞りによりフライアイレンズへ入射する露光光の入射角を調節して、フライアイレンズの複数のレンズから照射される露光光の広がりを調整することを特徴とするプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
4. 開口絞りに、露光光を通過させる開口を、フライアイレンズの縦横に配列された複数のレンズの一部に対応させて形成することを特徴とする請求項３に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法。
5. 請求項１又は請求項２に記載のプロキシミティ露光装置を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
6. 請求項３又は請求項４に記載のプロキシミティ露光装置の露光光照射方法を用いて基板の露光を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。

Images