JP2013197365A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】大電流を流すために電極面積を増大し、コネクタ面積を大きくしても、半導体チップが封止された半導体装置の内部応力による信頼性の低下を防止し、組立工程での歩留を確保できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置80には、半導体チップ2、第1の電極端子、第2の電極端子、及びコネクタ5が設けられる。半導体チップは、第1の電極端子上に載置される。第2の電極端子は、第1の電極端子と離間配置される。コネクタは、第1乃至第3の構成部からなり、第1の構成部は第1の接続部を介して半導体チップの電極上に載置され、第3の構成部は第2の接続部を介して第2の電極端子上に載置され、第2の構成部は第1及び第3の構成部を連結し、第1乃至第3の構成部の内、少なくとも1つには穴が設けられる。
【選択図】図1
【解決手段】半導体装置80には、半導体チップ2、第1の電極端子、第2の電極端子、及びコネクタ5が設けられる。半導体チップは、第1の電極端子上に載置される。第2の電極端子は、第1の電極端子と離間配置される。コネクタは、第1乃至第3の構成部からなり、第1の構成部は第1の接続部を介して半導体チップの電極上に載置され、第3の構成部は第2の接続部を介して第2の電極端子上に載置され、第2の構成部は第1及び第3の構成部を連結し、第1乃至第3の構成部の内、少なくとも1つには穴が設けられる。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、半導体装置に関する。
IGBT(insulated gate bipolar transistor)やパワーMOSトランジスタなどのパワー素子が封止される半導体装置では、パワー素子の電極と電極端子の間を接続するコネクタ、或いはパワー素子の電極と別のパワー素子の電極の間を接続するコネクタなどが多用される。コネクタが使用されるコネクタ接合型半導体装置は、民生用及び産業用のパワー分野に適用される。近年、パワー素子には、大電流化や高耐圧化が強く要求されている。
パワー素子に大電流を流すために電極面積を増大するとコネクタ面積が大きくなり、内部応力により半導体チップが封止された半導体装置の信頼性が低下するという問題点がある。また、組立工程での歩留が低下するという問題点がある。
本発明は、信頼性を向上することができる半導体装置を提供することにある。
一つの実施形態によれば、半導体装置には、半導体チップ、第1の電極端子、第2の電極端子、及びコネクタが設けられる。半導体チップは、第1の電極端子上に載置される。第2の電極端子は、第1の電極端子と離間配置される。コネクタは、第1乃至第3の構成部からなり、第1の構成部は第1の接続部を介して半導体チップの電極上に載置され、第3の構成部は第2の接続部を介して第2の電極端子上に載置され、第2の構成部は第1及び第3の構成部を連結し、第1乃至第3の構成部の内、少なくとも1つには穴が設けられる。
以下本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
(第一の実施形態)
まず、本発明の第一の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図1は半導体装置を示す平面図である。図2は図1のA−A線に沿う半導体装置の断面図である。図3は穴形成領域の拡大断面図である。図4は穴の形状を示す平面図である。本実施形態では、半導体チップ上のコネクタに穴を設けて内部応力を低減している。
まず、本発明の第一の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図1は半導体装置を示す平面図である。図2は図1のA−A線に沿う半導体装置の断面図である。図3は穴形成領域の拡大断面図である。図4は穴の形状を示す平面図である。本実施形態では、半導体チップ上のコネクタに穴を設けて内部応力を低減している。
図1に示すように、半導体装置80には、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。半導体装置80は、半導体チップ2が封止され、電極端子と電極がコネクタで接合されたコネクタ接合型半導体装置である。半導体装置80は、電鉄応用分野、電気自動車、インバータ分野、誘導加熱分野など種々の分野に適用される。
ここで、半導体チップ2は、IGBT(insulated gate bipolar transistor)である。電極端子1はドレイン電極端子である。電極端子3はソース電極端子である。電極端子4はゲート電極端子である。
半導体チップ2は、電極端子1上に載置される。コネクタ5は、構造部5a乃至5cから構成される。コネクタ5の構造部5aは、半導体チップ2の図示しないソース電極上に載置される。コネクタ5の構造部5cは、電極端子3上に載置される。コネクタ5の構造部5bは、コネクタ5の構造部5aとコネクタ5の構造部5cの間を連結する。コネクタ6は、構造部6a乃至6cから構成される、コネクタ6の構造部6aは、半導体チップ2の図示しないゲート電極上に載置される。コネクタ6の構造部6cは、電極端子4上に載置される。コネクタ6の構造部6bは、コネクタ6の構造部6aとコネクタ6の構造部6cの間を連結する。
半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aには、中央部に穴が複数設けられる穴形成領域8が設けられる。穴形成領域8を設けることにより、半導体装置80に発生する内部応力が低減され、組み立て工程の歩留を向上することができる(詳細は後述する)。
電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、及びコネクタ6は、封止材7で樹脂封止される。なお、電極端子3及び電極端子4の図中右端部は露呈される。コネクタ5、コネクタ6、電極端子1、電極端子3、及び電極端子4は、例えばCu(銅)から構成される。封止材7は、例えばエポキシ樹脂から構成される。
ここでは、コネクタ5及びコネクタ6はCu(銅)から構成されているが、代わりにニッケル(Ni)メッキされた銅(Cu)、銀(Ag)メッキされた銅(Cu)、金(Au)メッキされた銅(Cu)、銅合金、或いはアルミニウム(Al)などを用いてもよい。また、封止材7はエポキシ樹脂から構成されているが、代わりにシリコーン樹脂などを用いてもよい。
IGBTである半導体チップ2は、ソース電極がゲート電極よりも面積が大きく設計されている。比較的面積の大きなソース電極にコネクタ接合するために、コネクタ5の構造部5aはコネクタ6の構造部6aよりも面積が大きく設定される。
図2に示すように、電極端子1の第一主面(表面)上に接着部9aを介して半導体チップ2が設けられる。接着部9aは、電極端子1と半導体チップ2を接合する。電極端子1の第一主面と相対向する第二主面(裏面)は露呈される。半導体チップ2の第一主面(表面)上に接着部9bを介してコネクタ5の構成部5aが設けられる。接着部9bは、半導体チップ2とコネクタ5の構成部5aを接合する。接着部9cは、電極端子3とコネクタ5の構成部5cを接合する。
接着部9a乃至9cは、Pb(鉛)フリー半田(例えば、Sn(錫)−Ag(銀)−Cu(銅))から構成される。なお、Sn(錫)−Ag(銀)−Cu(銅)系半田の代わりに、Sn(錫)−Cu(銅)系半田、Sn(錫)−Zn(亜鉛)系半田、Sn(錫)−Bi(ビスマス)系半田、或いはSn(錫)−37Pb(鉛)半田などを用いてもよい。
図3に示すように、穴形成領域8部での半導体装置80では、IGBTである半導体チップ2のN層21の第一主面(表面)にP層22が設けられる。P層22の第一主面(表面)には、N+ソース層23が設けられる。なお、N層21の第一主面(表面)と相対向する第二主面(裏面)側には、図示しないN+バッファ層、P+ドレイン層、及びドレイン電極などが設けられる。
P層22と隣接するP層22の間のN層21の第一主面(表面)上には、ゲート絶縁膜24とゲート電極25がP層22及びN+ソース層23とオーバーラップするように積層形成される。ゲート絶縁膜24とゲート電極25の周囲には、絶縁膜26が設けられる。P層22、N+ソース層23、及び絶縁膜26上には、ソース電極27が設けられる。
ソース電極27の第一主面(表面)上には、ソース電極27とコネクタ5の構成部5aを固着する接着部9bが設けられる。接着部9bの第一主面(表面)上には、複数の穴11を有するコネクタ5の構成部5aが設けられる。コネクタ5は、厚さT1を有する。穴11は、幅W1を有する。穴11と隣接する穴11の間隔は、幅W2を有する。穴11には、接着部9bが高さH1までせり上がるように形成される。高さH1は、例えば、コネクタ5の厚さT1の(1/2)までせり上がっている。
コネクタ5の構成部5a及び接着部9bの第一主面(表面)上には、コネクタ5の構成部5a及び接着部9bを覆うように封止材7が設けられる。
図4(a)に示すように、本実施形態の半導体装置80では、表面から見た穴11の形状を四角形(断面は四角柱形状)にしている。穴11を四角形にすると半導体チップ2と相似した形状となり、半導体装置80の内部応力の回転方向に対する制御能力が向上するという利点がある。
なお、図4(b)に示すように、表面から見た穴11の形状を円形(断面は円柱)にしてもよい。この場合、半導体装置80での組み立て工程中の半田溶融時での抵抗を減少でき、発生するボイドを低減する利点がある。表面から見た穴11の形状を楕円形(断面は楕円柱)にしてもよい。
ここで、穴形成領域8の中心位置は、内部応力の緩和を考慮して半導体チップ2と当接するコネクタ5の構成部5aの中心位置に合わせるのが好ましい。穴11を複数設けた場合、左右対称に配置するのが好ましい。穴11の数を複数設けているが1つ設けてもよい。穴11は、半導体チップ2と当接するコネクタ5の構成部5aの面積の3%以上にし、半導体装置80のオン抵抗(Ron)に影響を与えない面積に抑えるのが好ましい。
次に、半導体装置の信頼性について図5乃至7を参照して説明する。図5は電極にかかる応力を示す図である。図6は前処理によるΔIdsの変化を示す図である。図7はTCT試験でのΔIdsの変化を示す図である。
図5に示すように、穴形成領域8が設けられていない比較例の半導体装置と比較して、穴形成領域8が設けられる本実施形態の半導体装置80では、穴11により内部応力が28%低減される。
図6に示すように、TCT(Thermal Cycling Test 熱衝撃サイクルテスト)試験の前に実行される前処理により、比較例の半導体装置ではΔIds(ドレインーソース間に流れるドレイン電流の変化)が変化するのに対して、本実施形態の半導体装置80ではΔIdsの変化を大幅に抑制することができる。
具体的には、前処理1サイクルで、比較例の半導体装置ではΔIdsが10%変化するのに対して、本実施形態の半導体装置80ではΔIdsの変化がほとんどない(略0%)。また、前処理3サイクルを実施しても、本実施形態の半導体装置80ではΔIdsの変化がほとんど発生しない(略0%)。
なお、前処理1サイクルでは、85℃/(湿度)85%で168H放置と260℃でのリフロー処理が繰り返し3回実行される。
図7に示すように、TCT試験を100サイクル実施すると、比較例の半導体装置ではΔIdsが100%変化する。一方、本実施形態の半導体装置80では、穴11が設けられる穴形成領域8をコネクタ5の構成部5aに設けて内部応力を緩和しているのでΔIdsの変化がほとんどない(略0%)。
上述したように、本実施形態の半導体装置では、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、及びコネクタ6は、封止材7で樹脂封止される。半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aには、中央部に穴11が複数設けられる穴形成領域8が設けられる。
このため、半導体装置80に発生する内部応力を大幅に低減することができる。また、穴11を設けることにより、半田のフラックスの揮発成分を容易に排出することができ半田ボイドの発生を大幅に抑制することができる。また、穴11を設けることにより、半田厚のバラツキ、コネクタ5の位置ズレ等を大幅に低減することができる。したがって、半導体装置80の信頼性を向上することができ、組み立て工程の歩留を向上することができる。
なお、本実施形態では、接着部9bを介して、半導体チップ2のソース電極27上に設けられるコネクタ5の構成部5aに穴11を設けているが、図8及び図9に示す第一の変形例の半導体装置80aのように、接着部9cを介して、ソース電極端子である電極端子3上に設けられるコネクタ5の構成部5cに穴11を設けてもよい。具体的には、図8に示すように、電極端子3と構成部5cが当接する領域の構成部5c中央部に穴形成領域31を設ける。図9に示すように、穴11は幅W1で、穴11と穴11の間の構成部5cが幅W2に形成している。穴11の部分では、半田である接着部9bが高さH1までせり上がるように形成している。高さH1は、例えば、コネクタ5の厚さT1の(1/2)になるように形成している。
また、本実施形態では、IGBTに適用しているが、パワーMOSトランジスタ、パワーIC、パワーモジュール等にも適用することができる。
また、本実施形態では、ソース電極27上のコネクタ5の構成部5aに穴11を設けているが、更にゲート電極27上のコネクタ6の構成部6aにも穴11を設けてもよい。
(第二の実施形態)
次に、本発明の第二の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図10は半導体装置を示す平面図である。図11は図10のC−C線に沿う断面図である。本実施形態では、半導体チップ上のコネクタの接着部と当接する端部の厚さを外側になるほど薄くなるようにして内部応力を低減している。
次に、本発明の第二の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図10は半導体装置を示す平面図である。図11は図10のC−C線に沿う断面図である。本実施形態では、半導体チップ上のコネクタの接着部と当接する端部の厚さを外側になるほど薄くなるようにして内部応力を低減している。
以下、第一の実施形態と同一構成部分には、同一符号を付してその部分の説明を省略し、異なる部分のみ説明する。
図10に示すように、半導体装置81には、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aaには、端部に傾斜形成領域32が設けられる。
半導体装置81は、半導体チップ2が封止され、電極端子と電極がコネクタで接合されたコネクタ接合型半導体装置である。半導体装置81は、電鉄応用分野、電気自動車、インバータ分野、誘導加熱分野など種々の分野に適用される。
図11に示すように、半導体装置81では、半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aaの端部(例えば、構成部5aaの20%の領域)を接着部9bが当接する側を外側に向かって薄くするように形成している(幅W11、高さH11)。高さH11を、例えば、20〜50μmに設定するのが好ましい。ここでは、直線的に厚さを薄くしているが、段差を設けたり、或いはR状の形状にしてもよい。
構成部5aaの端部に傾斜形成領域32を設けると、構成部5aaの端部の半田量が増加する。
上述したように、本実施形態の半導体装置では、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aaには、端部に傾斜形成領域32が設けられる。
このため、内部応力が集中し、クラックの起点となるコネクタ5の構成部5aaの端部の半田厚を厚くできるので半導体装置81の信頼性を向上することができる。また、過度に半田量を増やす必要がないのでコネクタ5の位置バラツキや傾きを減少することができる。
(第三の実施形態)
次に、本発明の第三の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図12は半導体装置を示す平面図である。図13及び図14はレーザ刻印の配置を示す図である。本実施形態では、半導体チップを載置する電極端子にレーザ刻印を設けている。
次に、本発明の第三の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図12は半導体装置を示す平面図である。図13及び図14はレーザ刻印の配置を示す図である。本実施形態では、半導体チップを載置する電極端子にレーザ刻印を設けている。
以下、第一の実施形態と同一構成部分には、同一符号を付してその部分の説明を省略し、異なる部分のみ説明する。
図12に示すように、半導体装置82には、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。半導体チップ2の周囲のコネクタ5の構成部5aの第1主面表面には、レーザ刻印形成領域33が設けられる。
半導体装置82は、半導体チップ2が封止され、電極端子と電極がコネクタで接合されたコネクタ接合型半導体装置である。半導体装置82は、電鉄応用分野、電気自動車、インバータ分野、誘導加熱分野など種々の分野に適用される。
図13に示すように、レーザ刻印形成領域33は、複数の凹部41から構成される。凹部41は、レーザ照射により形成される。凹部41は、半導体チップ2が載置されるチップ載置領域に対して等距離に離間配置される。凹部41は、ストライプ状をなし、例えば、長さが300μm以上、深さ3〜100μmの範囲に設定される。凹部41は、コーナーカット領域である領域A、左右の辺の中央部である領域B、及び上下の辺の中央部である領域Cを除く部分に配置される。領域Aは、例えば、チップ載置領域のコーナー部から例えば100μmまでの範囲である。領域Bは、例えば、{(半導体チップ2の側面の長さ+100)/3μm}の範囲である。領域Bは、例えば、{(半導体チップ2の上面の長さ+100)/3μm}の範囲である。
図14に示すように、円形をなして直列に7個配置される凹部42がチップ載置領域のコーナー部の8ヶ所に配置されるように、レーザ刻印形成領域33を設けてもよい。
上述したように、本実施形態の半導体装置では、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。半導体チップ2の周囲のコネクタ5の構成部5aの第1主面表面には、レーザ刻印形成領域33が設けられる。
このため、半導体チップ2の載置位置を高精度に配置することが可能となる。また、接着部9bの半田厚のバラツキを低減化することができる。したがって、半導体装置82の組み立て歩留や信頼性を向上することができる。
なお、本実施形態では、半導体チップ2を載置する電極端子1にレーザ刻印を設けているが必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、図15に示す第二の変形例の半導体装置82aのソース電極端子である電極端子3にレーザ刻印を設けてもよい。
(第四の実施形態)
次に、本発明の第四の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図16は半導体装置を示す平面図である。本実施形態では、コネクタの連結部分に穴形成領域を設けている。
次に、本発明の第四の実施形態に係る半導体装置について、図面を参照して説明する。図16は半導体装置を示す平面図である。本実施形態では、コネクタの連結部分に穴形成領域を設けている。
以下、第一の実施形態と同一構成部分には、同一符号を付してその部分の説明を省略し、異なる部分のみ説明する。
図16に示すように、半導体装置83には、電極端子1、半導体チップ2、電極端子3、電極端子4、コネクタ5、コネクタ6、及び封止材7が設けられる。
半導体装置83は、半導体チップ2が封止され、電極端子と電極がコネクタで接合されたコネクタ接合型半導体装置である。半導体装置83は、電鉄応用分野、電気自動車、インバータ分野、誘導加熱分野など種々の分野に適用される。
コネクタ5の連結部分である構成部5bには、穴形成領域51が設けられる。コネクタ6の連結部分である構成部6bには、穴形成領域52が設けられる。穴形成領域51と穴形成領域52には、四角形或いは円形をなす穴11が設けられる。穴形成領域51及び穴形成領域52を設けると、コネクタ5と封止材7の接触面積が増大し、コネクタ6と封止材7の接触面積が増大する。
上述したように、本実施形態の半導体装置では、コネクタ5の連結部分である構成部5bには、穴形成領域51が設けられる。コネクタ6の連結部分である構成部6bには、穴形成領域52が設けられる。
このため、アンカー効果によりコネクタ5及びコネクタ6と封止材7の密着性を向上することができる。したがって、半導体装置93の信頼性を向上することができる。
なお、第一の実施形態では穴11を半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5aに設け、第一の変形例では穴11を電極端子3上のコネクタ5の構成部5cに設け、第四の実施形態では穴11をコネクタ5の中継部分である構成部5bとコネクタ6の中継部分である構成部6bに設けているが、必ずしもこれに限定されるものではない。穴11は、半導体チップ2上のコネクタ5の構成部5a、電極端子3上のコネクタ5の構成部5c、及びコネクタの中継部分の少なくとも1つに設ければよい(例えば、3つの部分すべてに設けてもよい)。
また、第三の実施形態では半導体チップ2の周囲の電極端子1の第1主面上にレーザ刻印を設け、第二の変形例ではコネクタ5の構成部5cと当接する電極端子3の第1主面上にレーザ刻印を設けているが必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、電極端子1、電極端子3、及び電極端子4にレーザ刻印を設けてもよい。
また、実施形態では、IGBTからなる半導体チップ2が搭載された半導体装置に適用したが、複数の半導体チップが搭載され、半導体チップ間をコネクタで接続する半導体モジュールなどにも適用することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1、3、4 電極端子
2 半導体チップ2
5、6 コネクタ
5a〜5c、5aa、6a〜6c 構成部
7 封止材
8、31 穴形成領域
9a〜9c 接着部
11 穴
21 N層
22 P層
23 N+ソース層
24 ゲート絶縁膜
25 ゲート電極
26 絶縁膜
27 ソース電極
32 傾斜形成領域
33、34 レーザ刻印形成領域
41、42 凹部
51、52 穴形成領域
80〜83、80a、82a 半導体装置
H1、H11 高さ
T1 厚さ
W1、W2、W11 幅
2 半導体チップ2
5、6 コネクタ
5a〜5c、5aa、6a〜6c 構成部
7 封止材
8、31 穴形成領域
9a〜9c 接着部
11 穴
21 N層
22 P層
23 N+ソース層
24 ゲート絶縁膜
25 ゲート電極
26 絶縁膜
27 ソース電極
32 傾斜形成領域
33、34 レーザ刻印形成領域
41、42 凹部
51、52 穴形成領域
80〜83、80a、82a 半導体装置
H1、H11 高さ
T1 厚さ
W1、W2、W11 幅
Claims (10)
- 第1の電極端子上に載置される半導体チップと、
前記第1の電極端子と離間配置される第2の電極端子と、
第1乃至第3の構成部からなり、前記第1の構成部は第1の接続部を介して前記半導体チップの電極上に載置され、前記第3の構成部は第2の接続部を介して前記第2の電極端子上に載置され、前記第2の構成部は前記第1及び第3の構成部を連結し、前記第1乃至第3の構成部の内、少なくとも1つには穴が設けられるコネクタと、
を具備することを特徴とする半導体装置。 - 前記穴は、表面から見て四角形、円形、或いは楕円形を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記穴には、前記コネクタの厚さの(1/2)まで接続部がせり上がっていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 第1の電極端子上に載置される半導体チップと、
前記第1の電極端子と離間配置される第2の電極端子と、
第1乃至第3の構成部からなり、前記第1の構成部は第1の接続部を介して前記半導体チップの電極上に載置され、前記第1の接合部に当接する端部において前記第1の接合部側の厚さが外側になるほど薄くなり、前記第3の構成部は第2の接続部を介して前記第2の電極端子上に載置され、前記第2の構成部は前記第1及び第3の構成部を連結するコネクタと、
を具備することを特徴とする半導体装置。 - 第1主面に半導体チップが載置され、前記半導体チップの周囲を取り囲むように第1主面表面に凹部が設けられる第1の電極端子と、
前記第1の電極端子と離間配置される第2の電極端子と、
第1乃至第3の構成部からなり、前記第1の構成部は第1の接続部を介して前記半導体チップの電極上に載置され、前記第3の構成部は第2の接続部を介して前記第2の電極端子上に載置され、前記第2の構成部は前記第1及び第3の構成部を連結するコネクタと、
を具備することを特徴とする半導体装置。 - 第1の電極端子上に載置される半導体チップと、
前記第1の電極端子と離間配置される第2の電極端子と、
第1乃至第3の構成部からなり、前記第1の構成部は第1の接続部を介して前記半導体チップの電極上に載置され、前記第3の構成部は第2の接続部を介して前記第2の電極端子上に載置され、前記第2の構成部は前記第1及び第3の構成部を連結するコネクタと、
前記第2の電極端子の前記第3の構成部と当接する部分の周囲を取り囲むように、前記第2の電極端子の第1主面表面に設けられる凹部と、
を具備することを特徴とする半導体装置。 - 前記半導体チップ、前記第1の電極端子の第1主面、前記コネクタ、及び前記第2の電極端子の前記第3の構成部に当接する部分が樹脂封止され、前記第1の電極端子の第1主面と相対向する第2主面が露呈されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記コネクタは、銅(Cu)、ニッケル(Ni)された銅(Cu)、銀(Ag)メッキされた銅(Cu)、金(Au)メッキされた銅(Cu)、銅合金、或いはアルミニウム(Al)から構成されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記半導体装置は、IGBT、パワーMOSトランジスタ、パワーIC、或いはパワーモジュールであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記第1及び第2の接合部は、半田から構成されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の半導体装置。
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