JP2013141771A - 光学積層体、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】低反射化が可能で、かつ干渉縞の発生を防止することができる光学積層体、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】光透過性基材２及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層３を有する光学積層体であって、前記光透過性基材１はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層３は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート架橋物が浸透した浸透層４を有することを特徴とする光学積層体。
【選択図】図１
【解決手段】光透過性基材２及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層３を有する光学積層体であって、前記光透過性基材１はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層３は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート架橋物が浸透した浸透層４を有することを特徴とする光学積層体。
【選択図】図１
Description
本発明は、光学積層体、及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は低反射化が可能で、かつ干渉縞の発生を防止することができる光学積層体、及びその製造方法に関する。
従来、液晶ディスプレイや、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイに用いる反射防止用光学積層体は、通常、耐擦傷性を考慮し、フィルム等の光透過性基材（以下、「基材フィルム」又は単に「基材」という場合がある。）上に活性エネルギー線硬化樹脂を用いたハードコート層を設ける。しかし、このハードコート層の屈折率と基材フィルムの屈折率との屈折率差が大きくなると、ハードコート層上面（視認側表面）で反射する光と、ハードコート層下面（基材との界面）で反射する光で、両者の光が干渉して二次色のムラ（干渉縞）を生じ、ハードコート処理物品の視認性を低下する原因となる。
この干渉ムラを抑制するために、以下のような抑制方法が提案されている。
このような干渉縞の発生を抑制する方法として基材とハードコート層の界面近傍の屈折率が連続的に変化するように、基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いてハードコートを基材上に塗布する方法が知られている（特許文献１、２参照）。
この干渉ムラを抑制するために、以下のような抑制方法が提案されている。
このような干渉縞の発生を抑制する方法として基材とハードコート層の界面近傍の屈折率が連続的に変化するように、基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いてハードコートを基材上に塗布する方法が知られている（特許文献１、２参照）。
特許文献２では、重量平均分子量が２００以上１００００以下であり、かつ２超過の官能基を有する樹脂と、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ２以下の官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物によりハードコート層を基材上に形成することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止する光学積層体が開示されている。
しかしながら、比較的屈折率の高いハードコート層を形成するために、ハードコート層に高屈折率樹脂を添加した場合、浸透性溶剤を使用して形成しても、干渉縞の発生の抑制が十分ではなく、視認性が低下するといった問題があった。
しかしながら、比較的屈折率の高いハードコート層を形成するために、ハードコート層に高屈折率樹脂を添加した場合、浸透性溶剤を使用して形成しても、干渉縞の発生の抑制が十分ではなく、視認性が低下するといった問題があった。
また、特許文献３には、光学透過性基材とハードコート層の界面が実質的に存在しない光学積層体として、光透過性基材に対して浸透性を有するハードコート層用組成物を用いてハードコート層を形成することが提案されている。
さらに、特許文献４には、重量平均分子量が２００以上、１０００未満の高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万未満の高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、及びバインダー樹脂を含む樹脂組成物を光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法が提案されている。
しかしながら、特許文献３及び特許文献４に記載の光学積層体では、必ずしも十分に干渉縞の発生を防止することはできなかった。
さらに、特許文献４には、重量平均分子量が２００以上、１０００未満の高屈折率樹脂Ａ、重量平均分子量が１０００以上、１０万未満の高屈折率樹脂Ｂ、浸透性溶剤、及びバインダー樹脂を含む樹脂組成物を光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法が提案されている。
しかしながら、特許文献３及び特許文献４に記載の光学積層体では、必ずしも十分に干渉縞の発生を防止することはできなかった。
一方、特許文献５には、（１）重量平均分子量が１０００以上、１０万以下で、且つ、２以上のラジカル重合性官能基を有する樹脂と、（２）重量平均分子量が１００以上１０００以下であり、且つ、１以上のカチオン重合性官能基を有する樹脂を含有して硬化している層であり、且つ、前記光透過性基材に前記樹脂（２）が浸透して硬化している光学積層体が提案されている。
また、特許文献６には、（１）セルロースアシレート系樹脂または環状ポリオレフィン系樹脂からなる基材フィルム、（２）アクリル系樹脂及びメタクリル系樹脂から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなるハードコート層、及び（３）基材フィルムを形成する樹脂と、ハードコート層を形成する樹脂とが混合した境界層を有する光学積層体が提案されている。
しかしながら、特許文献５及び６に記載の光学積層体では、十分な耐擦傷性と基材との高い密着性、干渉縞の抑制を共に満足させた膜を形成することは難しい。さらに、特許文献７には、基材上にハードコート層、高屈折率傾斜ハードコート層、及び低屈折率層をこの順に積層した光学フィルムであって、ハードコート層と基材の界面近傍の屈折率が連続的に変化してなる光学フィルムが開示され、また、ハードコート層を形成するための塗布液を構成する溶剤として、基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いることを特徴とする製造方法が開示されている。
しかしながら、高屈折率傾斜ハードコート層の屈折率の調整及び再現性は難しく、実際に採用するには問題点が多い。
また、特許文献６には、（１）セルロースアシレート系樹脂または環状ポリオレフィン系樹脂からなる基材フィルム、（２）アクリル系樹脂及びメタクリル系樹脂から選ばれる少なくとも一種の樹脂からなるハードコート層、及び（３）基材フィルムを形成する樹脂と、ハードコート層を形成する樹脂とが混合した境界層を有する光学積層体が提案されている。
しかしながら、特許文献５及び６に記載の光学積層体では、十分な耐擦傷性と基材との高い密着性、干渉縞の抑制を共に満足させた膜を形成することは難しい。さらに、特許文献７には、基材上にハードコート層、高屈折率傾斜ハードコート層、及び低屈折率層をこの順に積層した光学フィルムであって、ハードコート層と基材の界面近傍の屈折率が連続的に変化してなる光学フィルムが開示され、また、ハードコート層を形成するための塗布液を構成する溶剤として、基材を溶解又は膨潤させる溶剤を用いることを特徴とする製造方法が開示されている。
しかしながら、高屈折率傾斜ハードコート層の屈折率の調整及び再現性は難しく、実際に採用するには問題点が多い。
本発明は、低反射化が可能で、かつ干渉縞の発生を防止することができる光学積層体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の構成を有す光学積層体が、前記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
〔１〕光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート架橋物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体、
〔２〕光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物によって形成されてなる樹脂層であり、前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート系化合物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体、
〔３〕前記（メタ）アクリレート系化合物として、重量平均分子量の異なる２種類以上の（メタ）アクリレートを混合してなる前記〔２〕に記載の光学積層体、
〔４〕前記無機微粒子が反応性シリカである前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学積層体、
〔５〕前記無機微粒子が五酸化アンチモンである前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学積層体、及び
〔６〕(i)トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材を準備する工程、
(ii)無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性透明基材の一方の面にハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を３０〜１２０℃で２０〜１８０秒間熱風乾燥する工程、（ｖ）前記(iv)工程で得られた乾燥塗膜に光照射を行い硬化させ、ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法、
を提供するものである。
〔１〕光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート架橋物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体、
〔２〕光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物によって形成されてなる樹脂層であり、前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート系化合物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体、
〔３〕前記（メタ）アクリレート系化合物として、重量平均分子量の異なる２種類以上の（メタ）アクリレートを混合してなる前記〔２〕に記載の光学積層体、
〔４〕前記無機微粒子が反応性シリカである前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学積層体、
〔５〕前記無機微粒子が五酸化アンチモンである前記〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学積層体、及び
〔６〕(i)トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材を準備する工程、
(ii)無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性透明基材の一方の面にハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を３０〜１２０℃で２０〜１８０秒間熱風乾燥する工程、（ｖ）前記(iv)工程で得られた乾燥塗膜に光照射を行い硬化させ、ハードコート層を形成する工程、を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法、
を提供するものである。
本発明によれば、高硬度で、干渉縞の発生がなく、低カール性及び耐クラック性を備えた光学積層体及びその製造方法を提供することができる。
本発明の光学積層体は、光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有し、前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍの浸透層を有することを特徴とする光学積層体である。本発明の光学積層体について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、光透過性基材２及び該光透過性基材上に設けられたハードコート層３を有する光学積層体１の断面を示し、光透過性基材２のハードコート層側３に、浸透層４を有している状態の模式図であり、図２は、本発明の光学積層体の好ましい層構成を例にとって、ハードコート層３の表面に反射防止層７を有する光学積層体１０の断面を示した模式図である。
本発明の光学積層体の層構成は、光透過性基材２のハードコート層側３に、浸透層４を有し、浸透層の厚みが５μｍ〜１５μｍであり、光透過性基材がトリアセチルセルロース基材であり、ハードコート層が無機微粒子及び（メタ）アクリレート架橋物が含まれれば特に制限されることはなく、例えば、光透過性基材／ハードコート層、光透過性基材／ハードコート層／低屈折率層、光透過性基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、光透過性基材／ハードコート層／高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層などの層構成が好ましく挙げられる。
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍの浸透層を有することを特徴とする光学積層体である。本発明の光学積層体について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、光透過性基材２及び該光透過性基材上に設けられたハードコート層３を有する光学積層体１の断面を示し、光透過性基材２のハードコート層側３に、浸透層４を有している状態の模式図であり、図２は、本発明の光学積層体の好ましい層構成を例にとって、ハードコート層３の表面に反射防止層７を有する光学積層体１０の断面を示した模式図である。
本発明の光学積層体の層構成は、光透過性基材２のハードコート層側３に、浸透層４を有し、浸透層の厚みが５μｍ〜１５μｍであり、光透過性基材がトリアセチルセルロース基材であり、ハードコート層が無機微粒子及び（メタ）アクリレート架橋物が含まれれば特に制限されることはなく、例えば、光透過性基材／ハードコート層、光透過性基材／ハードコート層／低屈折率層、光透過性基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、光透過性基材／ハードコート層／高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層などの層構成が好ましく挙げられる。
また、ハードコート層自体を、配合される無機微粒子及び（メタ）アクリレート架橋物の種類によって中屈折率或いは高屈折率に調製することができる。
さらに、トリアセチルセルロース基材に、無機微粒子、(メタ)アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物によって浸透層及びハードコート層が形成されてなり、層構成が前記同様である光学積層体を挙げることができる。
以下、光透過性基材から順に説明する。
さらに、トリアセチルセルロース基材に、無機微粒子、(メタ)アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物によって浸透層及びハードコート層が形成されてなり、層構成が前記同様である光学積層体を挙げることができる。
以下、光透過性基材から順に説明する。
［光透過性基材］
本発明で用いられる光透過性基材は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材であり、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過性基材の平均光透過率は５０％以上が好ましく、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８５％以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
トリアセチルセルロース基材は、光学的等方性を有するため、液晶ディスプレイ用途の場合においても好ましく用いることができる。
本発明で用いられる光透過性基材は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材であり、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光透過性基材の平均光透過率は５０％以上が好ましく、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８５％以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計（例えば、（株）島津製作所製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。
トリアセチルセルロース基材は、光学的等方性を有するため、液晶ディスプレイ用途の場合においても好ましく用いることができる。
なお、本発明におけるトリアセチルセルロース基材としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分を併用したものであってもよい。また、これらのトリアセチルセルロース基材には、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、あるいは可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。さらに、トリアセチルセルロース基材にはケン化処理やプライマー層を設ける等の表面処理が施されていても良い。
トリアセチルセルロース基材の厚さは適宜選択して用いることができ、通常２０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１２０μｍ、特に好ましくは２０〜８０μｍである。
トリアセチルセルロース基材の厚さは適宜選択して用いることができ、通常２０〜２００μｍ程度であり、好ましくは２０〜１２０μｍ、特に好ましくは２０〜８０μｍである。
[ハードコート層]
本発明においてハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。
本発明において、ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物（硬化物）を含んでいる。
（メタ）アクリレート架橋物は、（メタ）アクリレート系化合物を架橋（硬化）したものである。
本発明においてハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいう。ハードコート層の膜厚（硬化時）は０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。
本発明において、ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物（硬化物）を含んでいる。
（メタ）アクリレート架橋物は、（メタ）アクリレート系化合物を架橋（硬化）したものである。
（無機微粒子）
本発明において、無機微粒子は、ハードコート層に硬度を付与するため及び屈折率を高めるための成分であり、硬度、高屈折率化に加えて、帯電防止性等の機能を付与するものであっても良い。
微粒子は平均粒径が５〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましい。無機微粒子は、凝集粒子であっても良く、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であることが好ましい。無機微粒子の平均粒径が５ｎｍ未満ではハードコート層に十分な硬度を付与することが難しく、平均粒径が１００ｎｍを超えると、ハードコート層の透明性が低下する恐れがある。
本発明において、無機微粒子は、ハードコート層に硬度を付与するため及び屈折率を高めるための成分であり、硬度、高屈折率化に加えて、帯電防止性等の機能を付与するものであっても良い。
微粒子は平均粒径が５〜１００ｎｍであることが好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましい。無機微粒子は、凝集粒子であっても良く、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であることが好ましい。無機微粒子の平均粒径が５ｎｍ未満ではハードコート層に十分な硬度を付与することが難しく、平均粒径が１００ｎｍを超えると、ハードコート層の透明性が低下する恐れがある。
また、無機微粒子は、透明性を損なうことなく、(メタ)アクリレート架橋物のみを用いた場合の回復率（復元率）を維持しつつ、硬度を向上させる点から、粒径分布が狭く、単分散であることが好ましい。
無機微粒子は、ハードコート層用(メタ)アクリレート架橋物又はハードコート層形成用組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％含まれることが好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。１０質量％未満ではハードコート層に十分な硬度を付与することが難しい。７０質量％を超えると、充填率が上がり過ぎ、かえってハードコート層の硬度を低下させてしまう恐れがある。
無機微粒子は単一の材質や単一の平均粒径のものだけでなく、材質や平均粒径の異なるものを２種類以上組み合わせて用いても良い。２種類以上組み合わせて用いる場合は、各粒子の平均粒径が５〜１００ｎｍ以内で且つ各粒子の合計質量％が２０〜７０質量％となることが好ましい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子などが挙げられる。金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いても良い。
硬度が高い点からは、シリカ、酸化アルミニウムが好ましい。また、後述するその他の層に対してハードコート層を相体的に高屈折率層とするためには、五酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ5）、ジルコニア、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）、ガリウム添加酸化亜鉛（ＧＺＯ）、チタニア、酸化アンチモン等の膜形成時に屈折率が高くなる微粒子を適宜選択して用いることができる。
特に、五酸化アンチモンが、透明性と帯電性を合わせ持つので好ましい。
特に、五酸化アンチモンが、透明性と帯電性を合わせ持つので好ましい。
同様に、相対的に低屈折率層とするためには、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等のフッ化物微粒子などの膜形成時に屈折率が低くなる微粒子を適宜選択して用いることができる。更に、帯電防止性、導電性を付与したい場合には、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ等を適宜選択して用いることができる。これらは、１種単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
無機微粒子の表面には通常、無機微粒子内ではこの形態で存在できない基を有する。これら表面の基は通常、相対的に反応しやすい官能基である。例えば、金属酸化物の場合には、例えば、水酸基及びオキシ基、例えば、金属硫化物の場合には、チオール基及びチオ基、又は例えば、窒化物の場合には、アミノ基、アミド基及びイミド基を有する。
無機微粒子の表面には通常、無機微粒子内ではこの形態で存在できない基を有する。これら表面の基は通常、相対的に反応しやすい官能基である。例えば、金属酸化物の場合には、例えば、水酸基及びオキシ基、例えば、金属硫化物の場合には、チオール基及びチオ基、又は例えば、窒化物の場合には、アミノ基、アミド基及びイミド基を有する。
(反応性シリカ)
本発明のハードコート層には、透明性を維持し、耐擦傷性を向上させる観点から、無機微粒子として反応性シリカを用いることが好ましい。反応性シリカは、シリカ微粒子の表面に、シランカップリング剤による処理で、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基、オキセタニル基等を導入することで、（メタ）アクリレート系化合物（樹脂成分）との反応性が付与され硬化膜の耐擦傷性をより高めることができる。
反応性シリカの含有量は、ハードコート層用(メタ)アクリレート架橋物又はハードコート層形成用組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％含まれることが好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。１０質量％未満の場合、ハードコート層表面の硬度が不十分となる恐れがあり、７０質量％以上の場合、ハードコート層とその上層に設ける機能層との界面の密着性が不十分となるおそれがある。
本発明のハードコート層には、透明性を維持し、耐擦傷性を向上させる観点から、無機微粒子として反応性シリカを用いることが好ましい。反応性シリカは、シリカ微粒子の表面に、シランカップリング剤による処理で、（メタ）アクリロイル基やエポキシ基、オキセタニル基等を導入することで、（メタ）アクリレート系化合物（樹脂成分）との反応性が付与され硬化膜の耐擦傷性をより高めることができる。
反応性シリカの含有量は、ハードコート層用(メタ)アクリレート架橋物又はハードコート層形成用組成物の全固形分に対して１０〜７０質量％含まれることが好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。１０質量％未満の場合、ハードコート層表面の硬度が不十分となる恐れがあり、７０質量％以上の場合、ハードコート層とその上層に設ける機能層との界面の密着性が不十分となるおそれがある。
〔（メタ）アクリレート架橋物、（メタ）アクリレート系化合物〕
ハードコート層は、電離放射線硬化性樹脂を架橋硬化させて得られるものが好ましい。ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂は、下記の（メタ）アクリレート系化合物のなかから適宜選択して用いられる。電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂の場合には光重合開始剤が用いられる。
本発明において、（メタ）アクリレート架橋物は、（メタ）アクリレート系化合物の（メタ）アクリレート系モノマーを硬化して架橋したものである。
また、本発明において（メタ）アクリレート系化合物とは、重合性モノマーとして、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系モノマーであって、モノマー程度の分子量のものと、ポリマー程度の分子量からなるものを２種類以上組合わせて用いることが好ましい。
なお、ここで「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味し、他の類似するものも同様の意である。（メタ）アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する、すなわち２を超える官能基を有する多官能性（メタ）アクリレートが好ましく、特に制限はない。これらの多官能性（メタ）アクリレートは、下記のような条件を満足するものを組み合わせて用いることが好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性樹脂を架橋硬化させて得られるものが好ましい。ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂は、下記の（メタ）アクリレート系化合物のなかから適宜選択して用いられる。電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂の場合には光重合開始剤が用いられる。
本発明において、（メタ）アクリレート架橋物は、（メタ）アクリレート系化合物の（メタ）アクリレート系モノマーを硬化して架橋したものである。
また、本発明において（メタ）アクリレート系化合物とは、重合性モノマーとして、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系モノマーであって、モノマー程度の分子量のものと、ポリマー程度の分子量からなるものを２種類以上組合わせて用いることが好ましい。
なお、ここで「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味し、他の類似するものも同様の意である。（メタ）アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する、すなわち２を超える官能基を有する多官能性（メタ）アクリレートが好ましく、特に制限はない。これらの多官能性（メタ）アクリレートは、下記のような条件を満足するものを組み合わせて用いることが好ましい。
本発明の（メタ）アクリレート系化合物の好ましい態様は、（１）重量平均分子量が１００〜１０００であり、かつ、２を超える官能基を有する（メタ）アクリレートと、重量平均分子量が１０００〜３００００であり、かつ、前記（１）の官能基数とは異なる２を越える官能基を有する（メタ）アクリレート（２）との組み合わせが挙げられる。
本発明において、多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、２官能（メタ）アクリレートとして、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、これら（メタ）アクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
本発明に用いられる、上記の多官能（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリレート系化合物（１）として、重量平均分子量が１００〜１０００であるものと、（メタ）アクリレート系化合物（２）として、重量平均分子量が１０００〜３００００の（メタ）アクリレートであって、前記（１）とは、相互に官能基の数が異なるものを使用することが、浸透層に屈折率分布をもたせ干渉縞を解消する観点から好ましい。
３官能以上の（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、これら（メタ）アクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
本発明に用いられる、上記の多官能（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリレート系化合物（１）として、重量平均分子量が１００〜１０００であるものと、（メタ）アクリレート系化合物（２）として、重量平均分子量が１０００〜３００００の（メタ）アクリレートであって、前記（１）とは、相互に官能基の数が異なるものを使用することが、浸透層に屈折率分布をもたせ干渉縞を解消する観点から好ましい。
（１）の（メタ）アクリレートは、重量平均分子量が１００未満であると、揮発性が高くなって人体への悪影響を及ぼしたり、乾燥工程で揮発して汚れの要因となったりすることがある。また、重量平均分子量が１０００を超えると、ＴＡＣ基材へ塗布する際の粘度が高くなって、浸透力が低下する。
さらに、（２）の（メタ）アクリレートは、重量平均分子量が１０００未満であると、前述同様の問題が生じ、重量平均分子量が３００００を超えると浸透性溶剤とともにＴＡＣ基材に浸透するという効果が得られないことがある。
（１）の（メタ）アクリレートの重量平均分子量の好ましい下限は２６０である。
さらに、（２）の（メタ）アクリレートは、重量平均分子量が１０００未満であると、前述同様の問題が生じ、重量平均分子量が３００００を超えると浸透性溶剤とともにＴＡＣ基材に浸透するという効果が得られないことがある。
（１）の（メタ）アクリレートの重量平均分子量の好ましい下限は２６０である。
（メタ）アクリレート化合物（２）としては、透明性及び屈折率の点からウレタン(メタ)アクリレートが好ましい。
ウレタン(メタ)アクリレートは、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−［ヒドロキシメチル］−シクロヘキサン等；上記多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール；上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール；ポリカーボネートポリオール（例えば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）；及び、ポリエーテルポリオールを挙げることができる。上記ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等を挙げることができる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
多価アルコールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリシクロデカンジメチロール、ビス−［ヒドロキシメチル］−シクロヘキサン等；上記多価アルコールと多塩基酸（例えば、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロ無水フタル酸等）との反応によって得られるポリエステルポリオール；上記多価アルコールとε−カプロラクトンとの反応によって得られるポリカプロラクトンポリオール；ポリカーボネートポリオール（例えば、１，６−ヘキサンジオールとジフェニルカーボネートとの反応によって得られるポリカーボネートジオール等）；及び、ポリエーテルポリオールを挙げることができる。上記ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ等を挙げることができる。
上記有機ポリイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルイソシアネート等のイソシアネート化合物、これらイソシアネート化合物の付加体、或いはこれらイソシアネートの多量体等が挙げられる。
上記ヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチロールシクロヘキシルモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシカプロラクトン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートであることが硬度の面から好ましい。
なかでも、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートであることが硬度の面から好ましい。
本発明において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量を意味し、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量を意味する。
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、６官能以上であることが好ましい。上記ウレタン（メタ）アクリレートが６官能未満であると、ハードコート層の硬度が弱くなるおそれがある。
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、６〜１５官能であることがより好ましい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートは、６〜１５官能であることがより好ましい。
ウレタン（メタ）アクリレートはウレタン樹脂として市販されているが、本発明においては、市販品を用いてもよい。本発明において使用できる市販品としては、例えば、日本合成化学工業社製：ＵＶ１７００Ｂ（重量平均分子量２０００、１０官能）、ＵＶ７６００Ｂ（重量平均分子量１５００、６官能）、日本化薬社製：ＤＰＨＡ４０Ｈ（重量平均分子量７０００、１０官能）、ＵＸ５００3（重量平均分子量７００、６官能）、根上工業社製：ＵＮ３３２０ＨＳ（重量平均分子量５０００、１５官能）、ＵＮ９０４（重量平均分子量４９００、１５官能）、ＵＮ３３２０ＨＣ（重量平均分子量１５００、１０官能）、ＵＮ３３２０ＨＡ（重量平均分子量１５００、６官能）、荒川化学工業社製：ＢＳ５７７（重量平均分子量１０００、６官能）、及び、新中村化学工業社製：Ｕ１５ＨＡ（重量平均分子量２３００、１５官能）等を挙げることができる。
（光重合開始剤）
（メタ）アクリレート系化合物を架橋硬化するためには、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能な光重合開始剤が添加される。光重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラキス(ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（商品名イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ビス(η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム）（商品名イルガキュア７８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なかでも、α−ヒドロキシアセトフェノン系の光重合開始剤が、反応性が高く、耐カール性を改善できることから好ましく、とくに、２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル〕フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名イルガキュアー１２７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュアー１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）が好ましい。
（メタ）アクリレート系化合物を架橋硬化するためには、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能な光重合開始剤が添加される。光重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、１，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３'，４，４'−テトラキス(ｔｅｒｔ−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（商品名イルガキュア３６９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ビス(η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム）（商品名イルガキュア７８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
なかでも、α−ヒドロキシアセトフェノン系の光重合開始剤が、反応性が高く、耐カール性を改善できることから好ましく、とくに、２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル〕フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名イルガキュアー１２７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名イルガキュアー１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）が好ましい。
〔浸透層〕
本発明の光学積層体において、浸透層は、トリアセチルセルロース基材の成分と（メタ）アクリレート架橋物成分が混合した層であり、厚みが５〜１５μｍである。厚みが５μｍ未満では、干渉縞発生を抑制する効果が少なく、１５μｍを超えると、TAC基材が柔軟化して剛性が不足したり、浸透しすぎることにより、ハードコート層と浸透層界面の反射による干渉縞が発生する。
かかる浸透層を形成するには、無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物をトリアセチルセルロース基材に塗布することによって形成される。
本発明の光学積層体において、浸透層は、トリアセチルセルロース基材の成分と（メタ）アクリレート架橋物成分が混合した層であり、厚みが５〜１５μｍである。厚みが５μｍ未満では、干渉縞発生を抑制する効果が少なく、１５μｍを超えると、TAC基材が柔軟化して剛性が不足したり、浸透しすぎることにより、ハードコート層と浸透層界面の反射による干渉縞が発生する。
かかる浸透層を形成するには、無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物をトリアセチルセルロース基材に塗布することによって形成される。
(酢酸メチルを含有する浸透性溶剤)
本発明の光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面に、光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材と（メタ）アクリレート架橋物が混合した浸透層を有しているが、この浸透層は、酢酸メチルを含有する浸透性溶剤に起因して形成される。
本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材であるトリアセチルセルロース基材に対して、浸透性、膨潤性、湿潤性等すべての概念を包含する意である。浸透性溶剤は、浸透層を形成し、光学積層体の干渉縞を有効に防止する効果を有する。
酢酸メチルは、トリアセチルセルロース基材の溶解性が非常に高く、深い浸透層を形成できる。しかしながら、酢酸メチルは、乾燥が速く、製造設備においてノズル詰まりなどのトラブルが発生しやすい。そこで、他の浸透性溶剤と混合して、トリアセチルセルロース基材への浸透性と、溶剤の乾燥速度等を勘案した酢酸メチルとの混合溶剤が使用される。
より具体的には、本発明の酢酸メチルを含有する浸透性溶剤は、酢酸メチルとケトン類の溶剤、特にメチルエチルケトン及び／またはメチルイソブチルケトンとの混合溶剤が好適に使用できる。
酢酸メチルと他の溶剤との混合比率は、７：３〜２：８が好ましく、５：５〜３：７がさらに好ましい。
また、酢酸メチルと混合するケトン類の溶剤は、２種類以上を混合して使用しても良く、メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンとを組み合わせて使用するのが好ましい。
本発明の光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面に、光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材と（メタ）アクリレート架橋物が混合した浸透層を有しているが、この浸透層は、酢酸メチルを含有する浸透性溶剤に起因して形成される。
本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材であるトリアセチルセルロース基材に対して、浸透性、膨潤性、湿潤性等すべての概念を包含する意である。浸透性溶剤は、浸透層を形成し、光学積層体の干渉縞を有効に防止する効果を有する。
酢酸メチルは、トリアセチルセルロース基材の溶解性が非常に高く、深い浸透層を形成できる。しかしながら、酢酸メチルは、乾燥が速く、製造設備においてノズル詰まりなどのトラブルが発生しやすい。そこで、他の浸透性溶剤と混合して、トリアセチルセルロース基材への浸透性と、溶剤の乾燥速度等を勘案した酢酸メチルとの混合溶剤が使用される。
より具体的には、本発明の酢酸メチルを含有する浸透性溶剤は、酢酸メチルとケトン類の溶剤、特にメチルエチルケトン及び／またはメチルイソブチルケトンとの混合溶剤が好適に使用できる。
酢酸メチルと他の溶剤との混合比率は、７：３〜２：８が好ましく、５：５〜３：７がさらに好ましい。
また、酢酸メチルと混合するケトン類の溶剤は、２種類以上を混合して使用しても良く、メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンとを組み合わせて使用するのが好ましい。
（その他のハードコート層形成用組成物）
また、ハードコート層を形成するハードコート層形成用組成物には、前述の無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤に加えて、凝集防止効果及び沈降防止効果、その他、レベリング性などの特性の向上のため、各種界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤、好ましくはパーフロロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
さらに、本発明では、防汚剤、帯電防止剤、着色剤（顔料、染料）、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することができる。
また、ハードコート層を形成するハードコート層形成用組成物には、前述の無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤に加えて、凝集防止効果及び沈降防止効果、その他、レベリング性などの特性の向上のため、各種界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、シリコーンオイル、フッ素系界面活性剤、好ましくはパーフロロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
さらに、本発明では、防汚剤、帯電防止剤、着色剤（顔料、染料）、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤などを添加することができる。
本発明にかかる光学積層体にはハードコート性の他に、防眩性、反射防止性、帯電防止性、防汚性等の機能を持たせることが可能である。
ハードコート性は、通常、鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定）やスチールウール＃００００で荷重をかけながら１０往復擦り試験を行い、裏面に黒テープを貼付した状態でキズが確認されない最大荷重で評価する（耐スチールウール擦り性）。本発明にかかる光学積層体においては、鉛筆硬度ではＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がさらに好ましい。また、耐スチールウール擦り性では、２００ｇ／ｃｍ2以上であることが好ましく、５００ｇ／ｃｍ2以上であることがさらに好ましく、７００ｇ／ｃｍ2以上であることが特に好ましい。
ハードコート性は、通常、鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００に準拠して測定）やスチールウール＃００００で荷重をかけながら１０往復擦り試験を行い、裏面に黒テープを貼付した状態でキズが確認されない最大荷重で評価する（耐スチールウール擦り性）。本発明にかかる光学積層体においては、鉛筆硬度ではＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がさらに好ましい。また、耐スチールウール擦り性では、２００ｇ／ｃｍ2以上であることが好ましく、５００ｇ／ｃｍ2以上であることがさらに好ましく、７００ｇ／ｃｍ2以上であることが特に好ましい。
次に、防眩性については、好ましくはハードコート性を付与することのできる透明樹脂に、防眩性を付与するための透光性粒子、及び溶媒を含有し、透光性粒子自体の突起あるいは複数の粒子の集合体で形成される突起によって表面の凹凸が形成されるものであることが好ましい。
（低屈折率層）
反射防止性はシートの反射率を低減するために、最表面に低屈折率層を設ける。
低屈折率層の屈折率は、１．５以下であることが好ましく、１．４５以下であることがより好ましい。
低屈折率層は、シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、低屈折率樹脂であるフッ素樹脂などにより形成される。
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも重量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。
反射防止性はシートの反射率を低減するために、最表面に低屈折率層を設ける。
低屈折率層の屈折率は、１．５以下であることが好ましく、１．４５以下であることがより好ましい。
低屈折率層は、シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する材料、低屈折率樹脂であるフッ素樹脂などにより形成される。
低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが３０〜９０％、ヘキサフルオロプロピレンが５〜５０％（以降も含め、百分率は、いずれも重量基準）を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が６０〜７０％であるフッ素含有共重合体１００部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚２００ｎｍ以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率１．６０未満（好ましくは１．４６以下）の低屈折率層を形成する。
低屈折率層の厚さｄは、ｄ＝ｍλ／４ｎを満たすものが好ましい。ここで、ｍは正の奇数を表し、ｎは低屈折率層の屈折率を表わし、λは波長を表わす。ｍは好ましくは１であり、λは好ましくは４８０〜５８０ｎｍである。また、低反射率化の点から、１２０＜ｎ・ｄ＜１４５の関係を有することが好ましい。
このほか、低屈折率層は、ＳｉＯ2からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマＣＶＤ法等により、またはＳｉＯ2ゾルを含むゾル液からＳｉＯ2ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、ＳｉＯ2以外にも、ＭｇＦ2の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、ＳｉＯ2薄膜を使用することが好ましい。
低屈折率層の好ましい態様としては、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。
「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。
また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。
また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。
また、本発明の光学積層体は、表面での静電気防止の点で帯電防止性能を付与することが好ましい。帯電防止性能を付与するには、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー、４級アンモニウム塩、チオフェンなどと反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。また、帯電防止層をハードコート、防眩、反射防止等の機能層の一部として使用することもできる。
帯電防止性を示す指標として表面抵抗値があり、本発明では、表面抵抗値が、１０12Ω／□以下が好ましく、１０11Ω／□以下がさらに好ましく、１０10Ω／□以下が特に好ましい。また、該光学フィルムが蓄積できる最大電圧である、いわゆる飽和帯電圧としては、１０ｋＶの印加電圧で２ｋＶ以下であることが好ましい。
帯電防止性を示す指標として表面抵抗値があり、本発明では、表面抵抗値が、１０12Ω／□以下が好ましく、１０11Ω／□以下がさらに好ましく、１０10Ω／□以下が特に好ましい。また、該光学フィルムが蓄積できる最大電圧である、いわゆる飽和帯電圧としては、１０ｋＶの印加電圧で２ｋＶ以下であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体の最表面には防汚層を設けることができる。防汚層は表面エネルギーを下げ、親水性あるいは親油性の汚れを付きにくくするものである。防汚層は防汚剤の添加により付与することができ、防汚剤としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合物が挙げられ、特にフロロアルキル基を有する化合物が好ましい。
以下、本発明の光学積層体の製造方法について説明する。
本発明の光学積層体の製造方法は、(i)トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材を準備する工程、(ii)無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性透明基材の一方の面にハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を３０〜１２０℃で２０〜８０秒間熱風乾燥する工程、（ｖ）前記(iv)工程で得られた乾燥塗膜に光照射を行い硬化させ、ハードコート層を形成する工程、を含んでいる。
本発明の光学積層体の製造方法は、(i)トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材を準備する工程、(ii)無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物を準備する工程、(iii)当該光透過性透明基材の一方の面にハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜とする工程、(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を３０〜１２０℃で２０〜８０秒間熱風乾燥する工程、（ｖ）前記(iv)工程で得られた乾燥塗膜に光照射を行い硬化させ、ハードコート層を形成する工程、を含んでいる。
本発明の光学積層体は、トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材に、ハードコート層形成用組成物を塗布して製造する。本発明の光学積層体は、透明基材に機能層を構成する樹脂組成物を塗布して製造する。塗布の方法としては、種々の方法を用いることができ、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ブレードコート法、マイクログラビアコート法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方法が用いられる。
本発明においては、塗布量により硬度特性が変化するので、機能層の厚さを１〜２０μｍの範囲で安定して得やすいロールコート法、グラビアコート法、（スロット）ダイコート法が好ましい。
本発明においては、塗布量により硬度特性が変化するので、機能層の厚さを１〜２０μｍの範囲で安定して得やすいロールコート法、グラビアコート法、（スロット）ダイコート法が好ましい。
前記の方法のいずれかで塗布した後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンに搬送され各種の公知の方法で溶剤を乾燥する。ここで固形分濃度、塗布液温度、乾燥温度、乾燥風の風速、乾燥時間、乾燥ゾーンの溶剤雰囲気濃度等を選定することにより、表面凹凸形状のプロファイルによる外部拡散及び無機微粒子や添加剤による内部拡散を調整できる。特に、乾燥条件の選定によって浸透層の深さを調整する方法が簡便で好ましい。具体的な乾燥温度としては、３０〜１２０℃、乾燥風速では０．２〜５０ｍ／ｓであることが好ましく、乾燥時間２０秒〜３分、好ましくは３０秒〜１分程度の範囲内で適宜調整することでトリアセチルセルロース基材への浸透性溶剤、（メタ）アクリレートモノマー及びオリゴマーによる浸透深さ、すなわち浸透層厚みを調整することができる。
より具体的には、乾燥温度を高くすることで、（メタ）アクリレート系化合物及び溶剤の基材への浸透性が向上する。すなわち、乾燥温度を制御することで、（メタ）アクリレート系化合物及び溶剤の基材への浸透性を制御することができ、アンカー効果によりトリアセチルセルロース基材とハードコート層との密着性や、光透過性透明基材とハードコート層との屈折率差が０．０３以上で顕著となる干渉縞の発生を防止することが可能となる。
より具体的には、乾燥温度を高くすることで、（メタ）アクリレート系化合物及び溶剤の基材への浸透性が向上する。すなわち、乾燥温度を制御することで、（メタ）アクリレート系化合物及び溶剤の基材への浸透性を制御することができ、アンカー効果によりトリアセチルセルロース基材とハードコート層との密着性や、光透過性透明基材とハードコート層との屈折率差が０．０３以上で顕著となる干渉縞の発生を防止することが可能となる。
また、乾燥速度を早くすることで、無機微粒子等の透光性粒子の凝集時間が短くなるため凝集が進まず、実質的に作用する無機微粒子の粒径は小さくなったと同様な作用を呈することとなる。すなわち、乾燥速度を制御することで、実質的に作用する無機微粒子の粒径を制御することができ、やはり上述したように、溶剤及び／又は（メタ）アクリレート系化合物の基材への浸透度との関係で、拡散反射強度等を制御することにつながる。
例えば、ハードコート層を形成するためのハードコート層形成用組成物が、（メタ）アクリレート系化合物、無機微粒子及び浸透性溶剤からなり、（メタ）アクリレート系化合物の屈折率が無機微粒子の屈折率より低く、レベリング性及び無機微粒子の沈降や凝集が同程度の場合には、硬化までの乾燥時間が長くなると、（メタ）アクリレート系化合物中の低屈折成分が透明基材（ＴＡＣ）に浸透し、（メタ）アクリレート系化合物の屈折率が上昇して、無機微粒子との屈折率差が減少する。
例えば、ハードコート層を形成するためのハードコート層形成用組成物が、（メタ）アクリレート系化合物、無機微粒子及び浸透性溶剤からなり、（メタ）アクリレート系化合物の屈折率が無機微粒子の屈折率より低く、レベリング性及び無機微粒子の沈降や凝集が同程度の場合には、硬化までの乾燥時間が長くなると、（メタ）アクリレート系化合物中の低屈折成分が透明基材（ＴＡＣ）に浸透し、（メタ）アクリレート系化合物の屈折率が上昇して、無機微粒子との屈折率差が減少する。
一方、（メタ）アクリレート系化合物に対する無機微粒子の割合が増加するため、無機微粒子が表面に突出しやすくなり、表面凹凸が発現しやすくなる。従って、乾燥時間が長くなることにより、内部拡散は小さくなると同時に、外部拡散が大きくなる。なお、この浸透性を利用することによりアンカー効果によるトリアセチルセルロース基材と（メタ）アクリレート架橋物からなるハードコート層との密着性や、トリアセチルセルロース基材と（メタ）アクリレート架橋物からなるハードコート層との屈折率差が０．０３以上で顕著となる干渉縞の発生を防止することが可能となる。これは、（メタ）アクリレート系化合物中の低屈折率成分がトリアセチルセルロース基材に浸透して生じた浸透層が、トリアセチルセルロース基材とハードコート層の間に屈折率が連続的に変化する屈折率調整層としての機能を発現し、界面を解消する作用を有するためである。
また、乾燥速度を早くすることで、無機微粒子の凝集時間が短くなるため凝集が進まず、実質的に作用する無機微粒子の粒径は小さくなったと同様な作用を呈することとなる。すなわち、乾燥速度を制御することで、実質的に作用する無機微粒子の粒径を制御することができ、やはり上述したように、溶剤及び／又は（メタ）アクリレート系化合物のトリアセチルセルロース基材への浸透度との関係で、拡散反射強度を制御することにつながる。
乾燥によりハードコート層形成用組成物は乾燥塗膜となり、これに光照射を行い、ハードコート層が形成される。
本発明の光照射における光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。本発明においては、ハードコート層形成用組成物に含まれる上記必須成分の（メタ）アクリレート系化合物が反応性官能基を有し、塗膜中のほぼ全成分が架橋するため、低いエネルギーでも有効に硬化させることが可能である。例えば、エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ2とすることができる。
その結果、短時間硬化が可能となり、生産効率を高めることが可能である。また、電子線硬化の場合には、１００ｋｅＶ〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。
本発明の光照射における光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。
エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2程度である。本発明においては、ハードコート層形成用組成物に含まれる上記必須成分の（メタ）アクリレート系化合物が反応性官能基を有し、塗膜中のほぼ全成分が架橋するため、低いエネルギーでも有効に硬化させることが可能である。例えば、エネルギー線源の照射量は、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、５０〜１５０ｍＪ／ｃｍ2とすることができる。
その結果、短時間硬化が可能となり、生産効率を高めることが可能である。また、電子線硬化の場合には、１００ｋｅＶ〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。なお、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。
後述する実施例において行った評価方法は以下のとおりである。
（１）干渉縞
フナテック（株）製の干渉縞検査ランプ（Ｎａランプ）を用い、目視にて検査し、下記基準で評価した。
○：干渉縞の発生がほとんど見られなかったもの
×：干渉縞がはっきり見えたもの
（１）干渉縞
フナテック（株）製の干渉縞検査ランプ（Ｎａランプ）を用い、目視にて検査し、下記基準で評価した。
○：干渉縞の発生がほとんど見られなかったもの
×：干渉縞がはっきり見えたもの
（２）鉛筆硬度
得られた光学積層体のハードコート層表面の鉛筆硬度をＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）に準じて評価した。４Ｈの鉛筆を用いて、５００ｇ荷重で５本線を引きその後のハードコート層の傷の有無を目視し下記の基準にて評価した。
＜評価基準＞
評価◎：傷は０〜１本であった。
評価○：傷は２〜３本であった。
評価×：傷は４〜５本であった。
得られた光学積層体のハードコート層表面の鉛筆硬度をＪＩＳＫ５６００−５−４（１９９９）に準じて評価した。４Ｈの鉛筆を用いて、５００ｇ荷重で５本線を引きその後のハードコート層の傷の有無を目視し下記の基準にて評価した。
＜評価基準＞
評価◎：傷は０〜１本であった。
評価○：傷は２〜３本であった。
評価×：傷は４〜５本であった。
（３）カール性試験
ハードコートフィルムを１０×１０cmの大きさに切り取ったシートをハードコート層を上にして平らなところに置いて、両端の浮き上がり状態を観察し、平面からの４角の浮いた高さの平均値を測定することで評価した。
＜評価基準＞
評価◎：３０ｍｍより少なかった。
評価○：３０〜５０ｍｍであった。
評価×：５０ｍｍを超えた。
ハードコートフィルムを１０×１０cmの大きさに切り取ったシートをハードコート層を上にして平らなところに置いて、両端の浮き上がり状態を観察し、平面からの４角の浮いた高さの平均値を測定することで評価した。
＜評価基準＞
評価◎：３０ｍｍより少なかった。
評価○：３０〜５０ｍｍであった。
評価×：５０ｍｍを超えた。
（４）クラック発生曲率
１０×２ｃｍの大きさに切り取ったハードコートフィルムを、ハードコート面を上にして曲率のある円柱に巻きつけ、ひび割れが発生し始める曲率直径を測定することで評価した。
＜評価基準＞
評価◎：１０ｍｍより少なかった。
評価○：１０〜２０ｍｍであった。
評価×：２０ｍｍを超えた。
１０×２ｃｍの大きさに切り取ったハードコートフィルムを、ハードコート面を上にして曲率のある円柱に巻きつけ、ひび割れが発生し始める曲率直径を測定することで評価した。
＜評価基準＞
評価◎：１０ｍｍより少なかった。
評価○：１０〜２０ｍｍであった。
評価×：２０ｍｍを超えた。
実施例１
（１）ハードコート層形成用組成物の調製
以下の各成分を混合し、溶剤で固形分５０質量％に調整し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
＜ハードコート層形成用組成物の組成＞
・（メタ）アクリレート系化合物（１）：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０、分子量２９８、光硬化性基数３）：１３質量部
・（メタ）アクリレート系化合物（２）：多官能ウレタンアクリレート（新中村化学製、ＮＫオリゴ Ｕ１５ＨＡ、官能基数１５、分子量２３００）：１３質量部
・反応性シリカ（日産化学社製、製品名：MIBK-SD、平均一次粒径１２ｎｍ、固形分３０％、MIBK溶剤、反応性官能基：メタクリレート）：２２質量部
・溶剤１．（酢酸メチル）：３０質量部
・溶剤２．メチルエチルケトン（MEK）：２０質量部
・光重合開始剤：（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュアー１８４）：２質量部
（１）ハードコート層形成用組成物の調製
以下の各成分を混合し、溶剤で固形分５０質量％に調整し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
＜ハードコート層形成用組成物の組成＞
・（メタ）アクリレート系化合物（１）：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０、分子量２９８、光硬化性基数３）：１３質量部
・（メタ）アクリレート系化合物（２）：多官能ウレタンアクリレート（新中村化学製、ＮＫオリゴ Ｕ１５ＨＡ、官能基数１５、分子量２３００）：１３質量部
・反応性シリカ（日産化学社製、製品名：MIBK-SD、平均一次粒径１２ｎｍ、固形分３０％、MIBK溶剤、反応性官能基：メタクリレート）：２２質量部
・溶剤１．（酢酸メチル）：３０質量部
・溶剤２．メチルエチルケトン（MEK）：２０質量部
・光重合開始剤：（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュアー１８４）：２質量部
（２）光学積層体の製造
光透過性基材としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（コニカミノルタ（株）製、商品名：ＫＣ４ＵＹ、厚さ４０μｍ）を用い、当該基材上にスロットダイコーターを用いて、上記ハードコート層形成用組成物を、塗布速度２０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量８０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得た。ＴＡＣ基材のハードコート層側には厚み９μｍの浸透層が形成されていた。
光透過性基材としてトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（コニカミノルタ（株）製、商品名：ＫＣ４ＵＹ、厚さ４０μｍ）を用い、当該基材上にスロットダイコーターを用いて、上記ハードコート層形成用組成物を、塗布速度２０ｍ／ｍｉｎにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を３０秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いでその塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量８０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得た。ＴＡＣ基材のハードコート層側には厚み９μｍの浸透層が形成されていた。
（３）低屈折率層の形成
以下の各成分を混合し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
＜低屈折率層用組成物の組成＞
・中空シリカ微粒子（平均１次粒径５０ｎｍ、空隙率４０％）：１５．０質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ３０、分子量３００、光硬化性基数３）：１．０質量部
・フッ素樹脂（共栄社化学（株）製、商品名：ＬＩＮＣ−３Ａ）：１．０質量部
・溶剤メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：８３．０質量部
・光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュアー１２７）：０．１質量部
以下の各成分を混合し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
＜低屈折率層用組成物の組成＞
・中空シリカ微粒子（平均１次粒径５０ｎｍ、空隙率４０％）：１５．０質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ３０、分子量３００、光硬化性基数３）：１．０質量部
・フッ素樹脂（共栄社化学（株）製、商品名：ＬＩＮＣ−３Ａ）：１．０質量部
・溶剤メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：８３．０質量部
・光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュアー１２７）：０．１質量部
上記で得られた光学積層体のＨＣ層上に、上記低屈折率層用組成物を前記と同様にスロットダイコーターを用いて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を乾燥後、紫外線照射を行い、乾燥膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、ＴＡＣ基材上に、反射防止機能部として当該ＴＡＣ基材側からハードコート層兼高屈折率層及び低屈折率層の２層を有する反射防止フィルムを作製した。
実施例２
実施例１のハードコート層形成用組成物の組成において、（メタ）アクリレート系化合物（１）をジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡ、分子量５２４、光硬化性基数６）を９質量部、（メタ）アクリレート系化合物（２）として実施例１と同一のＵ−１５ＨＡを９質量部に変更し、無機微粒子としてＭＩＢＫ−ＳＤを３０質量部としたハードコート層形成用組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側には、厚み１２μｍの浸透層が形成されていた。
実施例１のハードコート層形成用組成物の組成において、（メタ）アクリレート系化合物（１）をジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡ、分子量５２４、光硬化性基数６）を９質量部、（メタ）アクリレート系化合物（２）として実施例１と同一のＵ−１５ＨＡを９質量部に変更し、無機微粒子としてＭＩＢＫ−ＳＤを３０質量部としたハードコート層形成用組成物を用いた以外は実施例１と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側には、厚み１２μｍの浸透層が形成されていた。
実施例３
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、（メタ）アクリレート系化合物（２）として日本合成化学工業社製のウレタンアクリレート：ＵＶ１７００Ｂ(重量平均分子量２０００、官能基数１０)を用いた以外は実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み５．２μｍの浸透層が形成されていた。
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、（メタ）アクリレート系化合物（２）として日本合成化学工業社製のウレタンアクリレート：ＵＶ１７００Ｂ(重量平均分子量２０００、官能基数１０)を用いた以外は実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み５．２μｍの浸透層が形成されていた。
比較例１
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡおよびＵ−１５ＨＡを共に１３質量部、無機微粒子を２２質量部、溶剤に酢酸メチルを用いることなく、メチルエチルケトン４０質量部及びメチルイソブチルケトン１０質量部とした以外は実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み４．３μｍの浸透層が形成されていた。
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡおよびＵ−１５ＨＡを共に１３質量部、無機微粒子を２２質量部、溶剤に酢酸メチルを用いることなく、メチルエチルケトン４０質量部及びメチルイソブチルケトン１０質量部とした以外は実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み４．３μｍの浸透層が形成されていた。
実施例４
実施例１のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０を９質量部、（メタ）アクリレート系化合物（２）として、分子量１９４７のアクリレートであるＤＰＣＡ１２０（日本化薬(株)社製、官能基数１２）を９質量部、無機微粒子ＭＩＢＫ−ＳＤを３０質量部、反応性溶剤に酢酸メチル２０質量部、メチルエチルケトン３０質量部とした以外は実施例１と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み７μｍの浸透層が形成されていた。
実施例１のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０を９質量部、（メタ）アクリレート系化合物（２）として、分子量１９４７のアクリレートであるＤＰＣＡ１２０（日本化薬(株)社製、官能基数１２）を９質量部、無機微粒子ＭＩＢＫ−ＳＤを３０質量部、反応性溶剤に酢酸メチル２０質量部、メチルエチルケトン３０質量部とした以外は実施例１と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み７μｍの浸透層が形成されていた。
実施例５
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡおよびＵ−１５ＨＡを共に１３質量部、無機微粒子として五酸化アンチモン（日揮触媒化成株式会社製、Ｖ４５６２、平均一次粒径２０ｎｍ、固形分３０％、MIBK溶剤、反応性官能基：メタクリレート）：１５質量部に変更した他は、実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み６μｍの浸透層が形成されていた。
実施例２のハードコート層形成用組成物の組成において、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＤＰＨＡおよびＵ−１５ＨＡを共に１３質量部、無機微粒子として五酸化アンチモン（日揮触媒化成株式会社製、Ｖ４５６２、平均一次粒径２０ｎｍ、固形分３０％、MIBK溶剤、反応性官能基：メタクリレート）：１５質量部に変更した他は、実施例２と同様にして、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、乾燥膜厚８μｍのハードコート（ＨＣ）層を有する光学積層体を得て、反射防止フィルムを作製した。ＴＡＣ基材のハードコート層側に厚み６μｍの浸透層が形成されていた。
上記実施例、比較例の反射防止フィルム付光学積層体の構成及び評価結果について表１に示す。
実施例１〜５で得られた反射防止フィルムは、干渉縞が観察されず、全ての評価において優れており、優れた反射防止特性を有し、優れた耐擦傷性を有するものであった。
一方、ＴＡＣ基材への浸透層厚み４．３μｍの比較例１では、干渉縞が観察され、カール性、クラック発生曲率が劣ることが確認された。
一方、ＴＡＣ基材への浸透層厚み４．３μｍの比較例１では、干渉縞が観察され、カール性、クラック発生曲率が劣ることが確認された。
本発明によれば、高硬度で、干渉縞の発生がなく、低カール性及び耐クラック性を備えた光学積層体及びその製造方法を提供することができ、該光学積層体に低屈折率層を積層して、優れた反射防止特性を有する反射防止フィルムを得ることができる。当該反射防止フィルムは、偏光板、画像表示装置に好適に設けられる。
１．１０ 光学積層体
２． 光透過性基材
３． ハードコート層
４． 浸透層
５． 浸透層上限境界層１
６． 境界層下限境界層２
７． 低屈折率層
Ｔｐ． 浸透層厚み
２． 光透過性基材
３． ハードコート層
４． 浸透層
５． 浸透層上限境界層１
６． 境界層下限境界層２
７． 低屈折率層
Ｔｐ． 浸透層厚み
Claims (6)
- 光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、及び（メタ）アクリレート架橋物を含み、
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート架橋物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体。 - 光透過性基材及び前記光透過性基材上に設けられたハードコート層を有する光学積層体であって、
前記光透過性基材はトリアセチルセルロース基材であり、前記ハードコート層は、無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物によって形成されてなる樹脂層であり、
前記光透過性基材のハードコート層側に、厚み５μｍ〜１５μｍのトリアセチルセルロース基材に（メタ）アクリレート系化合物が浸透した浸透層を有することを特徴とする光学積層体。 - 前記（メタ）アクリレート系化合物として、重量平均分子量の異なる２種類以上の（メタ）アクリレートを混合してなる請求項２に記載の光学積層体。
- 前記無機微粒子が反応性シリカである請求項1〜３のいずれかに記載の光学積層体。
- 前記無機微粒子が五酸化アンチモンである請求項1〜３のいずれかに記載の光学積層体。
- (i)トリアセチルセルロースからなる光透過性透明基材を準備する工程、
(ii)無機微粒子、（メタ）アクリレート系化合物、及び酢酸メチルを含有する浸透性溶剤を含んでなるハードコート層形成用組成物を準備する工程、
(iii)当該光透過性透明基材の一方の面にハードコート層形成用組成物を塗布し、塗膜とする工程、
(iv)前記(iii)工程で得られた塗膜を３０〜１２０℃で２０〜１８０秒間熱風乾燥する工程、
（ｖ）前記(iv)工程で得られた乾燥塗膜に光照射を行い硬化させ、ハードコート層を形成する工程、
を含むことを特徴とする光学積層体の製造方法。
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