JP2013187191A - 有機発光装置の製造方法、無機膜転写用基板及び有機発光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第2基板11上に、低温粘度変化(Low Temperature Viscosity Transition: LVT)無機物を含む少なくとも一つの予備無機膜を形成するステップと、第1基板1′上に、少なくとも一つの有機発光部2を形成するステップと、第2基板11及び第1基板1′のうち少なくとも一つのエッジに沿って、接着剤12を塗布するステップと、予備無機膜と有機発光部2とが互いに対向するように、接着剤12により、第2基板11と第1基板1′とを接合するステップと、予備無機膜を、LVT無機物の粘度変化温度以上の温度でヒーリングして、有機発光部2を覆うように、無機膜4を転写するステップと、を含む。
【選択図】図6G
Description
−SnO;
−SnO及びP2O5;
−SnO及びBPO4;
−SnO,SnF2及びP2O5;
−SnO,SnF2,P2O5及びNbO;または
−SnO,SnF2,P2O5及びWO3;
を含むが、これらに限定されるものではない。
2)SnO(80wt%)及びP2O5(20wt%);
3)SnO(90wt%)及びBPO4(10wt%);
4)SnO(20ないし50wt%),SnF2(30ないし60wt%)及びP2O5(10ないし30wt%)(ここで、SnO,SnF2及びP2O5の重量和は、100wt%である);
5)SnO(20ないし50wt%),SnF2(30ないし60wt%),P2O5(10ないし30wt%)及びNbO(1ないし5wt%)(ここで、SnO,SnF2,P2O5及びNbOの重量和は、100wt%である);または
6)SnO(20ないし50wt%),SnF2(30ないし60wt%),P2O5(10ないし30wt%)及びWO3(1ないし5wt%)(ここで、SnO,SnF2,P2O5及びWO3の重量和は、100wt%である)。
1′ マザー基板
2 有機発光部
3 有機膜
4 無機膜
4″ 予備無機膜
11 第2基板
12 接着剤
31 第1有機膜
32,32′,32″ 第2有機膜
Claims (58)
- 第2基板上に、低温粘度変化(Low Temperature Viscosity Transition: LVT)無機物を含む少なくとも一つの予備無機膜を形成するステップと、
第1基板上に、少なくとも一つの有機発光部を形成するステップと、
前記第2基板及び前記第1基板のうち少なくとも一つのエッジに沿って、接着剤を塗布するステップと、
前記予備無機膜と前記有機発光部とが互いに対向するように、前記接着剤により前記第2基板と前記第1基板とを接合するステップと、
前記予備無機膜を、前記LVT無機物の粘度変化温度以上の温度でヒーリングして、前記有機発光部を覆うように、無機膜を転写するステップと、を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法。 - 前記無機膜を、前記第2基板から分離させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記予備無機膜を形成するステップは、
前記LVT無機物の粉末を含むペーストを、前記第2基板上に塗布するステップと、
前記ペーストを焼成するステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記予備無機膜を形成するステップは、
前記LVT無機物の粉末を含む分散液を、前記第2基板上にスプレー法により塗布するステップと、
前記分散液を熱処理するステップと、を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記第2基板と前記第1基板とを接合するステップは、真空、減圧または水分や酸素の影響がない不活性雰囲気で行われて、前記第2基板と前記第1基板との間を真空状態にするステップであることを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記LVT無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値より低いことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、SnO;SnO及びP2O5;SnO及びBPO4;SnO,SnF2及びP2O5;SnO,SnF2,P2O5及びNbO;またはSnO,SnF2,P2O5及びWO3;を含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、前記LVT無機物の粘度変化温度以上ないし前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値未満の範囲で、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、80℃ないし132℃の範囲で、1時間ないし3時間、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップを、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、前記予備無機膜にレーザを照射してスキャニングするステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の有機膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の有機膜を形成するステップをさらに含み、
前記無機膜を、前記第2基板から分離させるステップは、前記有機膜にレーザを照射して、前記有機膜を、前記第2基板から分離させるステップを含むことを特徴とする請求項2に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記有機膜は、前記無機膜の少なくとも一部を覆うように形成されたことを特徴とする請求項16に記載の有機発光装置の製造方法。
- 第2基板上に、LVT無機物を含む少なくとも一つの予備無機膜を形成するステップと、
第1基板上に、少なくとも一つの有機発光部を形成するステップと、
前記第1基板及び有機発光部上に、前記有機発光部を覆うように、少なくとも一層の第1有機膜を形成するステップと、
前記第2基板及び前記第1基板のうち少なくとも一つのエッジに沿って、接着剤を塗布するステップと、
前記予備無機膜と前記第1有機膜とが互いに対向するように、前記第2基板と前記第1基板とを前記接着剤により結合するステップと、
前記予備無機膜を、前記LVT無機物の粘度変化温度以上の温度でヒーリングして、前記第1有機膜を覆うように、無機膜を転写するステップと、を含むことを特徴とする有機発光装置の製造方法。 - 前記無機膜を、前記第2基板から分離させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第1有機膜を形成するステップは、硬化性前駆体を提供するステップと、前記硬化性前駆体を硬化させるステップとを含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記硬化性前駆体を提供するステップを、フラッシュ蒸発法を利用して行うことを特徴とする請求項22に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記硬化性前駆体を硬化させるステップを、UV(紫外線)硬化、赤外線硬化またはレーザ硬化を利用して行うことを特徴とする請求項22に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記予備無機膜を形成するステップは、
前記LVT無機物の粉末を含むペーストを、前記第2基板上に塗布するステップと、
前記ペーストを焼成するステップと、を含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記予備無機膜を形成するステップは、
前記LVT無機物の粉末を含む分散液を、前記第2基板上にスプレーコーティングするステップと、
前記分散液を熱処理するステップと、を含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記第2基板と前記第1基板とを接合するステップは、真空、減圧または水分や酸素の影響がない不活性雰囲気で行われて、前記第2基板と前記第1基板との間を真空状態にするステップであることを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記LVT無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値より低いことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項30に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記LVT無機物は、SnO;SnO及びP2O5;SnO及びBPO4;SnO,SnF2及びP2O5;SnO,SnF2,P2O5及びNbO;またはSnO,SnF2,P2O5及びWO3;を含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、前記LVT無機物の粘度変化温度以上ないし前記有機発光部に含まれた物質の変性温度のうち最小値未満の範囲で、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、80℃ないし132℃の範囲で、1時間ないし3時間、前記予備無機膜を熱処理するステップを含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップを、真空雰囲気または不活性ガス雰囲気下で行うことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記転写するステップは、前記予備無機膜にレーザを照射してスキャニングするステップを含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の第2有機膜を形成するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の有機発光装置の製造方法。
- 前記第2基板と前記予備無機膜との間に介在するように、少なくとも一層の第2有機膜を形成するステップをさらに含み、
前記無機膜を、前記第2基板から分離させるステップは、前記第2有機膜にレーザを照射して、前記第2有機膜を、前記第2基板から分離させるステップを含むことを特徴とする請求項20に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記第2有機膜は、前記無機膜の少なくとも一部を覆うように形成されたことを特徴とする請求項37に記載の有機発光装置の製造方法。
- 基板と、
前記基板の一面に形成され、LVT無機物を含む少なくとも一層の無機膜と、を備えることを特徴とする無機膜転写用基板。 - 前記無機膜と前記基板との間に介在する少なくとも一層の有機膜をさらに備えることを特徴とする請求項40に記載の無機膜転写用基板。
- 前記有機膜は、耐熱有機物を含むことを特徴とする請求項41に記載の無機膜転写用基板。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記LVT無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項40に記載の無機膜転写用基板。
- 前記LVT無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項40に記載の無機膜転写用基板。
- 前記LVT無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項44に記載の無機膜転写用基板。
- 前記LVT無機物は、SnO;SnO及びP2O5;SnO及びBPO4;SnO,SnF2及びP2O5;SnO,SnF2,P2O5及びNbO;またはSnO,SnF2,P2O5及びWO3;を含むことを特徴とする請求項40に記載の無機膜転写用基板。
- 前記基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項40に記載の無機膜転写用基板。
- 第1基板と、
前記第1基板の一面に形成された有機発光部と、
LVT無機物を含み、前記有機発光部を覆う無機膜と、
前記無機膜と接するように、前記無機膜上に位置し、前記第1基板と対向した第2基板と、を備えることを特徴とする有機発光装置。 - 前記無機膜は、前記有機発光部を覆うように、前記有機発光部上に転写されたことを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記無機膜と前記有機発光部との間に介在する第1有機膜をさらに備えることを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記無機膜は、前記第1有機膜を覆うように、前記第1有機膜上に転写されたことを特徴とする請求項50に記載の有機発光装置。
- 前記第2基板と前記無機膜との間に介在する第2有機膜をさらに備えることを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記第1基板と第2基板との間に介在し、前記有機発光部の外側に位置する接着剤をさらに含むことを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記LVT無機物の粘度変化温度は、前記LVT無機物に流動性を提供できる最小温度であることを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記LVT無機物は、スズ酸化物を含むことを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記LVT無機物は、リン酸化物、リン酸ホウ素、スズフッ化物、ニオブ酸化物及びタングステン酸化物のうち一種以上をさらに含むことを特徴とする請求項55に記載の有機発光装置。
- 前記LVT無機物は、SnO;SnO及びP2O5;SnO及びBPO4;SnO,SnF2及びP2O5;SnO,SnF2,P2O5及びNbO;またはSnO,SnF2,P2O5及びWO3;を含むことを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
- 前記第2基板は、ガラス、プラスチックまたはメタルを含むことを特徴とする請求項48に記載の有機発光装置。
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