JP2014082211A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 走査型荷電粒子ビーム装置における機械的、磁気的又は静電的誤差を補償する方法であって、
   アライメント手順を含み、該アライメント手順は、
   少なくとも８極補償能力を備えた素子により４重非点収差を補償するステップを含み、
   前記アライメント手順の前記位置合わせステップ及び前記補償ステップは、各々少なくとも５０μｍのビーム寸法が２つの互いに直交した方向に向くと共に少なくとも、前記少なくとも８極補償能力を備えた前記素子と同軸に位置合わせされた状態で荷電粒子ビームに作用する、方法。
2. 前記アライメント手順は、以下の順序で且つ前記４重非点収差を補償するステップの実施前に実施される以下のステップ、即ち、
   試料上で走査されるべき荷電粒子ビームを光軸に位置合わせするステップと、
   軸方向非点収差を少なくとも４極補償能力を備えた素子により補償するステップと、
   少なくとも６極補償能力を備えた素子により３重非点収差を補償するステップとを更に含む、請求項１記載の方法。
3. 前記アライメント手順は、前記荷電粒子ビームの位置合わせ後且つ前記軸方向非点収差の補償前に前記荷電粒子ビームを前記試料上に精密に集束させるステップを更に含む、請求項２記載の方法。
4. 前記アライメント手順又は前記アライメント手順の一部分は、２回又は３回以上繰り返し実施され、その結果、前記アライメント手順の前記ステップのうちの２つ又は３つ以上が繰り返し実施されるようになる、請求項１〜３のうちいずれか一に記載の方法。
5. 前記８極補償能力は、方位角及び強度が調節可能なオクタポールフィールドによって提供される、請求項１〜４のうちいずれか一に記載の方法。
6. 前記アライメント手順は、球面収差及び／又は色収差の補正及び収差係数Ｃｓ及び／又はＣｃの減少を含まない、請求項１〜５のうちいずれか一に記載の方法。
7. 前記方法は、
   前記システムの開口数を前記アライメント手順なしで動作するシステムについて最適化された値に合わせて調節するステップを更に含む、請求項１〜６のうちいずれか一に記載の方法。
8. 前記方法は、前記システムの開口数を１０〜７０ｍｒａｄの値に合わせて調節するステップを更に含む、請求項１〜７のうちいずれか一に記載の方法。
9. 前記走査型荷電粒子ビーム装置は、非点収差中間像なしのビーム経路を有する、請求項１〜８のうちいずれか一に記載の方法。
10. 前記走査型荷電粒子ビーム装置は、対物レンズと集光レンズ組立体の集光レンズとの間のクロスオーバーなしのビーム経路を有し、前記集光レンズは、前記対物レンズの最も近くに位置する前記集光レンズ組立体の前記集光レンズである、請求項１〜９のうちいずれか一に記載の方法。
11. 走査型荷電粒子ビーム装置であって、
    荷電粒子ビームを放出するよう構成された少なくとも１つのエミッタ先端部を備えたエミッタを含み、
    前記エミッタ先端部を試料上に焦点合わせするよう構成された１つのレンズ組立体を含み、前記焦点合わせ組立体は、集光レンズ組立体と、対物レンズとから成り、前記集光レンズ組立体と前記対物レンズは、回転対称関係をなしており、
    機械的、磁気的又は静電的誤差を補償する補償組立体を含み、前記補償組立体は、それぞれ互いに異なる方向に作用する第１のオクタポール素子及び第２のオクタポール素子と、回転可能なオクタポール素子と、少なくとも１２極素子である素子とから成る群から選択された少なくとも１つの素子を含み、選択的事項として、前記補償組立体は、各々少なくとも５０μｍのビーム寸法が２つの互いに直交した方向に向くと共に少なくとも前記素子と同軸に位置合わせされた状態で前記荷電粒子ビームに作用する、装置。
12. 試料上で前記荷電粒子ビームを走査する走査型デフレクタを更に含む、請求項１１記載の装置。
13. 前記アライメント組立体は、
    二次元アライメントデフレクタユニットと、
    二次元スチグマトールと、
    ３重非点収差を補償する二次元ヘキサポール素子とを更に含む、請求項１１〜１２のうちいずれか一に記載の装置。
14. 前記システムの開口数は、１０〜７０ｍｒａｄである、請求項１１〜１３のうちいずれか一に記載の装置。
15. 前記走査型荷電粒子ビーム装置は、非点収差像を生じさせるレンズを含んでいない、請求項１１〜１４のうちいずれか一に記載の装置。