RU2012135701A - Система литографии с поворотом линзы - Google Patents
Система литографии с поворотом линзы Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012135701A RU2012135701A RU2012135701/07A RU2012135701A RU2012135701A RU 2012135701 A RU2012135701 A RU 2012135701A RU 2012135701/07 A RU2012135701/07 A RU 2012135701/07A RU 2012135701 A RU2012135701 A RU 2012135701A RU 2012135701 A RU2012135701 A RU 2012135701A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- projection device
- actuator
- target
- projection
- charged particles
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
- H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/023—Means for mechanically adjusting components not otherwise provided for
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical or photographic arrangements associated with the tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/1502—Mechanical adjustments
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
1. Система литографии пучками заряженных частиц для проецирования изображения на мишень, такую как подложка, с использованием множества элементарных пучков заряженных частиц для переноса изображения на мишень, содержащая секцию заряженных частиц, включающую:электронно-оптический блок, содержащий источник заряженных частиц, коллиматорную линзу, апертурную решетку, бланкер и ограничитель лучей для формирования множества элементарных лучей заряженных частиц; ипроекционное устройство для проецирования указанного множества элементарных лучей заряженных частиц на мишень для формирования изображения;при этом проекционное устройство установлено с возможностью перемещения относительно электронно-оптического блока с помощью по меньшей мере одного исполнительного механизма проекционного устройства;исполнительный механизм проекционного устройства выполнен с возможностью механического воздействия на проекционное устройство и обеспечения по меньшей мере одной степени свободы перемещения проекционного устройства;причем указанная степень свободы относится к перемещению относительно оптической оси системы.2. Система по п.1, в которой исполнительный механизм содержит пьезоэлемент.3. Система по п.2, в которой исполнительный механизм дополнительно содержит пружинный элемент, установленный с возможностью противодействия воздействию пьезоэлемента.4. Система по п.1, в которой проекционное устройство содержит систему проецирования, которая содержит множество проекционных линз заряженных частиц, причем указанная система установлена на раме.5. Система по п.1, в которой проекционное устройство поддерживается �
Claims (15)
1. Система литографии пучками заряженных частиц для проецирования изображения на мишень, такую как подложка, с использованием множества элементарных пучков заряженных частиц для переноса изображения на мишень, содержащая секцию заряженных частиц, включающую:
электронно-оптический блок, содержащий источник заряженных частиц, коллиматорную линзу, апертурную решетку, бланкер и ограничитель лучей для формирования множества элементарных лучей заряженных частиц; и
проекционное устройство для проецирования указанного множества элементарных лучей заряженных частиц на мишень для формирования изображения;
при этом проекционное устройство установлено с возможностью перемещения относительно электронно-оптического блока с помощью по меньшей мере одного исполнительного механизма проекционного устройства;
исполнительный механизм проекционного устройства выполнен с возможностью механического воздействия на проекционное устройство и обеспечения по меньшей мере одной степени свободы перемещения проекционного устройства;
причем указанная степень свободы относится к перемещению относительно оптической оси системы.
2. Система по п.1, в которой исполнительный механизм содержит пьезоэлемент.
3. Система по п.2, в которой исполнительный механизм дополнительно содержит пружинный элемент, установленный с возможностью противодействия воздействию пьезоэлемента.
4. Система по п.1, в которой проекционное устройство содержит систему проецирования, которая содержит множество проекционных линз заряженных частиц, причем указанная система установлена на раме.
5. Система по п.1, в которой проекционное устройство поддерживается изгибаемыми элементами.
6. Система по п.5, в которой проекционное устройство поддерживается тремя изгибаемыми элементами, при этом исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении, в котором один из указанных изгибаемых элементов имеет возможность перемещения.
7. Система по п.1, в которой указанная система содержит сенсорный элемент для измерения перемещения проекционного устройства в направлении перемещения исполнительного механизма проекционного устройства.
8. Система по п.7, в которой сенсорный элемент выполнен в виде емкостного датчика.
9. Система по п.3, в которой пружинный элемент и исполнительный механизм установлены таким образом, что они находятся с противоположных сторон относительно части проекционного устройства.
10. Система по п.1, в которой три исполнительных механизма, воздействующих на проекционное устройство, размещены в конфигурации правильного треугольника, с центром на оптической оси проекционного устройства.
11. Система по п.1, в которой по меньшей мере один исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении воображаемой плоскости, расположенной поперечно оптической оси проекционного устройства, предпочтительно, по меньшей мере один дополнительный исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении, по существу, параллельном оптической оси проекционного устройства.
12. Система по п.1, в которой степени свободы реализованы таким образом, что обеспечена возможность перемещения проекционного устройства в воображаемой плоскости поперечной оптической оси проекционного устройства, а также возможность поворачивать проекционное устройство вокруг его оптической оси и возможность наклонять проекционное устройство относительно оси в воображаемой плоскости, поперечной оптической оси проекционного устройства.
13. Система по п.1, в которой проекционное устройство содержит группу электростатических и электромагнитных линз для проецирования одного или более лучей заряженных частиц.
14. Способ проецирования изображения на мишень в системе литографии пучками заряженных частиц с использованием множества элементарных лучей заряженных частиц для переноса изображения на мишень, в частности, в системе по п.1, включающий формирование изображения с помощью проекционного устройства для проецирования множества элементарных лучей заряженных частиц на мишень;
при этом проекционное устройство устанавливают с возможностью перемещения относительно электронно-оптического блока с помощью по меньшей мере одного исполнительного механизма проекционного устройства;
причем исполнительный механизм проекционного устройства обеспечивает механическое воздействие на проекционное устройство, а также обеспечивает по меньшей мере одну степень свободы его перемещения;
при этом проекционное устройство указанной системы и поверхность мишени поддерживают по существу параллельными друг другу во время всего цикла проецирования с помощью указанного исполнительного механизма проекционного устройства.
15. Способ по п.14, в котором вариацию толщины целевой подложки компенсируют путем наклона проекционного устройства относительно одной или более осей в плоскости, поперечной к оптической оси проекционного устройства.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL1037639A NL1037639C2 (en) | 2010-01-21 | 2010-01-21 | Lithography system with lens rotation. |
| NL1037639 | 2010-01-21 | ||
| PCT/NL2011/050036 WO2011090379A1 (en) | 2010-01-21 | 2011-01-21 | Lithography system with lens rotation |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2012135701A true RU2012135701A (ru) | 2014-02-27 |
Family
ID=42711777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2012135701/07A RU2012135701A (ru) | 2010-01-21 | 2011-01-21 | Система литографии с поворотом линзы |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20110174985A1 (ru) |
| EP (1) | EP2526561A1 (ru) |
| JP (1) | JP2013518408A (ru) |
| KR (1) | KR20120127600A (ru) |
| CN (1) | CN102782798A (ru) |
| NL (1) | NL1037639C2 (ru) |
| RU (1) | RU2012135701A (ru) |
| TW (1) | TW201142909A (ru) |
| WO (1) | WO2011090379A1 (ru) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013036125A1 (en) | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Projection system with flexible coupling |
| TW201316138A (zh) * | 2011-09-09 | 2013-04-16 | Mapper Lithography Ip Bv | 振動隔絕模組和基板處理系統 |
| CN103930829A (zh) | 2011-09-12 | 2014-07-16 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 基板处理装置 |
| US9269536B2 (en) * | 2012-04-17 | 2016-02-23 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Double ended electrode manipulator |
| NL2010760C2 (en) * | 2013-05-03 | 2014-11-04 | Mapper Lithography Ip Bv | Beam grid layout. |
| CN107157516A (zh) * | 2017-07-05 | 2017-09-15 | 四川省肿瘤医院 | 一种超声扫描设备 |
| CN107479185A (zh) * | 2017-09-30 | 2017-12-15 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 滤光片、显示装置和电子装置 |
| CN107479184A (zh) * | 2017-09-30 | 2017-12-15 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 滤光片、显示装置和电子装置 |
| US10991544B2 (en) * | 2019-05-29 | 2021-04-27 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam device, objective lens module, electrode device, and method of inspecting a specimen |
| IL298348A (en) | 2020-06-10 | 2023-01-01 | Asml Netherlands Bv | Interchangeable module for charged particle device |
| EP3971938A1 (en) * | 2020-09-22 | 2022-03-23 | ASML Netherlands B.V. | Replaceable module for a charged particle apparatus |
| DE102022114098A1 (de) * | 2022-06-03 | 2023-12-14 | Carl Zeiss Multisem Gmbh | Vielstrahl-Teilchenmikroskop mit verbesserter Justage und Verfahren zum Justieren des Vielstrahl-Teilchenmikroskops sowie Computerprogrammprodukt |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0890136B9 (en) | 1996-12-24 | 2003-12-10 | ASML Netherlands B.V. | Two-dimensionally balanced positioning device with two object holders, and lithographic device provided with such a positioning device |
| JP3993334B2 (ja) * | 1998-04-27 | 2007-10-17 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム描画装置 |
| US6353271B1 (en) | 1999-10-29 | 2002-03-05 | Euv, Llc | Extreme-UV scanning wafer and reticle stages |
| KR100572253B1 (ko) * | 2000-08-14 | 2006-04-19 | 이리스 엘엘씨 | 리소그래피장치, 디바이스 제조방법 및 그것에 의하여제조된 디바이스 |
| US6768125B2 (en) * | 2002-01-17 | 2004-07-27 | Ims Nanofabrication, Gmbh | Maskless particle-beam system for exposing a pattern on a substrate |
| EP2302457B1 (en) * | 2002-10-25 | 2016-03-30 | Mapper Lithography Ip B.V. | Lithography system |
| CN101414535A (zh) | 2002-10-30 | 2009-04-22 | 迈普尔平版印刷Ip有限公司 | 电子束曝光系统 |
| JP2004281644A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Canon Inc | 駆動機構及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法 |
| JP4313145B2 (ja) * | 2003-10-07 | 2009-08-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| GB2412232A (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-21 | Ims Nanofabrication Gmbh | Particle-optical projection system |
| US8890095B2 (en) * | 2005-07-25 | 2014-11-18 | Mapper Lithography Ip B.V. | Reliability in a maskless lithography system |
| DE102006039821A1 (de) * | 2006-08-25 | 2008-03-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches System, insbesondere ein Projektionsobjektiv oder ein Beleuchtungssystem |
| JP5497980B2 (ja) * | 2007-06-29 | 2014-05-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置、及び試料検査方法 |
| US20090190108A1 (en) * | 2008-01-30 | 2009-07-30 | Toshiba America Electronic Components, Inc. | Method and system for leveling topography of semiconductor chip surface |
| US8111379B2 (en) * | 2008-05-27 | 2012-02-07 | The Research Foundation Of State University Of New York | Automated determination of height and tilt of a substrate surface within a lithography system |
-
2010
- 2010-01-21 NL NL1037639A patent/NL1037639C2/en not_active IP Right Cessation
-
2011
- 2011-01-20 US US13/010,658 patent/US20110174985A1/en not_active Abandoned
- 2011-01-21 WO PCT/NL2011/050036 patent/WO2011090379A1/en active Application Filing
- 2011-01-21 CN CN2011800115334A patent/CN102782798A/zh active Pending
- 2011-01-21 RU RU2012135701/07A patent/RU2012135701A/ru not_active Application Discontinuation
- 2011-01-21 EP EP11703498A patent/EP2526561A1/en not_active Withdrawn
- 2011-01-21 KR KR1020127021461A patent/KR20120127600A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-01-21 JP JP2012549962A patent/JP2013518408A/ja not_active Withdrawn
- 2011-01-21 TW TW100102247A patent/TW201142909A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN102782798A (zh) | 2012-11-14 |
| JP2013518408A (ja) | 2013-05-20 |
| EP2526561A1 (en) | 2012-11-28 |
| NL1037639C2 (en) | 2011-07-25 |
| WO2011090379A1 (en) | 2011-07-28 |
| US20110174985A1 (en) | 2011-07-21 |
| TW201142909A (en) | 2011-12-01 |
| KR20120127600A (ko) | 2012-11-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2012135701A (ru) | Система литографии с поворотом линзы | |
| KR102056273B1 (ko) | 작동 메카니즘, 광학 장치, 리소그래피 장치 및 디바이스들을 제조하는 방법 | |
| TWI363934B (en) | Resonant scanning mirror | |
| CN101669071B (zh) | 微光刻曝光装置中照明掩模的照明系统 | |
| US10440244B2 (en) | Near-field imaging devices | |
| JP2012527646A5 (ru) | ||
| JP2012243803A5 (ru) | ||
| KR20180042342A (ko) | 광학 기판을 포함하는 다중 조리개 이미징 디바이스 | |
| US9823453B2 (en) | Catadioptric light-field lens and image pickup apparatus including the same | |
| WO2013190783A1 (ja) | 振動アクチュエータユニット、ステージ装置、光学装置およびステージ装置 | |
| JP2012243802A5 (ru) | ||
| JP2012518804A5 (ru) | ||
| JP2010217877A5 (ru) | ||
| JP2007524247A5 (ru) | ||
| KR102317127B1 (ko) | 작동 기구, 광학 장치 및 리소그래피 장치 | |
| TWI652508B (zh) | 照明方法 | |
| JP2011197411A5 (ru) | ||
| JP2017504175A5 (ru) | ||
| JP2013098567A (ja) | 電子ビーム基盤型システム内の収差を補正する装置及び方法 | |
| Duparré et al. | Spherical artificial compound eye captures real images | |
| TWI716735B (zh) | 具有低安裝高度與可切換觀看方向之多孔徑成像裝置、成像系統、用以提供多孔徑成像裝置之方法及用以拍攝標的區之方法 | |
| CN110892701B (zh) | 低杂散光灵敏度的多孔径成像设备、成像系统和用于提供多孔径成像设备的方法 | |
| JP2012032813A (ja) | 手術顕微鏡の撮像システムのための画像防振撮像装置 | |
| JP2012253093A5 (ru) | ||
| JP2012014170A5 (ru) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20140122 |