JP2012243802A5 - - Google Patents

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本発明の一つの側面は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第１アパーチャアレイと、
前記第１アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第１の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、
前記第１の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、
前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第２の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、
前記第２の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、
前記主平面における前記第１の複数のクロスオーバーの配列を前記複数の開口の配列に対して異ならせることにより、前記素子上において前記第２の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記第１アパーチャアレイにおける開口及び前記集束レンズアレイにおける集束レンズは配置されている、ことを特徴とする描画装置である。

Claims (10)

  1. 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
    発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第１アパーチャアレイと、
    前記第１アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第１の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、
    前記第１の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、
    前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第２の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、
    前記第２の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、
    前記主平面における前記第１の複数のクロスオーバーの配列を前記複数の開口の配列に対して異ならせることにより、前記素子上において前記第２の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記第１アパーチャアレイにおける開口及び前記集束レンズアレイにおける集束レンズは配置されている、ことを特徴とする描画装置。
  2. 前記第１アパーチャアレイにおける開口及び前記集束レンズアレイにおける集束レンズのそれぞれは、前記複数の開口のうちの対応する開口に対して、像高に関する３次の多項式に基づく量だけ偏心している、ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
  3. 前記補正系は、前記複数の荷電粒子線のそれぞれの主光線を規定する第２アパーチャアレイと、前記複数の主光線の角度をそれぞれ補正する補正レンズアレイとを含む、ことを特徴とする請求項１または２に記載の描画装置。
  4. 前記第２アパーチャアレイにおける開口及び前記補正レンズアレイにおける補正レンズのそれぞれは、前記複数の開口のうちの対応する開口に対して、像高に関する３次の多項式に基づく量だけ偏心している、ことを特徴とする請求項３に記載の描画装置。
  5. 前記補正系は、前記補正レンズアレイが形成する第３の複数のクロスオーバーを拡大投影して前記第２の複数のクロスオーバーを形成する拡大レンズアレイをさらに含む、ことを特徴とする請求項３に記載の描画装置。
  6. 前記補正系は、前記複数の荷電粒子線のそれぞれの主光線を規定する第２アパーチャアレイと、前記複数の主光線の角度をそれぞれ補正する補正偏向器アレイとを含む、ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の描画装置。
  7. 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
    発散する荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割する第１アパーチャアレイと、
    前記第１アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ第１の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、
    前記複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、
    前記コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第２の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、
    前記第２の複数のクロスオーバーにそれぞれ対応する複数の開口を有する素子と、を有し、
    前記主平面における前記第１の複数のクロスオーバーの配列を前記複数の開口の配列に対して異ならせることにより、前記素子上において前記第２の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記第１アパーチャアレイにおける開口及び前記集束レンズアレイにおける集束レンズは配置され、前記補正系は、２段のレンズアレイを含み、前記素子上において前記第２の複数のクロスオーバーがそれぞれ前記複数の開口に整合するように、前記２段のレンズアレイは、前記複数の開口のうちの対応する開口に対して偏心したレンズを有する、ことを特徴とする描画装置。
  8. 前記素子は、ブランキングストップアパーチャアレイである、ことを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の描画装置。
  9. 前記素子は、ブランキング偏向器アレイである、ことを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれか１項に記載の描画装置。
  10. 請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
    前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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