JP2013145621A - 垂直磁気記録媒体、その製造方法、及び磁気記録再生装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気記録層がパターン加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】実施の形態にかかる垂直磁気記録媒体は、基板と垂直磁気記録層を有する。垂直磁気記録層は、記録部と非記録部を有する。記録部は、面内方向に規則的に配列されたパターンを有し、FeまたはCo、及びPtを主成分とし、及びTi、Si、Al、及びWから選ばれる少なくとも一種の添加成分を含有する磁性層を有する。非記録部は、磁性層側面が酸化して形成された酸化物層と、酸化物層間に設けられた非磁性層とを有する。
【選択図】図1
Description
垂直磁気記録媒体を支持および回転駆動する機構と、
垂直磁気記録媒体に対して情報の記録を行うための素子及び記録された情報の再生を行うための素子を有する磁気ヘッドと、
磁気ヘッドを前記垂直磁気記録媒体に対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブリとを含む。
基板としては、たとえばガラス基板、Al系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、酸化表面を有するSi単結晶基板などを用いることができる。ガラス基板としては、アモルファスガラスおよび結晶化ガラスが挙げられる。アモルファスガラスとしては、汎用のソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスが挙げられる。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスが挙げられる。セラミック基板としては、汎用の酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの繊維強化物などが挙げられる。基板としては、上述した金属基板や非金属基板の表面にメッキ法やスパッタ法を用いてNiP層が形成されたものを用いることもできる。基板上への薄膜の形成方法としてスパッタリングのみならず、真空蒸着や電解メッキなどを使用することができる。
非磁性基板上に、非磁性下地層を設けることができる。非磁性下地層は、垂直磁気記録層に接触するように形成され、垂直磁気記録層の結晶配向性や結晶粒径を制御することができる。非磁性下地層としては、Ru合金、Ni合金、Pt合金、Pd合金、Ta合金、Cr合金、Si合金、及びCu合金のいずれかを用いることができる。非磁性下地層の膜厚は、1nmないし20nmであることが好ましい。配向制御層の膜厚が1nm未満であると、非磁性下地層としての効果が不十分となり、結晶配向性が悪化する傾向がある。また、非磁性下地層の膜厚が20nmを超えると、スペーシングがロスする傾向がある。また、非磁性下地層は、一層または複数の層から形成され得る。
垂直磁気記録層に用いられる磁性層としては、鉄及びコバルトのいずれか一種とプラチナとを主成分として含有し、チタン、シリコン、アルミニウム、タングステンから選ばれる少なくとも一種を添加成分として含有することが好ましい。
保護膜は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ目的で垂直磁気記録層上に設けることができる。保護膜の材料としては、たとえばC、SiO2、及びZrO2を含むものが挙げられる。
非磁性基板と非磁性下地層との間に、密着層や軟磁性下地層をさらに設けることができる。
剥離層は、記録層を加工後に残存した余剰マスクを除去する目的で、マスク層を形成する前に例えば加工前の磁気記録媒体上に直接形成することができる。
マスク層としては、炭素、タンタル、シリコン、及びニッケル等を使用することができる。
垂直磁気記録層のパターン加工に用いられるBPMパターンは、必要とする記録密度に応じて自由に選ぶことができる。具体的には、隣り合う記録部(記録ドット)間の中心間距離(ドットピッチ)は10ないし30nmであることが好ましい。30nmより大きいと加工性は良好になるものの垂直磁気記録媒体の高密度化が実現できない。ドットピッチが10nm未満であると加工性が難しくなり、量産性が下がるとともに、記録部(記録ドット)の熱揺らぎ耐性が悪化し、部分的に室温で信号が消えてしまう現象が発生する。
図4ないし6及び図9ないし図14に、実施例1にかかる垂直磁気記録媒体の製造工程を表す概略的な断面図を示す。
スパッタにて形成される磁性層の組成、酸化処理の有無、酸化処理後の添加成分含有量、及び非磁性層に使用される材料(C、SiO2、TiO2、Ti)を下記表1−1、1−2に記載のように変化させ、実施例2〜14および比較例1〜23の垂直磁気記録媒体を得た。
使用する剥離層及び剥離液を、下記表2のように変化させた以外は実施例1と同様にして、実施例15、16および比較例24、25の垂直磁気記録媒体を得た。スパッタにて形成される磁性層の組成、酸化処理の有無、酸化処理後の添加成分含有量についても表2に示す。
下記表3のように、酸化処理前の磁性層のTi含有量を0原子%から30原子%まで変化させた以外は実施例1と同様にして、実施例17〜20および比較例26〜28の垂直磁気記録媒体を得た。酸化処理後のTi含有量についても下記表3に示す。
Claims (11)
- 基板、及び
該基板上に設けられ、面内方向に規則的に配列されたパターンを有し、鉄及びコバルトのうち1つ、及びプラチナからなる主成分、及びチタン、シリコン、アルミニウム、及びタングステンから選ばれる少なくとも一種の添加成分を含有する磁性層を有する記録部と、該磁性層側面が酸化して形成された酸化物層、及び該酸化物層間に設けられた非磁性層を有する非記録部とを含む垂直磁気記録層を具備することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 前記非磁性層は、炭素、チタン、SiO2、及びTiO2からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記酸化物層は、前記添加成分の酸化物であることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記添加成分は、チタンを含み、前記酸化物はチタン酸化物であることを特徴とする請求項3に記載の垂直磁気記録媒体。
- 前記添加成分の含有量は、前記記録部組成の5原子%ないし20原子%であることを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体。
- 基板、及び該基板上に形成された鉄及びコバルトのうち1つ、及びプラチナからなる主成分、及びチタン、シリコン、アルミニウム、及びタングステンから選ばれる少なくとも一種の添加成分を含有する磁性層を含む加工前の垂直磁気記録媒体の表面に、規則的に配列されたパターンを持つ凸部を有するマスク層を形成する工程、
該マスク層を介してエッチングを行うことにより、規則的に配列されたパターンを有する保護層及び磁性層を形成する工程、
前記磁性層側面を酸化して酸化物層を形成する工程、
前記マスク層を剥離する工程、及び
前記酸化物層間に非磁性層を形成し、平坦化せしめる工程を具備することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記非磁性層は、炭素、チタン、SiO2、及びTiO2からなる群から選択されることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記酸化物層は、前記添加成分の酸化物であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 前記添加成分は、チタンを含み、前記酸化物はチタン酸化物であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記添加成分の含有量は、前記記録部組成の5原子%ないし20原子%であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の垂直磁気記録媒体と、
前記垂直磁気記録媒体を支持および回転駆動する機構と、
前記垂直磁気記録媒体に対して情報の記録を行うための素子及び記録された情報の再生を行うための素子を有する磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを前記垂直磁気記録媒体に対して移動自在に支持したキャリッジアッセンブリとを具備する磁気記録再生装置。
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