JP4268813B2 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents
露光方法及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4268813B2 JP4268813B2 JP2003036677A JP2003036677A JP4268813B2 JP 4268813 B2 JP4268813 B2 JP 4268813B2 JP 2003036677 A JP2003036677 A JP 2003036677A JP 2003036677 A JP2003036677 A JP 2003036677A JP 4268813 B2 JP4268813 B2 JP 4268813B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shape
- pattern
- integrator lens
- stripe
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光方法及び露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
カラーフィルタ等の基板に対してマスクパターンを露光する露光装置において、光源部にインテグレーターレンズを設ける技術が知られている。インテグレーターレンズは、複数のマイクロレンズを含む複合レンズとして構成される(特許文献1参照)。そして、各複合レンズから出射した光が重畳されることにより、基板に対して均一な光量分布で露光が行われる。
【0003】
【特許文献1】
特開平11−65002号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、インテグレーターレンズは照射エリアが矩形の場合は矩形のマイクロレンズを2次元に配列し正方形や円形を近似する形状をしており、焦点がぼけると基板に結像される像もその配列形状に応じてぼけ、パターンのエッジの精度が低下していた。
【0005】
そこで、本発明は、パターンのエッジの精度を向上可能な露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
以下、本発明について説明する。なお、本発明の理解を容易にするために添付図面の参照符号を括弧書きにて付記するが、それにより本発明が図示の形態に限定されるものではない。
【0007】
本発明の露光方法は、光源(2)からの光束(L)をインテグレーターレンズ(6、32、33)を介してフォトマスク(9)に照射して、同色の複数の画素(100b)が同一の列に配列されたストライプ状のパターンと、ブラックマトリクス(100a)又は柱状スペーサ(100c)のパターンとを基板(100)に露光する露光方法において、前記インテグレーターレンズの使用範囲の形状を、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際に、前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とし、かつ前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記長手方向及びその方向と直交する方向の各方向において長さが等しい異方性を有しない形状とするとともに、前記インテグレーターレンズの使用範囲の大きさを、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する場合よりも小さくすることにより、上述した課題を解決する。
【0008】
インテグレーターレンズに含まれるマイクロレンズを通過する光束は、そのマイクロレンズと光軸との距離が大きくなるほど、焦点がぼけたときに、光軸からそのマイクロレンズの方向へのぼけを大きくする。一方、インテグレーターレンズの使用範囲が狭いと光量が低下する。本発明によれば、インテグレーターレンズの使用範囲の形状をストライプの長手方向に沿って長い形状とすることから、ストライプの幅方向のぼけが小さくなる一方で、十分な光量が確保される。一般に、ストライプ状のパターンは幅方向について高いエッジ精度が要求されるから、ストライプ状のパターンを必要十分な精度で露光しつつ、大光量で効率的に露光することができる。さらに、フォトマスクにゴミが付着していた場合、その像がストライプ方向にボケるため、露光に及ぼすゴミの影響が緩和される。
【0009】
なお、使用範囲は、光束の重畳に利用される範囲である。従って、例えばインテグレーターレンズの外形そのものを使用範囲としてもよいし、インテグレーターレンズに絞りを設け、その絞りの範囲を使用範囲としてもよい。異方性を有する形状は、長方形等の多角形でもよいし、長円(楕円)でもよい。
【0010】
本発明の露光方法において、前記インテグレーターレンズ(32、33)の断面形状を前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とし、前記使用範囲の形状を前記異方性を有する形状としてもよい。この場合、インテグレーターレンズの形状を異方性を有する形状に形成するだけでよいので、従来の露光装置と同様の構成により、本発明の露光方法が実現される。
【0011】
本発明の露光方法において、前記インテグレーターレンズ(6)の絞り(5b、31)の形状を前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とし、前記使用範囲の形状を前記異方性を有する形状としてもよい。この場合、従来のインテグレーターレンズを使用して、本発明の露光方法を実現することができる。なお、絞りは、インテグレーターレンズの入射側、内部、出射側のいずれに設けられてもよい。
【0016】
本発明の露光装置(1)は、光源(2)からの光束(L)をインテグレーターレンズ(6)を介してフォトマスク(9)に照射して、同色の複数の画素(100b)が同一の列に配列されたストライプ状のパターンと、ブラックマトリクス(100a)又は柱状スペーサ(100c)のパターンとを基板(100)に露光する露光装置において、前記インテグレーターレンズの使用範囲を規定する絞り装置(5)を備え、前記絞り装置は、前記インテグレーターレンズの使用範囲の形状が、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際に、前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状となる一方で、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記長手方向及びその方向と直交する方向の各方向において長さが等しい異方性を有しない形状となるように、絞りの形状が可変に構成されているとともに、前記インテグレーターレンズの使用範囲の大きさが、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する場合よりも小さくなるように、絞りの大きさが可変に構成されていることにより、上述した課題を解決する。
【0017】
本発明の露光装置によれば、上述した本発明の露光方法を実現することができる。また、本発明の露光装置によれば、絞りの形状の調整により光量やぼけ量を適宜に調整できる。基板に露光されるパターンがストライプ状の場合に、絞りの形状がストライプに沿った形状となるので、ストライプの幅方向のぼけ量が縮小されるとともに、露光に必要な光量が確保される。また、絞りの大きさが変更されるため、レジストの感度に応じて、光量の確保とぼけ量の縮小とのいずれかを優先させて露光することもできる。
【0018】
絞り装置は種々のものを利用可能である。例えば、前記絞り装置は、前記絞りを形成する複数の絞り羽根(5a・・・5a)を備え、前記複数の絞り羽根のうち少なくともいずれか一つは他の絞り羽根(5a)に対して移動可能に設けられていてもよい。この場合、絞り羽根間の相対位置の変化により、絞りの形状や大きさが変化する。
【0019】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明の露光装置1の構成を示す側面図である。露光装置1は、カラーフィルタ100にプロキシミティ方式の露光を行う装置として構成されている。カラーフィルタ100には、例えば、図4に示すように、ブラックマトリクス100aと、画素100b・・・100bと、柱状スペーサ100c・・・100cと、オーバーコート100dとが形成される。カラーフィルター100では、同色の画素100b・・・100bが同一の列に配列され、同色の画素100b・・・100bによりストライプ状のパターンが形成される。
【0020】
図1の露光装置1は照明装置20を備えている。照明装置20は、光源2と、光源2の光を集光するための楕円鏡3と、光源2及び楕円鏡3からの光束Lの方向を変化させるミラー4と、ミラー4からの光束Lの断面形状を整形する絞り装置5と、絞り装置5を通過した光束Lを均一化するインテグレータレンズ6と、インテグレータレンズ6からの光束Lの方向を変化させつつ、光束Lを平行光束へと変化させる放物面鏡7とを備えている。
【0021】
また、露光装置1は、放物面鏡7からの光束Lが照射されるフォトマスク9と、カラーフィルタ100を載置するステージ10と、ステージ10を水平方向及び上下方向に駆動する駆動手段11と、駆動手段11等の動作を制御する制御装置12とを備えている。なお、露光装置1はこの他、光束Lの光路を開閉するシャッター等の種々の装置を備えるが、本発明の要旨ではないので説明は省略する。
【0022】
光源2は、例えば超高圧水銀ランプ等のアーク光源を含んで構成されている。楕円鏡3は、例えばガラスに多層膜を蒸着することにより形成され、回転対称な放物面形状の反射面を備えている。光源2は、その中心が楕円鏡3の第1焦点に位置するように配置され、インテグレーターレンズ6は、楕円鏡3の第2焦点付近に配置されている。
【0023】
インテグレーターレンズ6は、図2(a)に示すように、複数のマイクロレンズ6a・・・6aを備えた複合レンズとして構成されている。光束Lの進行方向から見て、各マイクロレンズ6a・・・6aは照射エリアの形状(例えば正方形)に形成されている。インテグレーターレンズ6はマイクロレンズ6a・・・6aが2次元に配列され、その外形は円形を近似する形状に形成されている。
【0024】
絞り装置5は、図2(b)に示すように、L字状の絞り羽根5a、5aを備えている。絞り羽根5a、5aは、L字の内側同士を対向させるように配置され、開口部5bを形成している。なお、インテグレーターレンズ6の使用範囲は、開口部5bを通過した光束Lがインテグレーターレンズ6を通過する範囲となる。絞り羽根5a、5aは、インテグレーターレンズ6を通過する光束を精度よく整形する観点から、インテグレーターレンズ6に密着若しくは近接していることが望ましい。
【0025】
開口部5bの形状及び大きさは、図2(b)、図3(a)〜(c)に示すように、絞り羽根5a、5aの配置を変更することにより、適宜に設定可能である。これらの図に示すインテグレーターレンズ6では、マイクロレンズ6a・・・6aが正方形をしていることから、開口部5bが大きく開かれた方向ほど、使用されるマイクロレンズ6a・・・6aの数が多くなる。
【0026】
なお、絞り装置5は、作業者の手作業により開口部5bの形状等を変更するように構成してもよいし、制御装置12がモータ等により絞り羽根5a、5aを駆動することにより開口部5bの形状等を変更するように構成してもよい。
【0027】
以上の構成を有する露光装置1における開口部5bの設定方法について説明する。
【0028】
図5(a)〜図5(b)は、露光対象の層に応じて開口部5bの形状及び大きさが設定される場合を概念的に示している。ブラックマトリクス層や柱状スペーサの層に対して露光が行われる場合、図5(a)に示すように、開口部5bは比較的小さい正方形に設定される。
【0029】
RGBの層(例えばRの層)に対して露光が行われる場合、図5(b)に示すように、開口部5bの形状はRの画素の配列方向に沿って長い長方形に設定される。このとき、図2(b)に示すように、光束Lの直径いっぱいに開口部5bが延びるように、長方形の長さが設定されることが望ましい。また、長方形の縦横比は、長さが幅の2〜3倍となる程度が望ましい。
【0030】
オーバーコートの層など解像力が必要ない層に対して露光が行われる場合、図5(c)に示すように、開口部5bの形状は比較的大きな正方形に設定される。
【0031】
なお、図5(a)〜(c)の各図に示すように、上記3つのいずれの設定においても、絞り羽根5aの内側のエッジと、マイクロレンズ6a・・・6a間の境界線とが一致するように絞り羽根5aの位置が設定される。このため、各マイクロレンズ6a・・・6aから出射される各光束の一部が絞り羽根5aによって欠けるということがなく、光量分布の均一性が向上する。
【0032】
図6(a)及び図6(b)は、カラーフィルタ100のレジストの感度に応じて、開口部5bの大きさが設定されるとともに、プロキシミティギャップの大きさが設定される場合を概念的に示している。レジストの感度が高い場合、図6(a)に示すように、開口部5bは比較的小さく設定されるとともに、プロキシミティギャップは比較的大きいs1に設定される。これに対して、レジストの感度が低い場合は、図6(b)に示すように、開口部5bが比較的大きく設定されるとともに、プロキシミティギャップが比較的小さいs2に設定される。なお、図6の開口部5bの設定方法と、図5にて示した開口部5bの設定方法とを組み合わせてよい。
【0033】
以上に説明したように、露光装置1では、ブラックマトリクス層や柱状スペーサに対して露光する場合には、開口部5bが比較的小さく設定されるから、パターンのエッジの精度が向上する。RGBの層に対して露光する場合には、開口部5bがストライプ方向に沿った長方形に設定されるから、ストライプの幅方向についてエッジの精度が向上するとともに、大きな光量が確保される。オーバーコートに露光する場合には、開口部5bが比較的大きく設定されるから、大光量で効率的に露光が行われる。
【0034】
また、露光装置1では、レジストの感度が高い場合には、開口部5bが比較的小さく設定されることから、エッジの精度が向上する。レジストの感度が低い場合には、開口部5bが比較的大きく設定されて大きな光量が確保される一方で、プロキシミティギャップが小さく設定されることによりエッジの精度が補償される。
【0035】
図2(b)及び図3(b)に示すように、絞り装置5は、開口部5bの長手方向を90度変換することができるから、ストライプの方向が図5(b)と90度異なるカラーフィルタ100に対しても、ストライプの方向と開口部5bの長手方向を一致させることが可能である。
【0036】
本発明は以上の実施形態に限定されず、本発明の技術的思想と実質的に同一である限り、種々の形態で実施してよい。
【0037】
マイクロレンズ6aの形状は正方形に限定されない。露光領域の形状等に応じて適宜な形状としてよい。また、絞り装置5は、L字の絞り羽根を組み合わせるものに限定されない。開口部5bの形状や大きさを変更できればよく、種々の形状の絞り羽根を適宜な枚数で組み合わせてよい。
【0038】
また、絞りの形状や大きさが固定されていてもよい。例えば、図7(a)に示すように、中央に長方形の開口部31を有する絞り羽根30を露光装置1に利用してもよい。この場合、矢印y1で示すように絞り羽根30を光軸を中心に回転可能に取り付け、長方形の向きを変更可能としてもよいし、絞り羽根30を取り付け直して長方形の向きを変更してもよい。また、開口部31と異なる形状又は大きさの開口部を有する他の絞り羽根と絞り羽根30とを交換することにより、絞りの形状等を変更してもよい。
【0039】
インテグレータレンズ自体の形状をストライプ状のパターンの方向において長くなる異方性を有するものとし、インテグレーターレンズの使用範囲の形状を異方性を有するものとしてもよい。例えば、図7(b)に示すように、断面形状が長方形のインテグレーターレンズ32を用いてもよいし、図7(c)に示すように断面形状が楕円(長円)のインテグレーターレンズ33を用いてもよい。この場合、矢印y2、y3で示すように、インテグレーターレンズ32、33を光軸を中心に回転可能に取り付け、長手方向の向きを変更可能としてもよいし、インテグレーターレンズ32、33を取り付け直して長手方向の向きを変更してもよい。インテグレーターレンズ32、33と、他のインテグレータレンズとを交換することにより、長手方向の向きを変更してもよい。
【0040】
【発明の効果】
本発明によれば、インテグレーターレンズの使用範囲の形状をストライプの長手方向に沿って長い形状とすることから、ストライプの幅方向のぼけが小さくなる一方で、十分な光量が確保される。一般に、ストライプ状のパターンは幅方向について高いエッジ精度が要求されるから、ストライプ状のパターンを必要十分な精度で露光しつつ、大光量で効率的に露光することができる。さらに、フォトマスクにゴミが付着していた場合、その像がストライプ方向にボケるため、露光に及ぼすゴミの影響が緩和される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の露光装置の構成を示す側面図。
【図2】図1の露光装置のインテグレーターレンズ及び絞り装置を示す図。
【図3】図1の露光装置のインテグレーターレンズ及び絞り装置を示す図。
【図4】図1の露光装置により露光されるカラーフィルターを示す図。
【図5】図1の露光装置の使用状態を概念的に示す図。
【図6】図1の露光装置の使用状態を概念的に示す図。
【図7】図2のインテグレーターレンズ及び絞り装置の変形例を示す図。
【符号の説明】
1 露光装置
2 光源
5 絞り装置
6 インテグレーターレンズ
9 フォトマスク
100 基板
L 光束
Claims (4)
- 光源からの光束をインテグレーターレンズを介してフォトマスクに照射して、同色の複数の画素が同一の列に配列されたストライプ状のパターンと、ブラックマトリクス又は柱状スペーサのパターンとを基板に露光する露光方法において、
前記インテグレーターレンズの使用範囲の形状を、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際に、前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とする一方で、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記長手方向及びその方向と直交する方向の各方向において長さが等しい異方性を有しない形状とするとともに、前記インテグレーターレンズの使用範囲の大きさを、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際よりも小さくすることを特徴とする露光方法。 - 前記インテグレーターレンズの断面形状を前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とし、前記使用範囲の形状を前記異方性を有する形状とすることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 前記インテグレーターレンズの絞りの形状を前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状とし、前記使用範囲の形状を前記異方性を有する形状とすることを特徴とする請求項1に記載の露光方法。
- 光源からの光束をインテグレーターレンズを介してフォトマスクに照射して、同色の複数の画素が同一の列に配列されたストライプ状のパターンと、ブラックマトリクス又は柱状スペーサのパターンとを基板に露光する露光装置において、
前記インテグレーターレンズの使用範囲を規定する絞り装置を備え、
前記絞り装置は、前記インテグレーターレンズの使用範囲の形状が、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際に、前記ストライプ状のパターンの長手方向において長くなる異方性を有する形状となる一方で、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記長手方向及びその方向と直交する方向の各方向において長さが等しい異方性を有しない形状となるように、絞りの形状が可変に構成されているとともに、前記インテグレーターレンズの使用範囲の大きさが、前記基板に前記ブラックマトリクス又は前記柱状スペーサのパターンを露光する際に、前記基板に前記ストライプ状のパターンを露光する際よりも小さくなるように、絞りの大きさが可変に構成されていることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003036677A JP4268813B2 (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 露光方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003036677A JP4268813B2 (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 露光方法及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004246144A JP2004246144A (ja) | 2004-09-02 |
JP4268813B2 true JP4268813B2 (ja) | 2009-05-27 |
Family
ID=33021698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003036677A Expired - Fee Related JP4268813B2 (ja) | 2003-02-14 | 2003-02-14 | 露光方法及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4268813B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070103789A1 (en) * | 2005-11-10 | 2007-05-10 | Asml Netherlands B.V. | Optical system, lithographic apparatus and method for projecting |
JP5012002B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2012-08-29 | 凸版印刷株式会社 | 近接露光方法 |
JP5709495B2 (ja) * | 2010-12-06 | 2015-04-30 | 凸版印刷株式会社 | 露光装置 |
JP2013200529A (ja) * | 2012-03-26 | 2013-10-03 | Hitachi High-Technologies Corp | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
JP6356971B2 (ja) * | 2013-01-30 | 2018-07-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置、近接露光方法及び照明光学系 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2647602B2 (ja) * | 1991-08-29 | 1997-08-27 | 三菱電機株式会社 | 投影露光装置 |
JP3173100B2 (ja) * | 1992-02-07 | 2001-06-04 | ソニー株式会社 | 投影露光装置 |
JP3277589B2 (ja) * | 1992-02-26 | 2002-04-22 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
JP3336390B2 (ja) * | 1992-05-26 | 2002-10-21 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
JP3212197B2 (ja) * | 1993-09-24 | 2001-09-25 | 三菱電機株式会社 | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JPH08330212A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-13 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP3879142B2 (ja) * | 1996-04-22 | 2007-02-07 | 株式会社ニコン | 露光装置 |
JP3633105B2 (ja) * | 1996-06-10 | 2005-03-30 | 株式会社ニコン | プロキシミティ露光装置及び露光方法 |
JP3414212B2 (ja) * | 1997-08-21 | 2003-06-09 | 松下電器産業株式会社 | 投写型画像表示装置 |
WO1999036832A1 (fr) * | 1998-01-19 | 1999-07-22 | Nikon Corporation | Dispositif d'eclairement et appareil de sensibilisation |
JP2002040327A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Nikon Corp | 波面分割型のオプティカルインテグレータおよび該オプティカルインテグレータを備えた照明光学装置 |
JPH11317344A (ja) * | 1998-04-30 | 1999-11-16 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2002075843A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Nikon Corp | 露光装置、デバイス製造方法、及び照明装置 |
-
2003
- 2003-02-14 JP JP2003036677A patent/JP4268813B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004246144A (ja) | 2004-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI498663B (zh) | 照明光學裝置、曝光裝置以及元件製造方法 | |
KR100859400B1 (ko) | 광 조사 장치 | |
JP2004170628A (ja) | マイクロレンズ基板の作製方法およびマイクロレンズ露光光学系 | |
JP4268813B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
US20120212717A1 (en) | Exposure apparatus and photo mask | |
WO2007029561A1 (ja) | 露光装置 | |
TWI392975B (zh) | Light irradiation device | |
CN108170009B (zh) | 曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法 | |
JP2000089684A (ja) | 投射型画像表示装置 | |
TWI587097B (zh) | 照明裝置、曝光設備、調整方法及製造物品的方法 | |
JP2019028084A (ja) | 露光装置 | |
TWI770239B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP3900626B2 (ja) | マイクロレンズ付きカラーフィルタ基板 | |
JPH11260705A (ja) | 露光装置 | |
JP2001332473A5 (ja) | ||
JP3627355B2 (ja) | スキャン式露光装置 | |
JP4205808B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5831516B2 (ja) | 画像形成装置 | |
TWI250368B (en) | Projection system and light blocking board thereof | |
JP2010067943A (ja) | 補正ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
JP3974231B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2006019476A (ja) | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
JP2009145452A (ja) | 光照射装置 | |
WO2004090955A1 (ja) | 照明光学装置、投影露光装置及び露光方法 | |
JP2002343695A (ja) | 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090123 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090217 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090223 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4268813 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |