JP2013177555A - 剥離用組成物及び剥離用組成物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る剥離用組成物は、基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤を含有し、当該溶剤の沸点より25℃以上高い沸点を有する高沸点不純物の含有量が5重量%以下である。
【選択図】なし
Description
本発明に係る、基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤を含有する剥離用組成物は、上記溶剤の沸点より25℃以上高い沸点を有する高沸点不純物の含有量が5重量%以下である。
「高沸点不純物」とは、基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤に含まれる不純物であり、当該溶剤の沸点より25℃以上高い沸点を有する不純物が意図される。すなわち、溶剤を、溶剤の沸点以上、溶剤の沸点よりも25℃高い温度未満で加熱したときに、釜残に缶出する物質が、高沸点不純物であり得る。溶剤の種類によって、含有される高沸点不純物は異なるが、溶剤が炭化水素系溶剤である場合には、イソボネオール、フェンコール等のような高沸点不純物が含まれる。
本発明に係る剥離用組成物に含まれる溶剤は、基板と支持板とを接着している接着剤を溶解する溶剤であればよく、支持板から基板を剥離するために用いられるものである。このような溶剤として、炭化水素系溶剤、p−メンタン、テトラヒドロナフタリン、デカヒドロナフタリン、シクロへキサン、シクロオクタン、ピナン、キシレン、D−リモネン、α―ピネン等が挙げられ、溶解すべき接着剤の組成に応じて適宜選択することができる。例えば、炭化水素樹脂を接着成分として含有する接着剤を用いて基板と支持板とを接着している場合には、溶剤として炭化水素系溶剤が好適に用いられる。
また、縮合多環式炭化水素としては、2つ以上の単環がそれぞれの環の辺を互いに1つだけ供給してできる縮合環の炭化水素であり、2つの単環が縮合されてなる炭化水素を用いることが好ましい。
本発明に係る剥離用組成物は、基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して、支持板から基板を剥離するために用いられる。
本発明に係る剥離用組成物の製造方法は、基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤を含有する剥離用組成物の製造方法であって、溶剤を、溶剤の沸点以上、溶剤の沸点よりも25℃高い温度未満で蒸留する蒸留工程を包含している。
蒸留工程においては、例えば、回分式蒸留又は連続式蒸留により、溶剤を、溶剤の沸点以上、溶剤の沸点よりも25℃高い温度未満で蒸留する。
純度95.7%のp−メンタンを蒸留して、蒸留段階により異なる高沸点不純物の含有量をガスクロマトグラフィーにより分析した。p−メンタンによる蒸留を、分離能力10段で、60mmHgの減圧条件下で、還流比5に設定して行った。留出液を回収し、その成分をガスクロマトグラフィーにより分析した。
Agilent社製の6890N
検出器:FID(Flame Ionization Detector)
注入口温度:250℃、検出器温度:250℃
オーブン温度:50℃(1分)→10℃昇温/分→220℃(3分保持)
使用カラム:イナート1 φ0.25mm×60m
蒸留段階1〜8における各留出液中の成分を、上記ガスクロマトグラフィー分析条件により分析した。そして、蒸留段階1〜8における各留出液を用いて、接着剤の溶解後のウエハ表面における液跡残渣を評価した。
上記1.に記載した方法に準じて、純度95.7%のp−メンタンを蒸留して、以下の表2に示すように、高沸点不純物の含有量が異なる10種類のp−メンタン溶剤を準備した。これらのp−メンタンを用いて、ウエハ上の接着剤を溶解した後に生じる液跡残渣を評価した。
p−メンタン以外の溶剤を用い、上記1.に記載した方法に準じて、ウエハ上の接着剤を溶解した後に生じる液跡残渣を評価した。溶剤としては、D−リモネン(bp:176℃、実施例9)、シクロオクタン(bp:151℃、実施例10)、ピナン(bp:167℃、実施例11)、D−リモネンとp−メンタンとを1:1に混合したもの(実施例12)、シクロオクタンとp−メンタンとを1:1に混合したもの(実施例13)、ピナンとp−メンタンとを1:1に混合したもの(実施例14)、シクロオクタンとピナンとを1:1に混合したもの(実施例15)をそれぞれ用いた。尚、溶剤の混合比は、何れも重量比で示した。
Claims (7)
- 基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤を含有する剥離用組成物であって、
上記溶剤の沸点より25℃以上高い沸点を有する高沸点不純物の含有量が5重量%以下であることを特徴とする剥離用組成物。 - 上記溶剤は、炭化水素系溶剤であることを特徴とする請求項1に記載の剥離用組成物。
- 上記炭化水素系溶剤がp−メンタンであることを特徴とする請求項2に記載の剥離用組成物。
- 上記溶剤は、当該溶剤の沸点以上、当該溶剤の沸点よりも25℃高い温度未満で蒸留して得られた溶剤であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の剥離用組成物。
- 上記基板がウエハであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の剥離用組成物。
- 基板に支持板を貼着させている接着剤を溶解して当該支持板から当該基板を剥離するための溶剤を含有する剥離用組成物の製造方法であって、
溶剤を、当該溶剤の沸点以上、当該溶剤の沸点よりも25℃高い温度未満で蒸留する蒸留工程を包含することを特徴とする剥離用組成物の製造方法。 - 上記蒸留工程では、上記剥離用組成物における上記溶剤の沸点よりも25℃以上高い沸点を有する高沸点不純物の含有量が5重量%以下となるように、溶剤を蒸留することを特徴とする請求項6に記載の剥離用組成物の製造方法。
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