JP2016027604A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. 電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、
   前記電子ビームを発生させる電子源と、
   前記電子ビームのビーム形状を制御するレンズ系と、
   前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、
   を備え、
   前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ〜１００Ａに設定されることを特徴とする表面処理装置。
2. 電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、
   前記電子ビームを発生させる複数の電子源と、
   前記複数の電子源からの電子ビームのビーム形状をそれぞれ制御する複数のレンズ系と、
   前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、
   を備え、
   前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ〜１００Ａに設定されることを特徴とする表面処理装置。
3. 電子ビームを照射して試料の表面処理を行う表面処理装置であって、
   所定の波長の光を発生させる光源と、
   前記光源からの光の照射により電子ビームを発生する光電カソードと、
   前記電子ビームが照射される前記試料が設置されるステージと、
   を備え、
   前記試料に照射される前記電子ビームの電流量は、１０ｎＡ〜１００Ａに設定されることを特徴とする表面処理装置。
4. 前記試料の形状は、円形であり、
   前記電子ビームの照射領域の形状は、扇形であり、
   前記表面処理装置は、
   前記試料の全面に前記電子ビームを照射できるように前記ステージを回転移動させるステージ制御部を備える、請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理装置。
5. 前記試料の形状は、矩形であり、
   前記電子ビームの照射領域の形状は、前記試料より小サイズの矩形であり、
   前記表面処理装置は、
   前記試料の全面に前記電子ビームを照射できるように前記ステージを並進移動させるステージ制御部を備える、請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理装置。
6. 前記電子源は、前記ステージより下側に配置され、
   前記試料は、前記表面処理がなされる面を下向きにして前記ステージに設置され、
   前記電子ビームは、前記試料に下側から照射される、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理装置。