JP2013139104A - 複合材およびコーティング組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明による複合材は、基材と、前記基材の表面に形成された、第一の材料と第二の材料と第三の材料とを含んでなる表面層とを備えてなり、第一の材料が光触媒材料であり、第二の材料がCr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される金属を含有する酸化物、無機塩および有機塩からなる群から選択される化合物であり、第三の材料がシリカ、アルカリシリケートおよび無定形チタニアからなる群から選択される化合物であり、任意成分としてのアルミナを含んでなり、第一の材料が0〜20質量%、第二の材料が35〜60質量%、第三の材料が10〜65質量%、アルミナが0〜10質量%配合されてなる。
【選択図】なし
Description
従って、本発明は、多量の水(雨水)と接触した場合には十分なセルフクリーニング性能を発揮し、一方、水(雨水)が少量の場合にも、表面に堆積した砂塵などからなる線状の汚れを生じさせない複合材の提供をその目的としている。
前記表面層が、第一の材料と第二の材料と第三の材料とを含んでなり、
前記第一の材料が、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、結晶性酸化タングステン、および非晶質酸化タングステンからなる群から選択される少なくとも一種の光触媒材料であり、
前記第二の材料が、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記第三の材料が、シリカ、アルカリシリケート、および無定形チタニアからなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
さらに、任意成分としてのアルミナを含んでなり、
前記第一の材料の質量と前記第二の材料の酸化物換算量と前記第三の材料の酸化物換算量と前記アルミナの質量和に対して、
前記第一の材料が0質量%超過20質量%未満、
前記第二の材料が、その酸化物換算量で35質量%超過60質量%以下、
前記第三の材料が、その酸化物換算量で10質量%超過65質量%未満配合されてなり、そして
アルミナが0質量%以上10質量%以下配合されてなることを特徴とするものである。
本明細書において、部材にかかる水(雨水)が少量であるときに、表面に堆積した砂塵などの汚れが十分に洗い流されず、線状の跡が残り、外観不良の原因となる汚れを、「なめくじ汚れ」と称することがある。この線状の跡が、ナメクジが残す跡のように見えるからである。
本発明による複合材は、基本的に、基材と、この基材の表面に形成された表面層とを備えてなる。そしてこの複合材は、多量の水(雨水)と接触した場合には十分なセルフクリーニング性能を発揮し、一方、水(雨水)が少量の場合にも、なめくじ汚れが生じない。なめくじ汚れは、部材の表面に付着した水滴が滑落する際に、表面に堆積した砂塵などをその水滴が引きずり、その後に表面に残った砂塵を十分に洗い流すほどの水(雨水)が供給されないことにより生じるものと考えられる。そして、本発明にあって、後記する組成の表面層の表面では、水が付着すると直ちに表面において広がらずに、水滴の形態で、かつ重力等の外力に抗して滑落せずに表面に留まる(以下、本明細書においてこれを「水滴保持性能」ということがある)。しかし、水がさらに供給されて複数の水滴が会合したときには、水滴の形態はくずれ、表面層の表面に水は濡れ広がり、かつ重力等の外力により下方に流れ落ちる。その際に、水が汚れを表面から洗い流し、表面が清浄となる(以下、本明細書においてこれを「水膜形成性能」ということがある)。
本発明において、複合材の表面層は、第一の材料、第二の材料、および第三の材料を含んでなる。
本発明において、第一の材料は、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、結晶性酸化タングステン、および非晶質酸化タングステンからなる群から選択される少なくとも一種の光触媒材料である。これら光触媒材料は、波長350〜500nmの光で励起される光触媒からなる。本発明の好ましい態様によれば、これらの光触媒材料のうち、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、およびブルッカイト型酸化チタンが好適に使用できる。これらの酸化チタンは無毒であり、化学的安定性にも優れる。
本発明において、第二の材料は、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、好ましくは、ZrまたはHfを含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物である。
本発明による複合材の表面層は、第一の材料および第二の材料に加えて、第三の材料を含むことができる。ここで、第三の材料とは、シリカ、アルカリシリケート、および無定形酸化チタンからなる群から選択される少なくとも一種である。この第三の材料は、親水性材料である。したがって、第一の材料である光触媒を励起するための光が少ない時(例えば曇天の場合や適用部位の日照時間が短い場合や、内装材として適用した場合など)に親水性を補助する機能を有する。また、これらの材料は第一の材料である光触媒材料よりも親水性が弱く、かつ、第二の材料よりも親水性が強いため、第二の材料の配合量を低く抑えることができる。さらに、これらの第三の材料は、第一の材料である光触媒材料を基材の表面に固定する機能も有する。これら第三の材料は、所望の水濡れ特性(水滴保持性能と水膜形成性能)を妨げることなく、表面層の基材との密着性や強度、耐久性、耐候性の向上といった諸特性の向上に寄与する。
本発明による複合材の表面層は、任意成分としてアルミナを含むことが出来る。アルミナは含まないことが好ましく、含んだとしても、その配合量は、第一の材料の質量と第二の材料の酸化物換算量と第三の材料の酸化物換算量とアルミナ自身との質量和に対して、0質量%以上10質量%以下である。本発明の一つの態様によれば、アルミナは第三の成分よりも少なく配合することが好ましい。
本発明による複合材の表面層は、必要に応じて、上記第一〜第三の成分以外の任意成分を含むことができる。任意成分の例としては、顔料、充填剤、光安定剤、染料等が挙げられ、それぞれの目的に応じて選択、組み合わせて、所望の水濡れ特性(水滴保持性能と水膜形成性能)を妨げない程度に配合することができる。
本発明による複合材が有する水滴保持性能と水膜形成性能とは、なめくじ汚れを防止しながら、セルフクリーニング性能を発揮するものであるが、これら性能を具体的に評価する方法として、以下の二つの方法がある。
0点:水滴の滑落が2cm未満
1点:2cm以上水滴が滑落した
2点:4cm以上水滴が滑落した
3点:6cm以上水滴が滑落した
4点:8cm以上水滴が滑落した
5点:10cm以上水滴が滑落した
本発明による複合材は、好ましくは、5箇所におけるポイントの合計点が20点以下を示し、より好ましくは5点以下であり、より好ましくは0点である。
本発明による複合材を形成する基材は、セルフクリーニングの性能が求められ、またなめくじ汚れの防止が望まれる材料である。基材は平面または曲面を有する材料であることができ、その材質は、例えば、金属、セラミック、ガラス、プラスチック、ゴム、石、セメント、コンクリート、繊維、布帛、木、紙、それらの組合せ、それらの積層体、それらの表面に塗装を施したものであってよい。具体的には、建物の外装材または内装材といった建材が好ましい例として挙げられる。特に、立面に利用する建材が対象として好ましい。本発明による複合材を外装材として用いた場合、雨が当たる環境下で使用される。本発明によれば、なめくじ汚れが防止されるので、庇の下や軒の下など、雨が十分に当たり難い部位に好ましく利用できる。内装材としては、結露水が表面で凝縮するような部位に適用できる。
本発明によれば、上述の本発明による複合材を製造するためのコーティング組成物が提供される。このコーティング組成物は、基本的に、上述の第一の材料、第二の材料と、第三の材料と、アルミナ等の任意成分と、そして溶媒とを含んでなる。
本発明による複合材は、上述のコーティング組成物を用いて好ましく製造することが出来る。具体的には、上述のコーティング組成物を基材表面に塗布した後、(a)基材表面を300℃以下で加熱する、(b)常温で乾燥させる、または(c)基材表面を300超過1000℃未満で2〜60秒間加熱することのいずれかの方法で好ましくは形成される。いずれの製造方法においても、加熱しないか、比較的低温の加熱条件が、あるいは短時間での加熱条件とすることで、所望の水ぬれ特性(水滴保持性能と水膜形成性能)を十分に発現する表面層を得ることができる。
コーティング液の原料として以下のものを用意した。
第一の材料
・光触媒性酸化チタン(水性アナターゼ型酸化チタンゾル):平均粒径22nm 固形分含有率0.3%
第二の材料
・酸化ジルコニウム(水性アモルファスジルコニアゾル):固形分含有率7.2%
第三の材料
・シリカ(水性コロイダルシリカ):平均粒径10nm 固形分含有率30%
界面活性剤
・シリコン系界面活性剤
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、0.5:49:50.5とした。
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、1:49:50とした。
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、5:49:46とした。
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、5:60:35とした。
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、10:60:30とした。
水性アナターゼ型酸化チタンゾル、水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでTiO2とZrO2とSiO2の質量比は、15:60:25とした。
水性アモルファスジルコニア、水性コロイダルシリカゾル、およびシリコン系界面活性剤を、溶媒としての水に混合して、固形分濃度0.3質量%となるよう調製して光触媒コーティング液を得た。ここでZrO2とSiO2の質量比は、80:20とした。
100mm×200mmのフロートガラス基材を、ガラス基材用研磨剤を用いて研磨し、イオン交換水にて研磨剤を完全に洗い流した。その後、基材を40℃の乾燥機にて30分乾燥させた。上記の実施例1〜14、比較例1〜5のコーティング液を、洗浄したフロートガラス基材にローラーコートし、温度25℃、湿度50%R.H.にて1日乾燥した。その後、基材をイオン交換水に2時間浸漬して界面活性剤を溶出させ、40℃の乾燥機にて30分乾燥させて複合材を得た。基材に対するコーティング液の塗布量は8−10g/m2、塗膜の膜厚は20−40nmとなるように複合材の作製を行った。
以上のようにして得られた実施例1〜6および比較例1のコーティング液にて表面層を形成した複合材に、照射強度を1mW/m2に設定したBLBランプ(三共電気社製、製品名 FL20SBL、ピーク波長352nm)にて3日間光照射した。部材表面を地面に対して垂直に傾け、部材表面から10cm離れた所より、蓄圧式スプレー(マルハチ産業社製)にて100mm×200mmの基材全体にイオン交換水を15g噴霧した。評価指標は以下の通りとした。その結果は下記の表1に示されるとおりであった。
A:部材表面の全面に水膜が形成したもの
B:部材表面の一部が水をはじいたもの
C:部材表面の全面が水をはじいたもの
以上のようにして得られた実施例1〜6および比較例1のコーティング液にて表面層を形成した複合材に、照射強度を1mW/m2に設定したBLBランプ(三共電気社製、製品名 FL20SBL、ピーク波長352nm)にて3日間光照射した。部材を、図1に示すように地面より80°傾斜させて立て、部材表面に5箇所にそれぞれマイクロシリンジを用いて15μLの水滴を付着させ、各5箇所の合計得点より水滴滑落性を評価した。評価指標は以下の通りとし、合計得点を求めた。その結果は下記の表1に示されるとおりであった。
0点:水滴の滑落が2cm未満であった。
1点:2cm以上水滴が滑落した。
2点:4cm以上水滴が滑落した。
3点:6cm以上水滴が滑落した。
4点:8cm以上水滴が滑落した。
5点:10cm水滴が滑落した。
以上のようにして得られた実施例1〜6および比較例1のコーティング液にて表面層を形成した複合材に、照射強度を1mW/m2に設定したBLBランプ(三共電気社製、製品名 FL20SBL、ピーク波長352nm)にて3日間光照射した。実施例1〜6および比較例1の部材表面について、水に対する静的接触角を、接触角測定装置(協和界面科学社製、製品名 CA−X150型)を用いて、室温で5μLの水滴を滴下後、5秒後の静的接触角をθ/2法により測定した。その結果は下記の表1に示されるとおりであった。
Claims (13)
- 基材と、前記基材の表面に形成された表面層とを備えてなる複合材であって、
前記表面層が、第一の材料と第二の材料と第三の材料とを含んでなり、
前記第一の材料が、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、結晶性酸化タングステン、および非晶質酸化タングステンからなる群から選択される少なくとも一種の光触媒材料であり、
前記第二の材料が、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記第三の材料が、シリカ、アルカリシリケート、および無定形チタニアからなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
さらに、任意成分としてのアルミナを含んでなり、
前記第一の材料の質量と前記第二の材料の酸化物換算量と前記第三の材料の酸化物換算量と前記アルミナの質量和に対して、
前記第一の材料が0質量%超過20質量%未満、
前記第二の材料が、その酸化物換算量で35質量%超過60質量%以下、
前記第三の材料が、その酸化物換算量で10質量%超過65質量%未満配合されてなり、そして
アルミナが0質量%以上10質量%以下配合されてなる
ことを特徴とする、複合材。 - 前記第一の材料が、走査型電子顕微鏡により20万倍の視野に入る任意の100個の粒子の長さを測定することにより算出される、10nm以上100nm以下の個数平均粒径を有する粒子である、請求項1に記載の複合材。
- 前記第二の材料が、ZrまたはHfを含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物である、請求項1または2に記載の複合材。
- 前記第二の材料が、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含有する、非晶質の酸化物若しくは平均結晶子径10nm未満の酸化物粒子、または無機塩である、請求項1または2に記載の複合材。
- 前記第二の材料が、ZrまたはHfを含有する、非晶質の酸化物若しくは平均結晶子径10nm未満の酸化物粒子、または無機塩である、請求項4に記載の複合材。
- 前記基材が、壁材または窓材である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の複合材。
- 第一の材料と、第二の材料と、第三の材料と、溶媒とを含んでなるコーティング組成物であって、
前記第一の材料が、アナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、結晶性酸化タングステン、および非晶質酸化タングステンからなる群から選択される少なくとも一種の光触媒材料であり、
前記第二の材料が、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfからなる群から選択される少なくとも一種の金属を含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
前記第三の材料が、シリカ、アルカリシリケート、および無定形チタニアからなる群から選択される少なくとも一種の化合物であり、
さらに、任意成分としてのアルミナを含んでなり、
前記第一の材料の質量と前記第二の材料の酸化物換算量と前記第三の材料の酸化物換算量と前記アルミナの質量和に対して、
前記第一の材料が0質量%超過20質量%未満、
前記第二の材料が、その酸化物換算量で35質量%超過60質量%以下、
前記第三の材料が、その酸化物換算量で10質量%超過65質量%未満配合されてなり、そして
アルミナが0質量%以上10質量%以下配合されてなる
ことを特徴とする、コーティング組成物。 - 前記第一の材料が、走査型電子顕微鏡により20万倍の視野に入る任意の100個の粒子の長さを測定することにより算出される、10nm以上100nm以下の個数平均粒径を有する粒子である、請求項7に記載のコーティング組成物。
- 前記第二の材料が、ZrまたはHfを含有する、酸化物、無機塩、および有機塩からなる群から選択される少なくとも一種の化合物である、請求項7または8に記載のコーティング組成物。
- 前記第二の材料が、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ga、Zr、Y、In、およびHfの群から選択される少なくとも1種の金属を含有する、非晶質の酸化物若しくは平均結晶子径10nm未満の酸化物粒子、または無機塩である、請求項7または8に記載のコーティング組成物。
- 前記第二の材料が、ZrまたはHfを含有する、非晶質の酸化物若しくは平均結晶子径10nm未満の酸化物粒子、または無機塩である、請求項7または8に記載のコーティング組成物。
- 請求項7〜11のいずれか一項に記載のコーティング組成物を基材表面に塗布した後、(a)前記基材表面を300℃以下で加熱する、(b)常温で乾燥させる、または(c)前記基材表面を300超過1000℃未満で2〜60秒間加熱することにより表面層を形成することを特徴とする、複合材の製造方法。
- 請求項12に記載の製造方法によって得られた複合材。
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