JP2012253093A5 - - Google Patents

Description

本発明の一つの側面は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
発散する荷電粒子線が入射するコリメータレンズを含む照射系と、
前記照射系からの荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割するアパーチャアレイと、
前記アパーチャアレイからの複数の荷電粒子線からそれぞれ複数のクロスオーバを形成する集束レンズアレイと、
前記複数のクロスオーバにそれぞれ対応する複数の開口を備えた素子と、該複数の開口に対してそれぞれ設けられて荷電粒子線を前記基板上に投影する複数の投影ユニットと、を含む投影系と、を有し、
前記集束レンズアレイは、前記素子における対応する開口に対して偏心している集束レンズを含み、
前記照射系は、前記照射光学系の収差に依る入射角で前記アパーチャアレイに入射して前記集束レンズアレイにより形成される前記複数のクロスオーバのそれぞれの位置が前記素子における対応する開口に整合するように、前記収差を調整する調整手段を含む、ことを特徴とする描画装置。である。

Claims (14)

1. 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
   発散する荷電粒子線が入射するコリメータレンズを含む照射系と、
   前記照射系からの荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割するアパーチャアレイと、
   前記アパーチャアレイからの複数の荷電粒子線からそれぞれ複数のクロスオーバを形成する集束レンズアレイと、
   前記複数のクロスオーバにそれぞれ対応する複数の開口を備えた素子と、該複数の開口に対してそれぞれ設けられて荷電粒子線を前記基板上に投影する複数の投影ユニットと、を含む投影系と、を有し、
   前記集束レンズアレイは、前記素子における対応する開口に対して偏心している集束レンズを含み、
   前記照射系は、前記照射光学系の収差に依る入射角で前記アパーチャアレイに入射して前記集束レンズアレイにより形成される前記複数のクロスオーバのそれぞれの位置が前記素子における対応する開口に整合するように、前記収差を調整する調整手段を含む、ことを特徴とする描画装置。
2. 前記コリメータレンズは、複数の荷電粒子レンズを含み、
   前記調整手段は、前記コリメータレンズの前側焦点位置及び前側主面位置を保って前記収差を変化させるように、前記複数の荷電粒子レンズそれぞれのパワーおよび位置のうちの少なくとも一つを調整する、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
3. 前記照射系は、前記コリメータレンズの前側の位置に照射系クロスオーバを形成し、
   前記調整手段は、前記コリメータレンズの焦点距離を調整し、かつ、該調整のされた焦点距離に整合するように前記照射系クロスオーバの位置を調整することにより、前記収差を調整する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
4. 前記照射系は、荷電粒子源を含み、
   前記調整手段は、前記荷電粒子源の移動により前記照射系クロスオーバの位置を調整する、ことを特徴とする請求項３に記載の描画装置。
5. 前記照射系は、前記照射系クロスオーバの前側に設けられたクロスオーバ調整系を含み、
   前記調整手段は、前記クロスオーバ調整系のパワーの調整により前記照射系クロスオーバの位置を調整する、ことを特徴とする請求項３に記載の描画装置。
6. 前記偏心している集束レンズは、前記照射系の収差を補償するように偏心している、ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の描画装置。
7. 前記コリメータレンズは、荷電粒子線のクロスオーバから発散する荷電粒子線が入射し、該クロスオーバは、前記コリメータレンズの前側焦点からずれた位置にある、ことを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の描画装置。
8. 前記アパーチャアレイは、前記集束レンズアレイにおける対応する集束レンズとともに前記素子における対応する開口に対して偏心しているアパーチャを含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の描画装置。
9. 前記アパーチャアレイは、前記集束レンズアレイの前側焦点に配置され、前記集束レンズアレイにおける対応する集束レンズと同じ量だけ前記素子における対応する開口に対して偏心しているアパーチャを含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の描画装置。
10. 前記アパーチャアレイは、前記集束レンズアレイの前側焦点からずれた位置に配置され、前記集束レンズアレイにおける対応する集束レンズとは異なる量だけ前記素子における対応する開口に対して偏心しているアパーチャを含む、ことを特徴とする請求項１ないし請求項８のいずれか１項に記載の描画装置。
11. 前記照射光学系と前記アパーチャアレイと前記集束レンズアレイと前記投影系とを含む組を並列に複数有する、ことを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれか１項に記載の描画装置。
12. 前記素子は、ブランカーアレイである、ことを特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に記載の描画装置。
13. 前記素子は、ストップアパーチャアレイである、ことを特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれか１項に記載の描画装置。
14. 請求項１ないし請求項１３のいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
    前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。