JP2013098262A5 - 光学装置、位置検出装置、顕微鏡装置、露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、光源からの光で被照明面を照明する照明光学系と、前記被照明面を照明する際の照明条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記照明光学系の瞳面に配置された開口絞りと、遮光領域を有する遮光板と、前記遮光板を駆動する駆動部と、を有し、前記駆動部は、前記照明条件を前記第１条件に設定する場合には、前記遮光領域が前記光源から前記第２開口を通して前記被照明面に至る第２経路を遮るように前記遮光板を位置決めし、前記照明条件を前記第２条件に設定する場合には、前記遮光領域が前記光源から前記第１開口を通して前記被照明面に至る第１経路を遮るように前記遮光板を位置決めすることを特徴とする。

Claims (15)

1. 光源からの光で被照明面を照明する照明光学系と、
   前記被照明面を照明する際の照明条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記照明光学系の瞳面に配置された開口絞りと、
   遮光領域を有する遮光板と、
   前記遮光板を駆動する駆動部と、
   を有し、
   前記駆動部は、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する場合には、前記遮光領域が前記光源から前記第２開口を通して前記被照明面に至る第２経路を遮るように前記遮光板を位置決めし、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する場合には、前記遮光領域が前記光源から前記第１開口を通して前記被照明面に至る第１経路を遮るように前記遮光板を位置決めすることを特徴とする光学装置。
2. 前記遮光板は、第１遮光領域と、第２遮光領域とを有し、
   前記駆動部は、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する場合には、前記第１遮光領域が前記第２経路を遮るように前記遮光板を位置決めし、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する場合には、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮るように前記遮光板を位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
3. 前記遮光板は、第１開口領域と前記第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と前記第２遮光領域とを含む第２領域とを有し、
   前記遮光板は、前記開口絞りよりも前記被照明面側に配置され、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域は前記第１開口を通過した光を通過させ、前記第１遮光領域は前記第２開口を通過した光を遮光し、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域は前記第２開口を通過した光を通過させ、前記第２遮光領域は前記第１開口を通過した光を遮光することを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
4. 前記遮光板は、第１開口領域と前記第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と前記第２遮光領域とを含む第２領域とを有し、
   前記遮光板は、前記開口絞りよりも前記光源側に配置され、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域は、前記光源からの光のうち前記第１開口に到達する光を通過させ、前記第１遮光領域は、前記光源からの光のうち前記第２開口に到達する光を遮光し、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域は、前記光源からの光のうち前記第２開口に到達する光を通過させ、前記第２遮光領域は、前記光源からの光のうち前記第１開口に到達する光を遮光することを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
5. 前記第１開口領域の大きさは、前記第１開口の大きさよりも大きく、
   前記第２開口領域の大きさは、前記第２開口の大きさよりも大きいことを特徴とする請求項３又は４のうちいずれか１項に記載の光学装置。
6. 前記遮光板は、第１遮光領域を有する第１遮光板と、第２遮光領域を有する第２遮光板とを有し、
   前記駆動部は、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する場合には、前記第１遮光領域が前記第２経路を遮るように前記第１遮光板を位置決めし、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する場合には、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮るように前記第２遮光板を位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
7. 前記照明光学系、前記開口絞り、前記遮光板及び前記駆動部は、真空環境下に配置されていることを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
8. 前記第１条件は、明視野照明であり、
   前記第２条件は、暗視野照明であることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の光学装置。
9. 光源からの光で被検体を照明する照明光学系と、前記被検体からの光を検出面に結像する結像光学系とを備え、前記被検体の位置を検出する位置検出装置であって、
   前記照明光学系は、
   前記被検体を照明する際の照明条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記照明光学系の瞳面に配置された開口絞りと、
   第１開口領域と第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と第２遮光領域とを含む第２領域とを有する遮光板と、
   前記遮光板を駆動する駆動部と、
   を有し、
   前記駆動部は、
   前記照明条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域が前記光源から前記第１開口を通して前記被検体に至る第１経路を遮断せず、前記第１遮光領域が前記光源から前記第２開口を通して前記被検体に至る第２経路を遮断するように前記第１領域を位置決めし、
   前記照明条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域が前記第２経路を遮断せず、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮断するように前記第２領域を位置決めすることを特徴とする位置検出装置。
10. 光源からの光で被検体を照明する照明光学系と、前記被検体からの光を検出面に結像する結像光学系とを備え、前記被検体の位置を検出する位置検出装置であって、
    前記結像光学系は、
    前記被検体からの光を前記検出面で検出する際の検出条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記結像光学系の瞳面に配置された開口絞りと、
    第１開口領域と第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と第２遮光領域とを含む第２領域とを有する遮光板と、
    前記遮光板を駆動する駆動部と、
    を有し、
    前記駆動部は、
    前記検出条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域が前記被検体から前記第１開口を通して前記検出面に至る第１経路を遮断せず、前記第１遮光領域が前記被検体から前記第２開口を通して前記検出面に至る第２経路を遮断するように前記第１領域を位置決めし、
    前記検出条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域が前記第２経路を遮断せず、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮断するように前記第２領域を位置決めすることを特徴とする位置検出装置。
11. 被検体に電子線を照射する照射系と、前記被検体を透過した電子線を検出面に導く検出系とを備え、前記被検体を観察する顕微鏡装置であって、
    前記検出系は、
    前記被検体を透過した電子線を前記検出面で検出する際の検出条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記検出系の瞳面に配置された開口絞りと、
    第１開口領域と第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と第２遮光領域とを含む第２領域とを有する遮光板と、
    前記遮光板を駆動する駆動部と、
    を有し、
    前記駆動部は、
    前記検出条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域が前記被検体から前記第１開口を通して前記検出面に至る第１経路を遮断せず、前記第１遮光領域が前記被検体から前記第２開口を通して前記検出面に至る第２経路を遮断するように前記第１領域を位置決めし、
    前記検出条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域が前記第２経路を遮断せず、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮断するように前記第２領域を位置決めすることを特徴とする顕微鏡装置。
12. 基板を露光する露光装置であって、
    物体の位置として基板上のマークの位置を検出する位置検出装置と、
    前記位置検出装置によって検出された前記マークの位置に基づいて前記基板を位置決めする位置決め機構と、を備え、
    前記位置検出装置は、
    光源からの光で前記マークを照明する照明光学系と、
    前記マークからの光を検出面に結像する結像光学系と、を備え、
    前記照明光学系は、
    前記マークを照明する際の照明条件を、第１条件に規定するための第１開口と、前記第１条件とは異なる第２条件に規定するための第２開口とを含み、前記照明光学系の瞳面に配置された開口絞りと、
    第１開口領域と第１遮光領域とを含む第１領域と、第２開口領域と第２遮光領域とを含む第２領域とを有する遮光板と、
    前記遮光板を駆動する駆動部と、を有し、
    前記駆動部は、
    前記照明条件を前記第１条件に設定する際には、前記第１開口領域が前記光源から前記第１開口を通して前記マークに至る第１経路を遮断せず、前記第１遮光領域が前記光源から前記第２開口を通して前記マークに至る第２経路を遮断するように前記第１領域を位置決めし、
    前記照明条件を前記第２条件に設定する際には、前記第２開口領域が前記第２経路を遮断せず、前記第２遮光領域が前記第１経路を遮断するように前記第２領域を位置決めすることを特徴とする露光装置。
13. 前記露光装置は、ＥＵＶ光を用いて、レチクルのパターンを前記基板に転写することを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
14. 前記露光装置は、荷電粒子線を用いて前記基板にパターンを描画することを特徴とする請求項１２に記載の露光装置。
15. 請求項１２乃至１４のうちいずれか１項に記載の露光装置が備える位置検出装置で基板上のマークを検出する工程と、
    前記工程で検出された前記マークの位置に基づいて前記基板を位置決めして当該基板を前記露光装置で露光する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。